Summary
합성 및 단일 분자 수준에서 순환 고분자의 확산 움직임의 특성에 대한 프로토콜이 제공됩니다.
Protocol
단관 능성 및 이작 용성 폴리 1. 합성 (THF)
- 관능 폴리 (THF)
- 불꽃 2 구 100 ㎖의 둥근 바닥 플라스크를 건조. 진공 및 질소 (3 회)와 플라스크를 입력합니다.
- 플라스크에 증류수 테트라 하이드로 퓨란 (THF) (50 ㎖)를 추가합니다. 20 ℃에서 물을 용기에 플라스크를 놓고, 온도를 평형화.
- 주사기로 플라스크에 메틸 트리 플레이트 (0.5 밀리몰)를 추가합니다. 20 ° C에서 5 ~ 10 분 동안 혼합물을 교반한다.
- 주사기로 플라스크에 N의 페닐 피 롤리 딘 (4-6 당량.)를 추가합니다. 30 ~ 60 분 동안 혼합물을 교반한다.
- 완전히 감압 (약 100 토르)에서 용매를 제거한다. 아세톤 3-5 ml의 잔류 물을 용해. n 개의 헥산 300 ~ 500 ml의에 아세톤 용액을 추가합니다. 침전물을 여과하고, 감압하에 건조.
- 관능 성 폴리 (THF)
- 불꽃 2 구 100 ㎖의 둥근 바닥 플라스크를 건조. 버지니아cuum 질소 (3 회)와 플라스크를 입력합니다.
- 플라스크에 증류수 THF (50 ㎖)를 추가합니다. 20 ℃에서 물을 용기에 플라스크를 놓고, 온도를 평형화.
- 주사기로 플라스크에 트리플 무수물 (0.3 밀리몰)를 추가합니다. 20 ° C에서 5 ~ 10 분 동안 혼합물을 교반한다.
- 주사기로 플라스크에 N의 페닐 피 롤리 딘 (4-6 당량.)를 추가합니다. 30 ~ 60 분 동안 혼합물을 교반한다.
- 완전히 감압 (약 100 토르)에서 용매를 제거한다. 아세톤 3-5 ml의 잔류 물을 용해. n 개의 헥산 300 ~ 500 ml의 아세톤 용액을 추가합니다. 침전물을 여과하고, 감압하에 건조.
2. 페 릴렌의 합성 디이 미드 통합 4 무장 스타 8 모양의 Dicyclic 폴리 (THF)
- 무장 스타 폴리 (THF)
- 이온 교환
- 물, 페 릴렌 테트라 카르 복실 디이 미드의 나트륨 염 (10 ㎎ / ㎖, 150 ㎖)에 녹인다. 디졸브아세톤 관능 폴리 (THF) (160 ㎎ / ㎖, 4 ㎖). 격렬하게 교반 수용액에 아세톤 용액에 적가를 추가합니다. 여과에 의해 형성된 침전물을 수집합니다.
- 회수 된 침전물 (2.1.1.1) 네 배와 위의 절차를 반복합니다.
- 공유 고정
- 톨루엔 얻어진 침전물 (5 ㎎ / ㎖)에 녹인다. 4 시간 동안 용액을 환류시켰다.
- 완전히 감압 (약 100 토르)에서 용매를 제거한다. n은 헥산 / 아세톤 (2/1 부피 / 부피) 실리카 겔 플러그를 통해 잔류 물 필터. 생성물을 침전 빙수 (300-500 mL)에 상기 용액을 추가한다. 여과에 의해 침전물을 수집합니다.
- 이온 교환
- Dicyclic 8 모양의 폴리 (THF)
- 이온 교환
- 물, 페 릴렌 테트라 카르 복실 디이 미드의 나트륨 염 (6 ㎎ / ㎖, 50 ㎖)에 녹인다. (0.5 g을 관능 성 폴리 (THF)을 녹여) 아세톤의 30 ~ 50 ml를한다. 0 ° C에서 격렬하게 교반 수용액에 아세톤 용액에 적가를 추가합니다. 여과에 의해 형성된 침전물을 수집합니다.
