Summary
Wir beschreiben die experimentelle Methode nanostrukturierte Oxid Dünnschichten durch Nanosekunde Pulsed Laser Deposition (PLD) abzuscheiden in Gegenwart von einem Hintergrund Gas. Mit dieser Methode Al-dotiertem ZnO (AZO) Filmen, von kompakt bis hierarchisch nano-Baum Wälder strukturiert werden können hinterlegt.
Abstract
Nanosekunde Pulsed Laser Deposition (PLD), in Gegenwart eines Hintergrundes Gas ermöglicht die Abscheidung von Metalloxiden mit abstimmbare Morphologie, Struktur, Dichte und die Stöchiometrie durch eine geeignete Steuerung der Plasmawolke Expansionsdynamik. Diese Vielseitigkeit kann ausgenutzt werden, um Filme aus nanostrukturierten kompakt und dicht ist, um durch eine nanoporöse hierarchische Anordnung von Nanogröße Clustern dadurch herzustellen. Insbesondere beschreiben wir die detaillierte Methode zwei Typen von Al-dotierte ZnO (AZO)-Folien als transparente Elektroden in Solarzellen herzustellen: 1) bei niedrigen O 2-Druck, kompakte Folien mit elektrischer Leitfähigkeit und optische Transparenz nahe dem Stand der Technik transparente leitfähige Oxide (TCO) kann bei Raumtemperatur aufgebracht werden, um die Kompatibilität mit thermisch empfindliche Materialien wie Polymere in der organischen Photovoltaik (OPV) verwendet; 2) hoch Lichtstreuung hierarchischen Strukturen ähnlich einem Wald von nano-Bäume sind Produkteuced bei höheren Drücken. Solche Strukturen weisen eine hohe Haze-Faktor (> 80%) und kann genutzt werden, um das Licht Fähigkeit zum Einfangen zu verbessern. Das Verfahren hier für AZO beschriebenen Folien können an anderen Metalloxiden, die für technische Anwendungen, wie TiO 2, Al 2 O 3, WO 3 und Ag 4 O 4 eingesetzt werden.
Introduction
Pulsed Laser Deposition (PLD) beschäftigt Laserablation eines festen Target, das in der Bildung eines Plasmas des abgetragenen Spezies, die auf einem Substrat, um einen Film (siehe Abbildung 1) 1 wachsen abgeschieden werden kann resultiert. Interaktion mit dem Hintergrund Atmosphäre (inert oder reaktiv) kann verwendet werden, um eine homogene Cluster Keimbildung in der Gasphase (siehe Abbildung 2) 2,3 induzieren. Unsere Strategie für Material-Synthese durch PLD auf die Abstimmung der Materialeigenschaften in einem Bottom-up-Ansatz durch sorgfältige Kontrolle der Plasma-Dynamik in der PLD-Verfahren erzeugt werden. Cluster-Größe, die kinetische Energie und die Zusammensetzung kann durch eine geeignete Einstellung der Ablagerung Parameter, die Film-Wachstum und Ergebnis in morphologischen und strukturellen Veränderungen 4,5 auswirken variiert werden. Durch die Ausnutzung der hier beschriebenen Methode haben wir gezeigt, für eine Reihe von Oxiden (z. B. WO 3, Ag 4 O 4, Al 2 O 3 einnd TiO 2), die Fähigkeit, Morphologie abzustimmen, Dichte, Porosität, Grad der strukturellen Ordnung, Stöchiometrie und Phase durch Modifizieren des Materials nanoskalige Struktur 6-11. Dies erlaubt die Konstruktion von Materialien für bestimmte Anwendungen 12-16. Mit Bezug auf Photovoltaik-Anwendungen, wir nanostrukturierte TiO 2 hierarchisch nach der Montage Nanopartikel (<10 nm) in einem Nano-und Mesostruktur, die ein "Wald von Bäumen '13 zeigt interessante Ergebnisse, wenn sie als Photoanoden in Farbstoff Solarzellen eingesetzt ähnelt (DSSC organisiert synthetisiert ) 17. Basierend auf diesen früheren Ergebnisse, die wir beschreiben das Protokoll für die Abscheidung von Al-dotierte ZnO (AZO)-Folien als transparentes leitfähiges Oxid.
