Summary
Dois tipos de superfícies, de aço e poliéster revestidos por poliéster revestido com uma camada de nanopartículas de sílica, foram estudados. Ambas as superfícies foram expostas à luz solar, o que se verificou causar alterações substanciais na química e nanoescala topografia da superfície.
Abstract
Corrosão de superfícies metálicas é prevalente no ambiente e é de grande preocupação em muitas áreas, incluindo as indústrias militares, transporte, aviação, construção e alimentos, entre outros. Poliéster e revestimentos que contêm poliéster e nanopartículas de sílica (SiO 2 NPS) têm sido amplamente utilizados para proteger substratos de aço contra a corrosão. Neste estudo, utilizou raios-X espectroscopia de fotoelétrons, reflexão total atenuada infravermelho micro-espectroscopia, medidas de ângulo de contato com água, profiling óptica e microscopia de força atômica para fornecer uma visão sobre como a exposição ao sol pode causar alterações na micro e nanoescala integridade dos revestimentos. Nenhuma mudança significativa na superfície micro-topografia foi detectada utilizando perfilometria óptica, no entanto, alterações estatisticamente significativas em nanoescala à superfície foi detectado usando microscopia de força atómica. Análise da espectroscopia de fotoelétrons de raios-X e infravermelho micro reflexão total atenuadaespectroscopia de dados revelou que a degradação dos grupos éster tinha ocorrido através da exposição à luz ultravioleta para formar COO ·, -H 2, -O C · · ·, -CO radicais. Durante o processo de degradação, CO e CO2 foram também produzidos.
Protocol
1. As amostras de aço
- Obtenção de amostras de aço de 1 mm de espessura a partir de um fornecedor comercial.
NOTA: As amostras foram revestidas com qualquer poliéster ou de poliéster revestido com nanopartículas de sílica. - Expor amostras à luz solar em Rockhampton, Queensland, Austrália: recolher amostras após intervalos de um ano e cinco anos ao longo de um período total de 5 anos. Cortar painéis de exemplo para discos redondos de diâmetro de 1 cm, utilizando furador.
- Antes de superfície caracterização, lavar as amostras com água bidestilada, em seguida, seque com gás nitrogênio (99,99%). Mantenha todas as amostras em recipientes estanques ao ar para impedir quaisquer contaminantes do ar adsorção à superfície (Figura 1).
Figura 1. Preparação de discos de metal com revestimento à base de poliéster. As amostras foram armazenadas em recipientes, até ser necessário.om / files / ftp_upload / 54309 / 54309fig1large.jpg "target =" _ blank "> Clique aqui para ver uma versão maior desta figura.
2. Chemical e Caracterização físico-química de superfícies
- Analisar a química de superfície usando espectroscopia de fotoelétrons de raios-X.
- Realizar espectrometria de fotoelectrão de raios-X (XPS) utilizando uma fonte de raios-X monocromáticos (Al Ka, hv = 1486,6 eV) operando a 150 W.
NOTA: Tamanho de ponto de feixe de raios X utilizado é de 400 m de diâmetro. - amostras de carga na placa de amostras. Colocar a placa da amostra para dentro da câmara de vácuo de XPS, em seguida, a bomba de câmara. Espere até que o vácuo na câmara até atingir ~ 1 x 10 -9 mbar.
- No software de espectroscopia de fotoelétrons, pressione a opção de "Flood Gun" para inundar as amostras com elétrons de baixa energia para neutralizar carregamento superfície.
- Pressione o botão "Insert"> "Point"> "Point" para inserir um poin análiset.
NOTA: Este será um local no qual a análise é efectuada. Ative a função de altura automática para obter a melhor altura para a aquisição. - Pressione o botão "Insert"> "Spectrum"> "Multi Spectrum" para adicionar verificações a este ponto.
NOTA: Isto irá abrir uma janela com uma tabela periódica; selecionar um elemento, clicando sobre ela para destacá-lo. - Depois de configurar os experimentos, pressionar o comando "Play" para prosseguir os exames.
- Pressione Command "Peak Fit" e pressione "Adicionar Peak" e "serve para todos Nível" comandos para resolver as espécies quimicamente distintas no espectro de alta resolução.