- 회수 된 침전물 (2.2.1.1)으로 위의 절차를 반복합니다.
- 공유 고정
- 톨루엔 얻어진 침전물 (0.05 g / L)을 녹인다. 4 시간 동안 용액을 환류시켰다.
- 완전히 감압 (약 100 토르)에서 용매를 제거한다. 부분적으로 잔류 물을 용해 톨루엔을 추가합니다. 다시 침전 N 헥산 300 ~ 500 ml의에.
- n은 헥산 / 아세톤 (2/1 부피 / 부피) 실리카 겔 플러그를 통해 형성된 침전물을 필터링. 다시 침전 물 300 ~ 500 ml의에.
- 폴리스티렌 겔을 사용하는 컬럼 크로마토 그래피 (18)에 의해 형성된 침전물을 정제. 또한, REM에 클로로포름의 용리액 19 분취 겔 투과 크로마토 그래피 (GPC)에 의해 조질 생성물을 정제굴절율 (RI) 및 UV 검출기를 모니터링하여 비켜 부산물.
- 이온 교환
3. 단일 분자 형광 이미징 실험
- 샘플 준비
- 현미경 커버 전표의 청소
- 장소 번호 1.5 24 X 24mm 현미경 커버 염색 항아리에 미끄러 져.
- 15 분의 항아리와 초음파 처리로 1 M 포타슘 하이드 라이드 용액 (100 ㎖)를 추가합니다. 경사 분리하여 수산화 칼륨 용액을 붓고 수회 초순수 커버 슬립을 헹군다. 15 분의 항아리와 초음파 처리로 분광 등급 에탄올 (100 ㎖)를 추가합니다.
- 경사 분리하여 에탄올을 붓고 수회 초순수 커버 슬립을 헹군다. 경사 분리하여 초순수를 주입 한 후, 단계 3.1.1.2를 반복한다.
- 15 분의 항아리와 초음파 처리에 초순수를 추가합니다. 여러 번 초순수 커버 슬립 린스. 플라스틱 핀셋으로 항아리에서 커버 슬립을 꺼내 건조 공기 또는 건조 질소 중 하나에 의해 그들을 건조.
- 중합체 용융물의 샘플을 14, 15의 제조
- 유리 병에 표지되지 않은 선형 폴리 (THF) 100 ㎕를 추가하고는 헤어 드라이어를 이용하여 융점 (약 25 ℃) 이상의 온도로 가열한다.
- 형광 물질이 함유 중합체 (선형, 4- 무장 스타, 환상 또는 8 자형 dicyclic 2.1 2.2 합성)의 클로로포름 (1 ㎖, 10-6 M)을 녹인다. 비 표지 된 선형 폴리 (THF)의 용융물의 100 μL 용액을 1 μL를 추가한다.
- 철저하게 피펫 팁과 샘플을 혼합 한 후, 건조기를 사용하여 샘플을 가열하여 클로로포름을 증발시켰다.
주 :이 형광 혼입 폴리머 10-8 M을 함유하는 표지되지 않은 선형 폴리 (THF)의 용융물을 제공한다. - 샘플의 10 μL 마이크로 피펫 및 D를 사용하여보세요세정 커버 슬립에 그것을 ROP. 샘플의 다른 청소 커버 슬립을 넣고 두 커버 전표 사이의 샘플을 샌드위치.
- 부드럽게 플라스틱 핀셋을 사용하여 샘플을 누릅니다.
- 현미경 커버 전표의 청소
- 와이드 필드 형광 촬상 설정 15
- 반전 현미경의 뒷면 포트에 여기 레이저 (488 nm의) 소개
- 빔 경로에 여기 대역 필터 및 편광자를 삽입한다.
- 빔 확장기에 의해 직경 약 1cm에 빔을 확장합니다.