Transparente leitfähige Oxide (TCO) sind hoch Bandlücke (> 3 eV) Materialien in Leitern durch starke Dotierung umgewandelt, Anzeigen Widerstand <10 -3 Ohm-cm und mehr als 80% optische Abschaltung derttance im sichtbaren Bereich. Sie sind ein wesentlicher Bestandteil für viele Anwendungen wie Touchscreens und Solarzellen 18-21 und sie werden typischerweise durch verschiedene Techniken, wie Sputtern, Pulsed Laser Deposition, chemische Dampfabscheidung, Sprühpyrolyse und mit Lösungs-chemischen Methoden gezüchtet. Unter TCOs hat Indium-Zinn-Oxid (ITO) weithin für seine niedrige spezifische Widerstand untersucht, aber hat den Nachteil der hohen Kosten und der geringen Verfügbarkeit von Indium. Forschung bewegt sich nun in Richtung Indium-freie Systeme wie F-dotiertem SnO 2 (FTO), ZnO-Al-dotierten (AZO) und F-dotierten ZnO (FZO).
Elektroden fähig ist, eine intelligente Verwaltung des einfallenden Lichts (Lichteinfang) sind besonders interessant für die Photovoltaik. Um die Möglichkeit zu streuen sichtbares Licht über Strukturen und Morphologien moduliert einer Skala vergleichbar mit der Wellenlänge des Lichts (zB 300-1000 nm), eine gute Kontrolle über die nutzenFilmmorphologie und auf Cluster-Montage Architekturen benötigt wird.
Insbesondere werden wir beschreiben, wie Morphologie und Struktur von AZO Filmen einzustellen. Kompakte AZO hinterlegt bei Niederdruck (2 Pa Sauerstoff) und bei Raumtemperatur wird von niedrigem spezifischen Widerstand (4,5 x 10 -4 Ohm-cm) und sichtbarem Licht transparent (> 90%), die im Wettbewerb mit AZO hinterlegt bei hohen Temperaturen ist aus, während AZO hierarchischen Strukturen werden durch Abtragen bei O 2 Drücken über 100 Pa Diese Strukturen zeigen eine starke Lichtstreuvermögen mit Dunst Faktor bis zu 80% und mehr 22,23 erhalten.
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Protocol
Ein. Untergrundvorbereitung
- Cut 1 cm x 1 cm aus Siliziumsubstraten einem Si-Wafer, ist Silicon gut für SEM Charakterisierung (Draufsicht und Querschnitt).
- Cut 1 cm x 1 cm Glas (Kalk-Natron-, 1 mm dick), ist Glas optimal für optische und elektrische Charakterisierung.
- Wenn Kontakte auf Glassubstraten benötigt werden, können Au Kontakten im Vakuum unter Verwendung einer Maske verdampft werden. Kaution 10 nm Cr als Zwischenschicht zur Haftung von Au, Kaution 50 nm Au verbessern.
- Cut 1 cm x 1 cm Polymerprobe (zB Ethylentetrafluorethylen, ETFE).
- Reinigen Sie die Substrate durch Ultraschallbehandlung in Isopropanol für 5-10 min und spülen in Isopropanol, trocken mit einem N 2-Strom.
2. Laser Alignment und Auswahl der Laser-Parameter
- Warm-up der Nd: YAG-Laser und wählen IV harmonische Emission (266 nm Wellenlänge) mit einem vierten harmonischen Generator (FHG), bestehend aus zwei second harmonische Generatoren (SHG) in Kaskade.
- Montieren Sie eine 2 Gew.%. Al 2 O 3:. ZnO kreisförmigen Target (2 "Durchmesser) auf dem Ziel-Manipulator Richten Sie den Laserpunkt in der Mitte des Ziels, starten Target Rotation und Translation und die maximale vertikale Bereich Prüfen, ob der Laserpunkt nie berührt die externe. Stahlring verwendet werden, um das Ziel zu fixieren. Das Ziel mit einer Rotations-Translationsbewegung zu gleichmäßigen Abtrag der gesamten Zielfläche bewegt haben.
- Wählen Repetitionsrate (z. B. 10 Hz) und Pulsenergie (zB 75 mJ). Passen Pulsenergie und Monitor-Laser Stabilität durch einen Leistungsmesser.
- Bewegen der Fokussierlinse zu einer ausgewählten Position und mit einem Stück empfindlichen Papier an dem Ziel, um die Punktgröße zu messen. Für jede Position der Fokussierlinse Feuer 1-5 Laserschüsse auf dem Papier. Wähle einen Linsenpositionssensor, ein Laserfluenz von etwa 1 J / cm 2 aufweisen.