NOTA: Esta etapa irá adquirir o algoritmo de Shirley para remover o fundo e Gaussian-Lorentzian apropriado para deconvolute o espectro 19. - Selecionar tudo alta resolução e examinar espectros. Imprensa opção "Shift Charge" para corrigir espectros usando o hydrocarbon componente da (energia de ligação 285,0 eV) 1s C pico como referência.
- Após a correção da carga, pressione a opção "Exportar" para gerar a tabela de dados da concentração atômica relativa de elementos na base da área de pico.
- Realizar espectrometria de fotoelectrão de raios-X (XPS) utilizando uma fonte de raios-X monocromáticos (Al Ka, hv = 1486,6 eV) operando a 150 W.
- química de superfície
NOTA: Analise química de superfície utilizando infravermelho de reflexão total atenuada micro-espectroscopia (ATR-IR) no infravermelho (IR), espectroscopia de linha de luz no Synchrotron australiano como se segue:- amostras de carga no palco do microscópio. Abra um "Start Video Medição Assistida" ou a opção "Start Medição sem 3D". Ative o modo "VIS" na. Use o objetivo de se concentrar na superfície da amostra. Pressione o botão "Snapshot / Overview" para tomar imagens desejadas.
NOTA: 0,5 mm de espessura da placa CaF 2 pode ser usado como o fundo. - Alterar o objetivo ATR para a amostra. Cuidadosamente mover a fase de colocar um ger 45 ° multi-reflexãomanium cristal (índice de refracção de 4) 1-2 mm acima superfícies. Clique com o botão direito do mouse sobre a janela de vídeo ao vivo. Pressione o botão "Iniciar medição"> "Alterar Parâmetros de Medição". Escolha a opção "Nunca use BG existente para todas as posições".
NOTA: Isto irá optar por não tomar os espectros de fundo para cada ponto de medição. - Desenhar um mapa na tela de vídeo para escolher a área de interesse. Pressione um quadrado vermelho de abertura e escolha "Aperture"> "Alterar abertura". Alterar as configurações reais "Knife Edge Aperture" para X = 20 mm e Y = 20 mm.
- Clique com o botão direito do mouse sobre a praça abertura recém-dimensionado e ir para a "Abertura"> "Definir todas as aberturas para aberturas selecionado". Pressione o ícone "Medição" para iniciar os exames. Guardar os dados.
NOTA: O índice de refracção de Ge cristal é 4, de modo que uma abertura de 20 um x 20 um vão definir o tamanho do ponto de 5 mm x 5 mm. This etapa, será possível ajustar-se o mapeamento de FTIR com uma abertura de 20 por 20 mm, o que corresponde a um 5 mm por 5 mm através do cristal local através de uma gama de número de onda máximo de 4,000-850 cm - 1. - Abrir arquivo mestre usando o software de espectroscopia. Escolha o pico de juros sobre o espectro de IR. Clique com o botão direito do mouse sobre o pico de interesse. Escolha "Integração"> "Integração". Ele permitirá a criação de mapas falsa cor 2D
- amostras de carga no palco do microscópio. Abra um "Start Video Medição Assistida" ou a opção "Start Medição sem 3D". Ative o modo "VIS" na. Use o objetivo de se concentrar na superfície da amostra. Pressione o botão "Snapshot / Overview" para tomar imagens desejadas.
- medições molhabilidade da superfície
NOTA: Meça a molhabilidade usando um goniómetro ângulo de contato equipado com um nanodispenser 19.- Colocar a amostra no palco. Ajustar a posição do conjunto de micro-seringa de modo que a parte inferior da agulha aparece cerca de um quarto de um caminho para baixo na tela de vídeo ao vivo janela.
- Levantar a amostra usando o eixo Z até que a distância entre a amostra e a superfície é de cerca de 5 mm. Mova a seringa para baixo até que uma gota de Duple água destilada toca a superfície. Mover a seringa até à sua posição original.
- Pressione o comando "Executar" para gravar a gota de água impactar na superfície por um período de 20 segundos usando uma câmera CCD monocromática que é integrado com hardware.
- Pressione o comando "Stop" para adquirir a série de imagens.
- Pressione "Contact Angle" comando para medir ângulos de contacto a partir de imagens adquiridas. Repita as medições do ângulo de contato em três locais aleatórios para cada amostra.
3. Visualização de a topografia da superfície
- medição de perfil óptico.
NOTA: O instrumento é operado no modo de varredura interferometria vertical, luz branca.- Colocar as amostras no palco do microscópio.