- 빔 경로에 1/4 파장 판을 삽입한다. 편광자의에 대하여 45도에서 파장 판의 광축을 설정한다. 또는, Berek 보상기를 삽입 및 / 4 λ하는 광학 지연을 설정합니다.
- 빔의 크기를 조정할 여기 빔 경로에 다이어프램을 삽입한다.
- 반전 광 microsco의 후면 포트에 레이저 광을 도입하기 전PE, 집광 렌즈 삽입 (평면 - 볼록 렌즈의 초점 거리를 ≈ 300mm)의 대물 렌즈 중 레이저 빔이 시준 된 위치.
- 필터 큐브에 장착 된 이색 미러를 사용하여 레이저 빔을 반사 한 후, 고 개구 수 (NA)의 대물 렌즈를 통해 샘플에 레이저 광을 도입 (예를 들면, NA 1.3, 100X 배율 오일 침지).
- 대물 렌즈에 목적 히터를 부착하고 30 ° C까지 온도를 설정합니다.
- 거꾸로 현미경의 무대에 샘플을 장착
- 대물 렌즈에 침지 기름 한 방울을 떨어 뜨리고 현미경 상태에서 샘플을 탑재합니다.
- 약 10 ㎛, 시료의 두께가 시료의 바닥 및 상부면의 축 방향 위치를 확인하여 수득되는 것을 보장한다.
- 샘플의 하부 표면 위의 몇 마이크로 미터 현미경의 초점을 조정한다.
- 대물 렌즈의 밖으로 평행 레이저 빔에 편광판을 삽입합니다.
- 편광자 후 파워 미터를 삽입하여 편광판을 투과 한 레이저의 강도를 기록한다. 편광자를 회전시킴으로써 서로 다른 편광 각도로 투과 레이저 파워를 기록한다.
- 전송 레이저 파워 모든 편광 각도에서 일정하지 않으면, 약간의 여기 빔 경로에 삽입 된 1/4 파장 판 또는 Berek 보상기를 회전한다.
- 상수 전송 레이저 출력 될 때까지 단계를 반복 3.2.5.2 및 3.2.5.3은 모든 편광 각도에서 얻을 수있다. 원 편광이 샘플을 얻을 수 있는지 확인합니다.
- 설치 전각 (전자 승산이) 장치 연결 - 전하 (CCD) 카메라
- 현미경의 측면 포트 EM-CCD 카메라를 부착와 T에 연결화상 획득 소프트웨어를 그가.
- 필요한 경우, 장치에 EM-CCD 카메라에 의해 생성 된 트랜지스터 - 트랜지스터 논리 (TTL) 신호를 전송하여 기계적 셔터 또는 여기 빔 경로에 삽입 음향 광 여과기 카메라 노출을 동기화. 대안 적으로, 레이저에 EM-CCD 카메라에 의해 생성 된 TTL 신호를 보내어 레이저 출력으로 상기 카메라 노출을 동기화.
주 : 출력이 입력 전력 트랜지스터 - 트랜지스터 논리에 의해 변조 될 수있는 고체 레이저 (TTL) 신호가 실험에 사용되는 경우에만 후자의 옵션이 적용될 수있다. - 단일 형광 물질의 고품질의 형광 이미지를 얻기 위해 카메라를 제어하는 소프트웨어를 사용하여 CCD 카메라에 EM 이득 (일반적으로 약 300)을 적용한다.
- ROI (region of interest)를 카메라를 제어하는 소프트웨어를 사용하여 (시야의 중심에 통상적으로 128 X 128 픽셀)로 설정한다.
주 :이 imagi 허용용융 샘플 내의 형광 물질이 함유 된 고분자 사슬의 움직임을 시각화에 필요한 프레임 전송 모드, 200 Hz에서 - (100)의 프레임 속도 (NG) 실험.