3. Einrichten PLD eind Auswahl der Deposition Parameter
- Ausrichtung der Substratposition
- Einbinden einer kreisförmigen Papierblatt etwa 2 "Durchmesser als Substrat zur Ausrichtung Tests.
- Bewegen des Substrathalters zu einem Ziel-zu-Substrat-Abstand d TS = 50 mm.
- Starten Abpumpen der Kammer mit Primär-und Turbomolekularpumpen, bis das Vakuum Niveau erreicht 10 -2 Pa
- Wählen Sie einen Gasart (dh Sauerstoff) und stellen Saugvermögen und Gasfluss, um die richtige Gasdruck (siehe Abschnitte 4 und 5). Passen xy-Position des Substrats Manipulator außeraxialen bezüglich des Plume Mitte zu gleichmäßige Filmdicke über eine kreisförmige Korona erhalten.
- Starten Ablation durch Entfernen der Strahl-Stopper / Leistungsmesser. Wenn das Ziel neu ist oder wenn es längere Zeit nicht verwendet wird, ist dieser Pre-Ablation notwendig, um das Ziel zu reinigen.
- Stoppen Ablation, wenn eine Anzahlung auf den pape gesehen werden kannr Blick von einem Ansichtsfenster.
- Bestimmung der Plasmawolke Länge
- Folgen Sie den Schritten 3.1.1. bis 3.1.5, während der Ablation Aufnahmen mit einer Digitalkamera mit 0,5 - 1 sec. Akkumulationszeit die Mittelung über verschiedene Plasma Federn.
- Messen Sie den sichtbaren Plasmawolke Länge von den Bildern unter d TS als Referenz (siehe Abbildung 3).
- Kalibrierung der Filmdicke
- Bewegen Sie das Substrat weit vom Ziel (dh 100 mm und mehr) und bewegen Sie den Quartz Micro-Balance (QCM) in einem Abstand gleich d TS aus dem Ziel.
- Kaution 1000 Laserschüsse (dh 1 '40'') und messen die aufgebrachte Masse Wert, dann bewegen Sie den QCM entfernt.
- Montieren Sie ein Si-Substrat, wie in 1.1.
- Abscheiden einer Testprobe (zB 18.000 Laserschüsse, dh 30 ') und verwenden Querschnittsansicht SEM-Bilder zu calibrate die Abscheidungsgeschwindigkeit (nm / Impuls).
4. Ablagerung von Nanoengineered AZO Films
- Montieren Sie die Substrate, wie in Abschnitt 1 auf dem Probenhalter Manipulator mit Klebeband vorbereitet.
- Befolgen Sie die Schritte 3.1.2 - 3.1.3.
- Starten Substratrotation.
- Abscheidung von kompakten Folien AZO
- Einschalten der Ionenkanone und Set-Ionen Energie bei 100 eV, RF-Leistung bei 75 bis 100 W und Ar-Gas auf 20 sccm Fluss (der Druck im Bereich von 10 -2 Pa-Bereich). Saubere Substrate mit Ar + Ionenkanone für 5-10 min. Nach der Reinigungsbehandlung schließen Gaseinlaß und Abpumpen der Kammer auf Argon entfernen.
- Legen Sauerstoff und stellen Saugvermögen und Gasfluss bis 2 Pa Sauerstoff.
- starten Ablation und Kaution für 18.000 Aufnahmen (30 '). Während der Ablation prüfen, ob die Fahne Länge ist die gleiche wie in Schritt 3,2 ermittelt.
- Stop-Ablation, in der Nähe gals Einlass, Abpumpen der Kammer.
- Deposition von hierarchisch strukturierten AZO Filmen
- Legen Sauerstoff und stellen Saugvermögen und Gasfluss zu 160 Pa Sauerstoff.
- starten Ablation und Kaution für 18.000 Aufnahmen (30 '). Während der Ablation prüfen, ob die Fahne Länge ist die gleiche wie in Schritt 3,2 ermittelt.
- Stop-Ablation, in der Nähe Gaseinlass, Abpumpen der Kammer.
