Articles by Carleen M. Bowers in JoVE

Zacht Lithografische functionalisering en patroonvorming Oxide-vrij silicium en germanium

JoVE 3478 12/16/2011

Carleen M. Bowers¹, Eric J. Toone¹, Robert L. Clark², Alexander A. Shestopalov³

¹Department of Chemistry, Duke University, ²Hajim School of Engineering and Applied Sciences, University of Rochester, ³Department of Chemical Engineering, University of Rochester

Hier beschrijven we een eenvoudige methode voor de patronen oxide-vrij silicium en germanium met reactieve organische monolagen en demonstreren functionalisering van het patroon substraten met kleine moleculen en eiwitten. De aanpak beschermt volledig oppervlakken tegen chemische oxidatie, biedt nauwkeurige controle over de functie morfologie, en biedt direct toegang tot chemisch gediscrimineerd patronen.