- 반전 현미경의 뒷면 포트에 여기 레이저 (488 nm의) 소개
- 실험을 실행
- 실험 조건 최적화
- 상기 여기 광의 경로에 삽입 된 진동판을 사용하여 직경 약 20 ㎛, 시료의 조명 영역을 조정한다.
- 수동 여기 빔 경로에 삽입 된 적절한 감광 (ND) 필터를 선택하여 8 mW의 - (4) 시료에 여기 레이저 파워를 설정한다.
참고 : - 2 kW 급 cm -2 샘플에서이 일의 평균 레이저 파워를 제공한다. - 200 Hz에서 - (100)의 프레임 속도로 샘플의 형광 기록 화상. 각 형광 물질이 함유 중합체로부터 얻어지는 형광 강도가 너무 낮 으면, 서서히 제를 사용하여 여기 전력을 증가샘플에서 약 100 mW에 도달 할 때까지 전자 ND 필터.
- 단일 분자 형광 화상의 품질이 여전히 만족스럽지 않으면, 표지되지 않은 폴리 (THF)의 순수 용융물의 형광 화상을 기록하여 샘플에서 형광 불순물을 확인한다. 높은 형광 배경이 관찰되는 경우, 다른 비 표지 폴리 (THF)을 사용합니다.
- 용융물에 형광 물질이 함유 중합체로부터 얻어지는 형광 스폿의 밀도가 공간을 (이 확산 동작의 분석에 오류를 발생) 분리가 너무 높으면 시료까지의 형광 물질이 함유 중합체의 농도를 감소 공간적으로 격리 된 반점이 관찰된다.
- 용융물에 형광 물질이 함유 중합체로부터 얻어지는 형광 스폿의 밀도 (이 이미징 실험의 낮은 처리량을 초래)가 너무 낮은 경우, appropr까지 시료에 형광 물질이 함유 중합체의 농도를 증가형광 현장의 늦었 밀도에 도달한다.
- 용융물의 형광 물질이 함유 중합체로부터 얻어지는 형광 이미지를 흐리게하는 경우, 화상 취득의 프레임 속도를 증가시킨다.
참고 :이 종종 일반적으로, 64 X 64 픽셀의 작은 투자 수익 (ROI)을 필요로한다.
- 실험 조건 최적화
- 이미지 획득
- 실험 조건이 최적화되면 시료가 평형 상태에 도달 할 수 있도록, 한 시간 동안 현미경 무대에 장착 된 샘플을 둡니다.
- 200Hz의 프레임 속도 - 100에 용융 상태의 형광 물질이 함유 된 고분자 1000 형광 이미지 시퀀스 - (500)를 기록한다. 기본 파일 형식은 TIFF 없으면, TIFF 형식으로 모든 이미지 시퀀스를 변환한다.
확산 모션 4. 분석
- 평균 제곱 변위 (MSD) 분석
- 같은 방법으로 형광 이미지 시퀀스 자르기각 이미지 시퀀스는 ImageJ에 같은 단일 잘 집중 확산 형광 물질이 함유 된 고분자 이용한 화상 처리 소프트웨어를 포함하고있다.
- 절단 된 이미지 시퀀스는 10 개 이상의 프레임들을 포함하면, 각각의 시퀀스가 10 프레임으로 구성되도록 복수의 시퀀스로 이미지 시퀀스를 분할.
- 정확하게 화상의 2 차원 가우시안 끼움 각 이미지 시퀀스에서의 분자의 위치를 결정한다.
- 수학 식 20을 이용하여 확산 계수 (D) 각각의 분자 확산 궤적 (분자, 즉, 시간에 따른 위치)의 평균 제곱 변위 (MSD) 분석에 의해 결정을
× 1 및 y i는 이미지 프레임 I의 분자의 위치이고, n은 프레임 전으로부터의 Δt 시간 경과와 프레임 번호를 나타낸다. - 의 확산 계수 플롯주파수 히스토그램.
참고 : 일반적으로, 히스토그램은 100 개 이상의 분자로 구성되어있다.