- Entlüften Sie die Kammer und entfernen Proben
5. Elektrische und Optische Charakterisierung
- Messung der In-Plane-Transporteigenschaften Verwendung Vier-Sonden-Techniken (dh Van der Pauw Methode). Siehe Abbildung 4 für eine Regelung der Kontakte. Typische Werte der Sonde Strom sind in der 1 uA bis 10 mA-Bereich. Die Messungen über einen Abtastbereich verringert bis 0,7 cm x 0,7 cm, um eine bessere Dickengleichmäßigkeit (ca. 5%) zu gewährleisten, durchgeführt wird.
- Messen Sie die optical Durchlässigkeit der Probe und von den blanken Untergrund. Korrigieren der Spektren für das Substrat Beitrag durch Setzen auf 1 die Intensität an der Glas / Folie-Schnittstelle. Für eine präzise Korrektur Verfahren sicherstellen, dass die Probe mit dem Glassubstrat gegenüber der einfallenden Strahls angeordnet ist. Ermitteln der für sichtbares Licht transparent durch Berechnen der durchschnittlichen Durchlässigkeit im 400-700 nm-Bereich. Verwenden eines 150 mm Durchmesser Ulbrichtkugel, um die gestreute Bruchteil des Lichts zu messen, das Haze Faktor durch Teilen des gestreuten Anteil des insgesamt durchgelassenen Lichtes (dh gestreut und nach vorne übertragen) berechnet werden kann, siehe 5.
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Representative Results
Die Abscheidung von AZO PLD in Sauerstoffatmosphäre produziert kompakte transparente leitfähige Filme bei niedrigen Gasdruck Hintergrund (dh 2 Pa) und mesoporösen Wald-ähnliche Strukturen, die aus hierarchisch montiert Clustern bei hohen Drücken (dh 160 Pa). Das Material wird durch nanokristalline Domänen, deren maximale Größe ist (30 nm) bei 22 2 Pa gebildet.
Aufgrund von Kollisionen zwischen den abgetragenen Spezies und dem Hintergrundgas, variiert die Form und Länge der Plasmasäule signifikant mit der Sauerstoffdruck in der Kammer. (Siehe Schema in Abbildung 2 und Fotografien in Abbildung 3). Als Folge dieser Phänomene können zwei Abscheidung Regimen identifiziert werden: bei geringen Drücken (<10 Pa) Filmwachstum erfolgt in einem Atom-für-Atom, hohe kinetische Energie Abscheidung Mode, was zu kompakten Folien mit einer säulenartigen Struktur orthogonal die Substratoberfläche (Abbildung 6). Bei hohem Druck (> 10 Pa), nanoskaligen Clustern nukleieren in der Gasphase und treffen auf dem Substrat mit geringer kinetischer Energie durch Kollisionen innerhalb der Wolke: die Cluster aufzubauen porösen hierarchischen Strukturen ähnlich einer Nano-Wald (Abbildung 6).
Durchführen der Abscheidung in Sauerstoff auch ermöglicht die Steuerung der Stöchiometrie in der Folie: Bei niedrigen Ablagerungsdrücke eine signifikante Menge an Sauerstoffleerstellen verleiht dem Material Leitungselektronen. Bei einer optimalen Ablagerungsdruck von 2 Pa, wobei die Ladungsträgerbeweglichkeit am höchsten ist, ist elektrische Widerstand etwa 5 x 10 -4 Ω cm. Solches Material konkurrenzfähig ist für den Einsatz als kompakte TCO aufgrund seiner hohen sichtbaren Transparenz (85%, mittlere Wert im Bereich 400-700 nm), trotz der Raumtemperatur Deposition (siehe Abbildung 7).
Bei hohen Drücken, ist die lokale Reihenfolge Stöchiometrie erzielt und das Material istgekennzeichnet durch eine geringe Konzentration an Defekten, die sichtbare Transparenz (> 90%) verbessert. Außerdem maximiert die mesoskalige Porosität von Proben unter hohem Druck gewachsen Lichtstreuung im Wellenlängenbereich von Interesse (300-1000 nm), was zu einer Trübung Faktor (gestreut zu übertragenen Photonen-Verhältnis) von über 85% im Bereich von 400 bis 700 nm (Abbildung 7). Die elektrischen Eigenschaften sind stark Abscheidungsparameter (dh Sauerstoffdruck) verwandt. Der Umzug von kompakt bis nanoporöse Filme, wird eine Erhöhung des spezifischen Widerstandes beobachtet, vor allem aufgrund der geringeren Film-Konnektivität. Als Ergebnis poröse Filme bei Sauerstoffdruck größer als 100 Pa zeigen niedrige Leitfähigkeit (spezifischer elektrischer Widerstand in der Größenordnung von 10 6 Ω cm) gezüchtet und müssen daher weitere Optimierung. Eine unabhängige Kontrolle der Morphologie und stöchio erhalten: Zur Verbesserung der Leitfähigkeit ist eine mögliche Strategie durch Züchten der Filme im gemischten Gas-Atmosphäre (O 2 Ar) dargestelltmetrie. Verwendung von insgesamt Druck von 100 Pa (Ar-Partialdruck von 98 Pa und O 2-Partialdruck von 2 Pa) ermöglicht Films Widerständen in der Größenordnung von 100 Ω cm zu erhalten.