NOTA: Certifique-se de que há uma lacuna suficiente (por exemplo,> 15 mm) entre a lente objectiva e o palco. - Concentre-se sobre a superfície usando o5 × objetivos de controle z-eixo até que as franjas aparecem na tela. Pressione Command "Auto" para otimizar a intensidade. Imprensa comando "Medição" para iniciar a digitalização. Salve os arquivos mestre.
- Repita o passo 3.1.2 para 20 × e 50 × objetivos.
- Antes de analisar a rugosidade estatística, pressione "Remover Tilt" opção para remover a ondulação da superfície. Imprensa opção "Contour" para analisar os parâmetros de rugosidade. Clique na opção "3Di" para gerar imagens tridimensionais de arquivos de perfis ópticos usando software compatível 20.
- Colocar as amostras no palco do microscópio.
- Força atômica microscópica
- Colocar as amostras em discos de aço. Inserir os discos de aço em suporte magnético.
- Realizar exames AFM no modo 21 escutas. fósforo carga mecanicamente dopado sondas de silício com uma constante de 0,9 N / m, a curvatura da ponta com um raio de 8 nm e uma frequência de ressonância do ~ 20 kHz para geração de imagens da superfície de primavera. <li> ajustar manualmente a reflexão do laser sobre o cantilever. Escolha comando "Auto Tune" e pressione comando "Tune" para ajustar o cantilever AFM para alcançar a frequência de ressonância ideal relatado pelo fabricante.
- Concentre-se na superfície. Mova as pontas perto de superfície da amostra. Clique em Engage comando para envolver pontas de AFM em superfícies.
- Digite "1 Hz" na caixa de velocidade de varredura. Escolha as áreas de digitalização. Pressione o botão "Run" comando para executar a varredura. Repetir a pesquisa, pelo menos, durante dez áreas de cada uma das cinco amostras de cada condição.
- Escolha a opção de nivelamento para processar os dados topográficos resultante. Salve os arquivos mestre.
- Abra o software AFM compatível. Carregar o arquivo mestre AFM. Pressione "Nivelamento" comando para remover a inclinação das superfícies. Pressione "Smoothen" comando para remover o fundo.
- Pressione "Statistical parâmetros de análise" para gerar a rugosidade estatística 21.
4. Análise estatística
- Exprimir os resultados em termos de valor médio e seu desvio padrão. Executar o processamento de dados estatísticos utilizando dois testes de cauda t- pareado de Student para avaliar a consistência dos resultados. Definir valor de p a <0,05 indicando o nível de significância estatística.
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Representative Results
As amostras de aço revestidas que tinham sido sujeitos à exposição à luz solar para qualquer um ou cinco anos foram recolhidos, e de contacto da água medidas do ângulo foram realizados para determinar se a exposição resultou numa mudança na hidrofobicidade de superfície da superfície (Figura 2 ).
Figura 2. variação molhabilidade das superfícies com poliéster ou nanopartículas de sílica / revestimentos de poliéster (sílica / poliéster) mais de cinco anos de exposição à luz solar (A) goniométricos imagens que mostram a gota de água utilizado para medir o ângulo de contacto das superfícies de equilíbrio.; (B) ângulo de contacto da água como uma função do tempo de exposição (* indica p <0,05, em comparação com o controlo correspondente (0 anos)). Os dados representam médias ± desvios-padrão.ource.jove.com/files/ftp_upload/54309/54309fig2large.jpg "target =" _ blank "> Clique aqui para ver uma versão maior desta figura.