- 누적 분포 함수 (CDF) 분석
주 : CDF, P (R (2)는 I Δ t) 내가 t δ 일정 시간 지연 후 원점으로부터 반경 (R) 내에 확산 분자를 찾는 누적 확률에 대응한다.- 시간이 4.1.3에서 얻은 모든 확산 궤적에 대한 1Δt, 2Δt, ····, iΔt의 지연 동안 발생 제곱 변위를 계산합니다.
주 : 시간이 iΔt의 지연에 대한 이러한 계산은 총 내가 제곱 - 변위 m를 제공합니다. - 다른 R 2 값에서 R 2보다 작은 총 m의 전 데이터 세트 내에서 제곱 - 변위 (리터 I)의 수를 계산 (0 <R2 <∞). R 2 대 정규화 리터의 난 플롯은 CDF, P (R 2, iΔt)에 해당합니다.
- 시간이 4.1.3에서 얻은 모든 확산 궤적에 대한 1Δt, 2Δt, ····, iΔt의 지연 동안 발생 제곱 변위를 계산합니다.
- 별개의 확산 모델 CDFS 분석
참고 : 얻어진 CDFS는 별개의 확산 모델이 장착되어 있습니다; 균일 확산 모델은 D 분포가 가우시안 (단일 가우시안 모델)에 의해 설명되는 여러 확산 모드, 다중 확산 모드가되는 D 분포 다중 가우시안 (다중 가우시안 모델)에 의해 설명된다.- 균일 확산 모델에서는, 수학 식 21을 사용하여 CDF를 끼워 맞춤으로써, 평균 D를 결정
주 : 방정식에서 벗어나 분자의 이종 확산을 제안한다. - 단일 가우스 모델에서는 15을 사용하여 CDF 피팅하여 가우시안 (F (D))에 의해 기술 D의 확률 분포를 결정
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A, W 및 D는 0 가우스의 크기, 폭 및 중심 어디에. - 더블 가우시안 모델 (14)을 사용하여 CDF를 끼워 맞춤으로써 가우시안 (F (D))에 의해 기술 D 성분 J 번째의 확률 분포를 결정
J는 각각의 확산 성분의 분획, α 및 J와 J w 및 D 0 J이고 가우스 성분 j 번째의 크기, 폭 및 중심이다.
- 균일 확산 모델에서는, 수학 식 21을 사용하여 CDF를 끼워 맞춤으로써, 평균 D를 결정
- 이론적 확률 DISTRI의 계산확산 계수의 bution
참고 : 인해 다른 확산 모델에 대해 계산 된 통계 오류 (P (D) D의 D)에 발생하는 D의 확률 분포; 균일 확산 모델은 D 분포가 가우시안 (단일 가우시안 모델)에 의해 설명되는 여러 확산 모드, 다중 확산 모드가되는 D 분포 다중 가우시안 (다중 가우시안 모델)에 의해 설명된다.- 균일 확산 모델에서는, 수학 식 22를 이용하여 D의 통계적 확률 분포를 계산
N이 확산 궤도 데이터 포인트의 수 (N = 10, 4.1.2 참조)이고, D 0 평균 확산 계수 (CDF를 분석에 의해 측정이 4.2.3.1 참조)이고, D는 실험적으로 얻어진 개별 궤도 용 확산 계수. - 에서단일 가우시안 확산 모델은 수학 식 15를 이용하여 D의 통계적 확률 분포를 계산
F (D)은 CDF 분석에 의해 결정된 D의 확률 분포 (4.2.3.2 참조)이고, D는 0 평균 확산 계수이다합니다 (CDF 분석에 의해 결정 4.2.3.2 참조). - 더블 가우시안 확산 모델에서는, 수학 식 14를 이용하여 D의 통계적 확률 분포를 계산
F (D의 J)은 CDF 분석에 의해 결정된 D (D의 j) 성분 j 번째의 확률 분포를 나타내고 (4.2.3.3 참조), 그리고 D의 0j은 CDF 결정 요소 j 번째 (평균 확산 계수 분석) 4.2.3.3를 참조하십시오.