Abbildung 1. Regelung des Impulslasers Abscheidungsvorrichtung.
Abbildung 2. Bildhafte Ansicht des Abscheideprozesses im Vakuum und in Gegenwart von inerten und reaktiven Gasen.
Abbildung 3. Bilder der Plasmawolke bei 2 Pa Sauerstoff (links) und bei 160 Pa Sauerstoff (rechts). Die Ziel zu Substrat beträgt 50 mm.
Abbildung 4. Regelung der Kontakte für Vierpunkt Sonde elektrische Messungen (Van der Pauw).
Abbildung 5. Schematische Darstellung der Messung der Haze-Faktor (H); T die gesamte durchgelassene Licht (vorwärts und gestreuten Durchlicht) und S die gestreute Komponente.
Abbildung 6. Querschnittsbereich SEM Bilder von AZO Filme bei 2 Pa Sauerstoff (links) und 160 Pa Sauerstoff (rechts) für 30 min hinterlegt.
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Abbildung 7. Optische Durchlässigkeit (Mittelwert in der 400 nm - 700 nm-Bereich) und Haze Faktor (oben) und elektrischem Widerstand (unten) in Abhängigkeit von Sauerstoff Hintergrunddruck.
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Discussion
Die Plasma-Plume Form ist eng mit der Ablations-Verfahren verbunden, insbesondere in Gegenwart eines Gases, Überwachung der Plasmasäule durch visuelle Inspektion ist wichtig, um die Abscheidung zu steuern. Beim Aufbringen einer Metalloxidschicht durch Abtragen eines Oxid Target wird Sauerstoff benötigt, um Sauerstoff Verluste während der Ablation zu unterstützen. Bei niedrigeren Sauerstoff-Hintergrund Gasdruck, kann das abgeschiedene Material haben Sauerstoffleerstellen. Dieser Effekt wird durch Erhöhen der Gasdruck verringert. Um Stöchiometrie Morphologie Gasgemischen (: O 2 oder Er: Ar dh O 2) trennen können verwendet werden: Inertgas auf Morphologie, Reaktivgas abzustimmen Zusammensetzung und Stöchiometrie einzustellen. PLD im Vakuum oder bei niedrigen Hintergrund Gasdruck (typischerweise weniger als ein paar Pa) führt meist zu hohe kinetische Energie Abscheidung der abgetragenen Spezies (dh bis zu Hunderten von eV / Atom). Dies kann in der Anhäufung von inneren Spannungen, die schließlich zur Folie führen kann delaminati führenauf. Im Fall von AZO wir gefunden, dass das Substrat Beschuß mit Argonionen (Schritt 4.4.1) vor der Abscheidung fundamentalen um solche Probleme zu vermeiden. Im Gegenteil ist Delaminierung kein Problem für nanoporöse Filme aufgrund der niedrigeren Energiedeposition Regimen vorkommenden bei höheren Gasdrücken Hintergrund und dem entsprechenden Wachstum eines offenporigen Folienstruktur.
Die hier vorgeschlagene Methode kann für andere Metalle und Metalloxide 24 verwendet werden. Einer der kritischsten Parameter, wenn Abtragen in Gegenwart eines Hintergrundgas, ist die relative Position des Substrats in Bezug auf den sichtbaren Plasmawolke Länge. Die sichtbaren Schwaden Länge, wie sie aus digitalen Bildern gemessen werden kann, entspricht der maximale Abstand von der Stoßfront während Plasmaexpansion 25 erreicht. Bedingungen für die Bildung einer Schock vorderen hängen von der abgetragenen Materials Laserfluenz und Gasart und Druck. Der typische plume Form miteine gut definierte Kante, wie zum Beispiel in Figur 3 (rechts) gezeigt, ist ein Beispiel für Stoßfront Formation. Kompakteren Morphologien können durch Auswahl eines Substrat-Target Abstand kürzer als der Rauchfahne Länge, während offener und porösen Schichten mit einem Substrat-zu-Ziel Abstand größer als der Plume Länge 6 erhalten werden erhalten werden.