Verificou-se que a capacidade de humedecimento do substrato revestido de poliéster não tinha alterado como resultado da exposição à luz solar, no entanto, a nanopartículas de sílica / amostras revestidas de poliéster, após um ano de exposição, foram encontrados para ser 1,3 vezes maior em hidrofobicidade do que o amostras não expostas. Outras análises destas amostras foi realizada utilizando XPS e ATR-FTIR. Uma vantagem de XPS é que esta técnica permite que a composição elementar de uma superfície a ser determinada, a uma profundidade de aproximadamente 10 nm abaixo da superfície. Verificou-se que o teor de Si a esta profundidade tinha aumentado de aproximadamente 2% a 15% ao longo do período de exposição de 5 anos. Este aumento pode ser atribuída à adsorção dos poluentes atmosféricos. A espectros XPS indicado que o ferro (Fe) foi detectado no poliéster revestido por um substratoepois de um a cinco anos de exposição (Figura 3) e que tinha havido uma ligeira diminuição do teor de carbono das amostras revestidas de poliéster após um tempo de exposição de 5 anos. Nenhuma mudança significativa foi encontrada no silício (Si), os níveis de ferro (Fe) e de carbono (C) no substrato de sílica nanopartícula / revestidas de poliéster. XPS não, no entanto, permitir que a funcionalidade especial de os revestimentos de polímero a ser determinado. Como resultado, Synchrotron de origem ATR-IR foi empregue para determinar as alterações na funcionalidade química a uma profundidade de 10 mm para as amostras que tinham sido expostas à luz solar, em particular as alterações que tiveram lugar no número de grupos carbonilo. Verificou-se que o número de grupos carbonilo reduzido, em ambas as amostras de poliéster e revestido de sílica de nanopartículas /-poliéster, depois de cinco anos de exposição.
Figura 3. Elemental composição varição de poliéster (PE) e de sílica nanopartículas / revestimentos de poliéster (PE + SiO 2) ao longo de cinco anos expor à luz solar como determinado usando XPS. (A) representativas XPS ampla espectros e espectros de alta resolução de 1s S, 1S C e Si 2p de Os revestimentos de poliéster antes e após a exposição. (B) A concentração de três elementos (Si, Fe e C) (fracção atómica) foi medida como uma função do tempo de exposição para determinar alterações na composição do revestimento de superfície em elevados níveis de exposição à luz solar em condições húmidas. Por favor clique aqui para ver uma versão maior desta figura.
Figura 4. representativas espectros ATR-FTIR utilizado para a medição de alterações nos grupos de carbonilo sobre os revestimentos de superfícies de aço, depois de três anos de ambiexposição onmental. Mudanças na distribuição de grupos carbonila resultou da quebra induzida pela luz ultravioleta de grupos éster. Por favor clique aqui para ver uma versão maior desta figura.
microscopia óptica e de perfis de força atômica foram ainda utilizadas para investigar a topografia da superfície dos substratos no micro e nano-escala. A evolução topográfico microescala das amostras de poliéster e de sílica nanopartículas / revestido com poliéster é apresentada na Figura 5. Pode ser observado que as superfícies de ambos os revestimentos se tornou mais áspero do que os substratos originais, depois de um ano de exposição, no entanto, este aumento não foi considerado -se estatisticamente significativa (p> 0,05).
Figura 5. MicrO escala alterações topográficas nos revestimentos de poliéster e de nanopartículas de sílica / poliéster sobre o aço ao longo de um período de exposição de cinco anos. (A) imagens ópticas de perfis representativos de revestimentos de aço, antes e após a exposição. (B) O gráfico mostra um aumento da rugosidade média de ambos os revestimentos como uma função do tempo de exposição ambiental (* indica p <0,05, comparado com o seu correspondente controlo (0 anos)). Os dados representam médias ± desvios-padrão. Por favor clique aqui para ver uma versão maior desta figura.
Uma análise mais aprofundada dos substratos destacou que a topografia da superfície em nanoescala foi significativamente alterada como resultado da exposição à luz ultravioleta (figuras 6, 7 e 8). Os revestimentos de nanopartículas de sílica inicial / poliéstereram lisas numa escala nanométrica, no entanto, após a exposição, estes revestimentos ambos foram encontrados para ter formado estruturas globulares. Depois de cinco anos de exposição, as superfícies foram encontrados para exibir uma rugosidade média significativamente maior do que o substrato original, variando 40-47 nm (p <0,05).
Figura 6. nanoescala alterações topográficas para revestimentos de poliéster sobre aço ao longo de um período de exposição de cinco anos. Micrografias de força atômica representativos e seu perfil correspondente superfície, destacando as mudanças topográficas do revestimento de polímero. Por favor clique aqui para ver uma versão maior desta figura.
Figura 7. nanoescala alterações topográficas para nanopa de sílica revestimentos Artigo / poliéster sobre um período de exposição de cinco anos. micrografias de força atômica representativos e seu perfil de superfície correspondente, destacando as mudanças topográficas do revestimento de polímero, apesar da presença da camada de sílica protecção de nanopartículas. Por favor clique aqui para ver uma versão maior esta figura.