- 균일 확산 모델에서는, 수학 식 22를 이용하여 D의 통계적 확률 분포를 계산
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Representative Results
페 릴렌 4 무장 스타를 디이는-통합 8 모양의 dicyclic 폴리 (THF) s는 정전 자기 조립 및 공유 고정 (ESA-CF) 프로세스 (그림 1, 그림 2)를 사용하여 합성 하였다. 시간 경과 단일 분자 형광 이미지는 4 무장 (그림 3a)를 측정하고 (그림 3b) 중합체를 8 자형 하였다. 시간 경과 형광 이미지 (그림 3)은 공간적으로 인해 체인에 높은 형광 페 릴렌 디이 미드의 형광 (23)의 결합에 고립 된 밝고 선명한 반점을 보여줍니다. 확산 계수의 빈도 히스토그램 4 무장 (도 4a)에 대해 계산되고 (도 4b)의 시간 경과 화상의 제곱 - 평균 변위 (MSD) 분석에 의해 중합체 8 자형 하였다. MSD의 플롯과 CDFS의 계산은 MATLAB로 작성된 루틴을 사용하여 수행됩니다. 피팅실험으로부터 얻어진 CDFS 이러한 유래 프로 같은 데이터 처리 소프트웨어를 사용하여 수행된다. MSD의 분석에 의해 결정되는 확산 계수의 주파수 확산 히스토그램 분석 및 이질성의 통계적 에러 모두 넓은 분포의 결과 (도 4)을 표시. 주파수 히스토그램은 분명 균일 한 확산 모델로부터의 편차 폴리머 분자의 이종 확산을 보여줍니다 (그림 4에서 녹색 선). (14) 누적 분포 함수 (CDFS) 4 무장 (그림 5a)에 대해 계산하고 표시 8 모양 (그림 5b) 중합체 및 단일 가우스 (그림 5a)에서 장착 더블 가우스 (그림 5B) 모델. 확산 계수의 통계적 확률 분포는 4 무장 (도 4a)에 대해 계산하고, 8 형 (도 4b) POL 단일 가우스, 또는 더블 가우스 모델별로 ymers. 단일 (그림 5a) 및 이중 (그림 5b) 가우시안 모델이 아니라 실험적으로 얻은 CDFS에 맞게. 이러한 결과는 8 자 형상 중합체가 두 개의 별개의 확산 모드를 표시하는 반면 -4- 무장 중합체의 확산이 확산 계수의 넓은 분포에 의해 기술되는 것을 보여준다.
페 릴렌 디이 미드 통합 폴리 그림 1. 합성 경로 (THF)들. (A) 4 무장 한 스타 폴리머 및 (b) 8 모양의 dicyclic 고분자의 합성 경로는. 이 그림의 더 큰 버전을 보려면 여기를 클릭하십시오.
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합성 고분자의 그림 2. 특성화. (A) 4 무장 한 스타 폴리머 및 (b) 8 모양의 dicyclic 고분자의 NMR 스펙트럼. 이 그림의 더 큰 버전을 보려면 여기를 클릭하십시오.
3 (영화) 그림. 페 릴렌 디이 미드 합체 폴리 (THF) (S). (a) 4- 무장 스타 중합체 및 (b)의 시간 경과 형광 이미지의 단일 분자 형광 이미징 THF (표지되지 않은 선형 폴리 용융액 dicyclic 중합체 8 자형 ). 스케일 바 = 5 μm의. 영화를 보려면 여기를 클릭하십시오 (A)를 하고3 / Figure_3b_submit.mov "대상 ="_ 빈 "> (나).