Mögliche Einschränkungen sind auf die maximale Probenfläche bezogen. Ohne Substrat Bewegung die typische Probe ist bis zu 2 cm x 2 cm. Durch eine geeignete außeraxialen Drehung des Substrathalters, Probenbereiche bis 4 cm x 4 cm oder 3 cm x 3 cm mit einer guten Gleichförmigkeit (Dickenabweichung innerhalb von 10%) 26 kann produziert werden. Ein ähnlicher Gleichmäßigkeit wurde am AZO Filme (dh 10% für 1cmx1cm) erhalten. Die Abscheidungsgeschwindigkeit hängt stark von der Abscheidungsparameter, im vorliegenden Fall die Wachstumsrate der AZO mit einem rotierenden Substrathalter betrug etwa 14 nm / min für kompakte Folien und 50 nm /min für poröse diejenigen. Solche Werte sind mit einem Laser-Wiederholungsrate von 10 Hz verbunden und kann durch eine Größenordnung mit einer 100 Hz Wiederholungsrate erhöht werden. Die Abscheidung erfolgt bei Raumtemperatur durchgeführt, und wir beobachten nicht jedes Substrat Heizung. Dank dieser eine Vielzahl von Substraten verwendet werden, und zusätzlich zu Silizium und Glas wir erfolgreich abgeschieden AZO auf Kunststoff (dh Ethylen Tetrafluorethylen, ETFE) 27. Ein weiteres mögliches Kritikalität ist mit der mechanischen Stabilität der nanoporösen Strukturen verwandt. So abgeschiedenen Proben sollten mit Vorsicht zu berücksichtigen, dass die mechanische Stabilität mit zunehmender den Hintergrund Gasdruck während der PLD verwendet abnimmt verwaltet werden. Im Fall von AZO machte die geringe Stabilität der porösen Filme eine ordnungsgemäße Anlage mit den elektrischen Sonden extrem schwierig. Im Allgemeinen kann die mechanische Stabilität durch thermische Glühbehandlungen bei 400-500 ° C in Luft oder in inerter Gase verbessert werden without wesentlich verändern die gesamte Morphologie, wie sowohl für AZO und TiO2 7,23 gezeigt.
Abschließend unsere Methode ermöglicht es, sowohl kompakt und nanoporöse AZO Filme mit einer Feinsteuerung der strukturellen und morphologischen Eigenschaften hinterlegen. Compact Filme zeigen wettbewerbsfähigen funktionellen Eigenschaften in Bezug auf Transparenz, um das sichtbare Licht und elektrische Leitfähigkeit. Nanoporösen Folien aus in hierarchisch organisierten Strukturen aus der Nano-zur Mikro-Maßstab, ähnlich einem Wald von Bäumen, versichern sehr effizient Streuvermögen des einfallenden Lichts (hohe Trübung factor) eröffnet damit die Möglichkeit, Elektroden mit Lichteinfang Funktionalität zu entwickeln. Das vorgeschlagene Verfahren ist nicht nur auf die Abscheidung von AZO Zusammenhang kann aber auch auf andere Metalle und Oxide angewendet werden. Die Eigenschaften kompakter und poröser Filme können durch Züchten mehrschichtigen Folien oder abgestufte kombiniert werden, um eine Matte zu erhalten mehrfach funktionalisiertenerial.
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Disclosures
Keine Interessenskonflikte erklärt.
Materials
| Name | Company | Catalog Number | Comments |
| Pulsed Laser | Continuum-Quantronix | Powerlite 8010 | |
| Power meter | Coherent | FieldMaxII-TO | |
| Ion Gun | Mantis Dep | RFMax60 | |
| Mass flow controller | Mks | 2179 ° | |
| Quartz Crystal Microbalance | Infcon | XTC/2 | |
| Background gas | Rivoira-Praxair | 5.0 oxygen | |
| Target | Kurt Lesker | (made on request) | |
| Isopropanol | Sigma Aldrich | 190764-2L | |
| Source meter | Keithley | K2400 | |
| Magnet Kit | Ecopia | 0.55T-Kit | |
| Spectrophotometer | PerkinElmer | Lambda 1050 |
References
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