Figura 8. A rugosidade média da superfície nanoescala de poliéster e de nanopartículas de sílica / revestimentos de poliéster em aço como uma função do tempo de exposição. A rugosidade média dos revestimentos de superfície aumenta significativamente com o tempo de exposição (* indica p <0,05, comparado com o seu correspondente controlo ( ano 0)). Os dados representam médias ± desvios-padrão.target = "_ blank"> Clique aqui para ver uma versão maior desta figura.
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Discussion
Os revestimentos de poliéster têm sido amplamente utilizados para proteger substratos de aço a partir da corrosão que ocorreria numa superfície não revestidas devido à acumulação de poluentes e de humidade. A aplicação de revestimentos de poliéster pode proteger o aço contra a corrosão; No entanto, a eficácia a longo prazo destes revestimentos é comprometida se eles estão expostos a altos níveis de luz ultravioleta sob condições húmidas, como ocorre em climas tropicais. nanopartículas de sílica pode ser aplicado à superfície do poliéster para aumentar a robustez destes revestimentos no interior destes ambientes, no entanto, o efeito dos factores ambientais sobre estes materiais de revestimento contendo sílica foi, até agora, desconhecido, especialmente no que diz respeito a mudanças na sua micro - e topografia da superfície em nanoescala.
Em muitos casos, a molhabilidade de uma superfície de substrato pode proporcionar uma indicação sobre se qualquer degradação da superfície tenha ocorrido. medições de contacto angulares, no entanto,não fornecer qualquer detalhe sobre as mudanças estruturais físicos e químicos que possam ter ocorrido em uma superfície (Figura 2). XPS e ATR-FTIR são técnicas que permitem mudanças no conteúdo de carbono e carbonilo (C = O) distribuição de funcionalidade a ser determinado.
Os resultados obtidos neste estudo sugerem que a exposição à luz solar faz com que a degradação dos revestimentos de poliéster. Um mecanismo proposto para esta degradação é dado na Figura 9, 22,23. Os grupos éster podem ser degradados radicalmente através da exposição à luz ultravioleta para formar radical -COO ·, -H 2 · C, -O ·, -CO ·. Durante o processo de degradação, CO e CO2 são produzidos.
Figura 9. Pretende-degradação pela luz ultravioleta catalisada de poliéster. De acordo com a exposição à luz solar, os grupos éster presentes no poliésterformado espécies de radicais para formar o álcool estável, aldeído, grupos de ácido carboxílico com a eliminação de monóxido de carbono e dióxido de carbono. Por favor clique aqui para ver uma versão maior desta figura.
Para além da degradação química dos revestimentos, não foram observadas alterações na topografia da superfície dos revestimentos, mas apenas em nanoescala. Em estudos anteriores, a irradiação de luz ultravioleta também foi relatado para ter modificado significativamente a topografia da superfície nanoescala de superfícies de polímeros 24-26. Aqui, verificou-se que a topologia da superfície tinha sido alterado através da formação de estruturas globulares em nano-escala (Figuras 6 e 7).
XPS pode fornecer uma visão sobre mudanças na química de superfície ao nível de uma parte por milhão. Devido à elevada sensibilidade da técnica, a contaminação das amostraspode ser prontamente detectada e isso pode levar a resultados enviesados. O passo mais importante na preparação das amostras para análise XPS é para garantir que as amostras não desgaseificar ou conter quaisquer partículas que possam danificar o sistema de aspiração do instrumento. Para evitar que isso ocorra, as amostras devem ser limpas com gás nitrogênio e desgaseificado antes de qualquer medição. Esta técnica só proporciona a química global de uma superfície ao longo de algumas centenas de micrómetros, e apenas revela a química da superfície a uma profundidade de ~ 10 nm. Os espectros de alta resolução resultantes permitir que as espécies químicas diferentes existentes em superfícies a ser determinado. XPS é uma ferramenta importante para a investigação de modificações químicas de superfície que pode ocorrer. Uma técnica alternativa para XPS é espectroscopia de raios-X de energia dispersiva (EDX) 27.