도 4 페 릴렌 디이 미드 혼입 폴리 MSD 분석 (THF)을 용융물에 확산 s는. 용융 개체 (a) 4- 무장 스타 중합체 및 (b) 8 자형 dicyclic 중합체 결정된 확산 계수의 빈도 히스토그램 선형 폴리 (THF)를 비 표지. 실선은 이론적으로는 세 개의 서로 다른 확산 모델에 기초하여, 확산 계수의 확률 분포를 계산 보여; 균일 한 확산 모델 (녹색 선, 4.3.1 참조), 하나의 가우시안 모델 (수정 지시, 4.3.2 참조), 두 번 가우시안 모델 (파란색 선, 4.3.3 참조). (14) 이의 더 큰 버전을 보려면 여기를 클릭하십시오 그림.
페 릴렌 디이 미드 합체 폴리 (THF)의도 5 CDF 분석 용융액 확산 s는 실험적으로 얻어진 누적 분포 함수 (iΔt = 7.5-75 밀리 초). (a) 4- 무장 스타 폴리머 1-P의 형태 및 (b) 표지되지 않은 선형 폴리 (THF)의 용융에 dicyclic 중합체 8 자형. 점선은 4.2.3.3에서 4.2.3.2 및 (b) 식의 (a)는 식으로 피팅을 보여줍니다. (14)는 이 그림의 더 큰 버전을 보려면 여기를 클릭하십시오.
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Discussion
4 무장과 8 모양의 중합체. 합성을위한 중요한 단계 인 ESA-CF 프로토콜 (그림 1)을 통해 제조 12, 24 단관 능성과 관능 성 선형 폴리 (THF)의 N -phenylpiperidinium 말 단기와이었다 하였다 위의 절차에 따라 합성. 11 이온 교환 복실 과잉 량을 함유하는 수용액에 트리 플레이트 카운터 음이온을 가진 폴리머 전구체의 아세톤 용액으로 재침을 실시 하였다.
4 무장 스타 폴리머 이온 교환 생성물의 공유 변환은 4 시간 동안 환류 톨루엔 (4.9 g / L)에서 수행 하였다. 전환이 충분하지 않은 경우, 반응 시간을 연장한다. 공유 결합 된 생성물을 물에 아세톤 / 헥산 N 및 재 침전 실리카 겔 컬럼 크로마토 그래피에 의해 수득 하였다. 4 무장 중합체의 1H NMR은도 2a에 도시된다. 티S의 ESA-CF 절차 환상 중합체의 효율적인 합성을 허용한다. 그러나이 프로토콜은 환상 오늄 단부 그룹이 중합체에 한정된다.
8 형 중합체 생성물의 경우, 반응을 4 시간 동안 환류하에 희석 (0.2 g / L)의 톨루엔에서 수행하고, 분자간 제품을 반응 아마도 인해, 불용성 분획의 대부분의 형성 결과. 수용성 부분은 아세톤 / N 헥산으로 실리카 겔 컬럼 크로마토 그래피하여, N- 헥산으로 재침하고, 물에 재 침전시켰다. 얻어진 미정 제 생성물을 크기 배제 비즈 칼럼 크로마토 그래피 및 8 형 중합체 생성물의 분리를 허용하는 GPC를 재활용 하였다. 8 모양 중합체의 1H NMR은도 2b에 도시된다. 이 ESA-CF 프로토콜은 더 복잡한 위상 중합체에 적용 할 수있다.
고품질의 형광 이미지이다 essenti분자의 확산 동작의 정확한 분석 등. 1) 형광 불순물 샘플에 존재할 때, 형광 화상이 현저히 저하되어, 2) 통합 형광체의 형광 양자 수율이 낮으며, 3) 영상의 프레임 레이트는 중합체 분자의 확산 움직임보다 느리다. 실온 이하의 온도 (20 ℃로) 또는 37 ℃ 이상으로 설정하면 기록 형광 이미지의 품질을 저하하는 굴절률 부정합을 야기 할 것이다. 필터 큐브에 장착 좁은 밴드 방출 대역 통과 필터를 사용하면 언젠가는 형광 이미지의 품질을 향상시킨다. 촬상 실험에 사용 된 EM-CCD 카메라의 노출 시간은 일반적으로 밀리 초에 한정되기 때문에,이 빠른 시간 스케일보다 확산 동작은이 방법에 의해 캡쳐 될 수 없다.
엠에스디 분석 통계적 에러의 영향의 평가는 FO 중요한 단계이종 확산의 특성을 r에. 통계적 오류가 심하게 불균일 확산을 논의하기 전에 균일 한 확산 모델 (22)을 이용하여 확산 계수의 확률 분포를 계산함으로써 평가한다. 불균일 확산은 신중 CDF 분석에 의해 평가되어야한다. CDFS가 균일 확산 모델 (즉, 단일 지수 감쇠 곡선)로부터 명백한 편차를 표시하는 경우,이 다수의 확산 성분의 존재를 시사한다. 불균일 확산 정량적 특성 결합 MSD, CDF가 필요하며, 확률 분포를 분석한다. 14,15
확산 움직임 함유 고분자 역학은 이러한 NMR, 광산란 7, 8, 점도 측정과 같은 종래의 방법에서는 앙상블 평균 값으로 설명되었다. 구를 실제로 자장하게 계시 불균일 확산 운동전자 분자 이미징 (16)은 앙상블 평균 방법으로 검출하는 것이 매우 어렵다. 중합체의 고유 이질적인 특성을 고려하여,이 프로토콜에보고 25-27있어서 위상 중합체의 특성으로 제한되지만 얽힌 상태에서 중합체의 모든 종류에 적용될 수있다. (28) 또한,이 프로토콜에보고 된 방법을 찾을 이러한 메조 포러스 물질을 통해 분자 확산과 같은 복잡한 시스템에서 이종 확산의 분석에 다양한 응용 프로그램입니다. (29)
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Materials
| Name | Company | Catalog Number | Comments |
| Materials | |||
| THF | Godo | ||
| Wakosil C-300 | Wako Pure Chemical Industries | ||
| Acetone | Godo | ||
| Toluene | Godo | ||
| n-Hexane | Godo | ||
| CHCl3 | Kanto Chemical | ||
| Bio-Beads S-X1 | Bio-Rad | ||
| Methyl triflate | Nacalai Tesque | ||
| Triflic anhydride | Nacalai Tesque | ||
| Potassium Hydroxide | Wako Pure Chemical Industries | ||
| Ethanol | Wako Pure Chemical Industries | ||
| Poly(tetrahydrofuran) | Aldrich | ||
| Chloroform | Wako Pure Chemical Industries | ||
| Immersion oil | Cargille | Type 37 / Type A | |
| Equipment | |||
| 2-Neck 100-ml round-bottom flask | |||
| Flask | |||
| Beaker | |||
| Funnel | |||
| Filter paper | Whatman | ||
| Reflux condenser | |||
| Syringe | |||
| Water bath | |||
| Magnetic stirrer | |||
| Rotary evaporator | |||
| Microscope cover slips (24 x 24 mm, No. 1) | Matsunami Glass | CO22241 | |
| Staining jar | AS ONE Corporation | 1-7934-01 | |
| Ultrasonic cleaner | VWR International | 142-0047 | |
| Inverted microscope | Olympus | IX71 | |
| Ar-Kr ion laser | Coherent | Innova 70C | |
| Berek compensator | Newport | 5540 | |
| Excitation filter | Semrock | LL01-488-12.5 | |
| Dichloric mirror | Omega optical | 500DRLP | |
| Emission filter | Semrock | BLP01-488R-25 | |
| Lens and mirror | Thorlabs | ||
| EM-CCD camera | Andor Technology | iXon | |
| Objective lens (100X, N.A. = 1.3) | Olympus | UPLFLN 100XOP | |
| Objective heater | Bioptechs | ||
| Preparative GPC | Japan Analytical Industry | LC-908 |
References
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