microscopia de ATR-IR requer que exista um bom contacto entre o cristal ATR e a superfície a ser analisada devido ao pequeno extension da onda evanescente, que ocorre para além do cristal. microscopia de ATR-IR espacialmente resolve a composição molecular e estrutural de superfícies. Contaminação do cristal ATR também pode causar a ser obtido um sinal de baixa ou resultados tendenciosos. Antes de qualquer experiência, é importante limpar o cristal com isopropanol puro para assegurar que qualquer contaminação cruzada não ocorre. Além disso, o índice de refracção do cristal ATR deve ser significativamente maior do que a da amostra. A espectroscopia de infravermelho (IV) utilizando o método ATR é capaz de ser aplicada para a sistemas biológicos ou químicos que podem ser analisados utilizando o método de transmissão. ATR-IR tem sido amplamente utilizado para monitorizar o desenvolvimento de células eucarióticas. Raman micro-espectroscopia é um método alternativo pelo qual a heterogeneidade química de superfície 28 pode ser determinada.
ângulo de contacto da água goniometria é uma técnica, baseada na equação de Young, determinou-se a hidrofobicidade de um sólido Sseu rosto. Quando se utiliza esta técnica, as amostras devem ser armazenados de forma adequada, de tal modo que qualquer contaminante de adsorção pode ser evitada. Uma limitação desta técnica é que está limitada a superfícies planas. Se este não for o caso, a curvatura na interface sólido / líquido / ar será distorcida e indefinido. Esta técnica é amplamente utilizado para indicar qualquer alteração química que possa ter ocorrido sobre uma superfície, e para determinar a presença de funcionalidades hidrofóbicos e hidrofílicos. O método da placa de Wilhelmy é uma técnica para estimar o grau de molhabilidade 29 alternativa (mas menos facilmente executado).
profiling superfície óptica proporciona uma metrologia não destrutiva e sem contato. O passo mais crítico desta técnica exige que os usuários para iniciar medições no menor ampliação, a fim de definir o plano focal e evitar o contato entre a lente objetiva e da superfície da amostra. profiling óptico só permite a visualização dea topografia de superfície sobre o micro-escala. microscopia de força atómica tem a capacidade de analisar a topografia da superfície do nano-escala para molecular. Operação da AFM requer habilidades específicas e um maior tempo para análise em relação ao perfil óptico. O estudo atual fornece um excelente exemplo onde AFM foi capaz de detectar mudanças na topografia da superfície que não eram evidentes usando perfis óptica. Técnicas alternativas para profiling óptica e AFM são stylus perfis e microscopia eletrônica de varredura, que também pode fornecer a quantificação da arquitetura superfície 27,30.
Um conjunto dessas técnicas de caracterização de superfície pode ser utilizado para investigar as características químicas e topográficos de superfícies poliméricas e metálicas. perfilamento óptica e microscopia de força atómica pode ser usado para examinar as alterações da micro-superfície e a topografia nano-escala. técnicas de caracterização química de superfície, incluindo IR-microscopia e X-ray phoespectroscopia toelectron pode ser utilizado para examinar lateralmente a química da superfície homogeneidade.
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Materials
| Name | Company | Catalog Number | Comments |
| polyester-coated steel silica nanoparticle-polyester coated steel substrata |
BlueScope Steel | Samples provided by company | |
| Millipore PetriSlideTM | Fisher Scientific | PDMA04700 | Storing samples |
| Thermo ScientificTM K-alpha X-ray Photoelectron Spectrometer |
Thermo Fisher Scientific, Inc. | IQLAADGAAFFACVMAHV | Acquire XPS spectra |
| Avantage Data System | Thermo Fisher Scientific, Inc. | IQLAADGACKFAKRMAVI | Analyse XPS spectra |
| A Bruker Hyperion 2000 microscope | Bruker Corporation | Synchrotron integrated instrument | |
| Bruker Opus v. 7.2 | Bruker Corporation | ATR-IR analysis software | |
| Contact angle goniometer, FTA1000c | First Ten Ångstroms Inc., VA, USA | Measuring the wettability of surfaces | |
| FTA v. 2.0 | First Ten Ångstroms Inc., VA, USA | Anaylyzing water contact angle | |
| Optical profiler, Wyko NT1100 | Bruker Corporation | Measure surface topography | |
| Innova atomic force microscope | Bruker Corporation | Measure surface topography | |
| Phosphorus doped silicon probes, MPP-31120-10 | Bruker Corporation | AFM probes | |
| Gwyddion software | http://gwyddion.net/ | Software used to measure optical profiling and AFM data |
References
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