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Preparação de partículas de Janus e medições eletroquimáticas de corrente alternada com uma matriz de eletrodo de estanho de estanho rapidamente fabricada

Published: June 23, 2017 doi: 10.3791/55950
Automatic Translation
1, 1
1Institute of Applied Mechanics, National Taiwan University

Summary

Neste artigo, é demonstrado um método simples para preparar partículas metálicas parcialmente ou totalmente revestidas e para realizar medidas de propriedades eletroquimáticas de CA com um conjunto de eletrodos de óxido de índio e íon (ITO) rapidamente fabricado.

Abstract

Este artigo fornece um método simples para preparar partículas metálicas parcialmente ou totalmente revestidas e para realizar a fabricação rápida de arrays de eletrodos, o que pode facilitar experiências elétricas em dispositivos microfluídicos. As partículas Janus são partículas assimétricas que contêm duas propriedades de superfície diferentes em seus dois lados. Para preparar partículas de Janus, uma monocamada de partículas de sílica é preparada por um processo de secagem. Ouro (Au) é depositado em um lado de cada partícula usando um dispositivo de pulverização catódica. As partículas metálicas totalmente revestidas são completadas após o segundo processo de revestimento. Para analisar as propriedades da superfície elétrica das partículas de Janus, medições eletrocinéticas de corrente alternada (AC), como a dielectroforese (DEP) e a eletrorretação (EROT) - que requerem arrays de eletrodo especificamente projetados no dispositivo experimental - são realizadas. No entanto, os métodos tradicionais para fabricar arrays de eléctrodos, como a técnica fotolitográfica, requerem uma sérieDe procedimentos complicados. Aqui, apresentamos um método flexível para fabricar uma matriz de eletrodo projetada. Um vidro de óxido de estanho de índio (ITO) é modelado por uma máquina de marcação a laser de fibra (1,064 nm, 20 W, largura de pulso de 90 a 120 ns e freqüência de repetição de pulso de 20 a 80 kHz) para criar uma matriz de eletrodos de quatro fases. Para gerar o campo elétrico trifásico, os eletrodos são conectados a um gerador de função de 2 canais e a dois inversores. O deslocamento de fase entre eletrodos adjacentes é fixado em 90 ° (para EROT) ou 180 ° (para DEP). São apresentados resultados representativos das medições eletroquimáticas AC com um conjunto de eletrodos ITO trifásicos.

Introduction

As partículas de Janus, com o nome do deus romano com uma face dupla, são partículas assimétricas cujos dois lados têm propriedades de superfície fisicamente ou quimicamente diferentes 1 , 2 . Devido a essa característica assimétrica, as partículas de Janus exibem respostas especiais sob campos elétricos, como DEP 3 , 4 , 5 , 6 , EROT 2 e eletroforese de carga induzida (ICEP) 7 , 8 , 9 . Recentemente, vários métodos para preparar partículas Janus foram relatados, incluindo o método de emulsão Pickering 10 , o método de co-jato eletroidrodinâmico 11 e o método de fotopolimerização microfluídica 12 . No entanto, esses métodos requerem uma série de compAparelhos e procedimentos licenciados. Este artigo apresenta um método simples para preparar partículas Janus e partículas metálicas totalmente revestidas. Uma monocamada de partículas de sílica com micro escala é preparada num processo de secagem e é colocada num dispositivo de pulverização a ser revestido com Au. Um hemisfério da partícula está sombreado, e apenas o outro hemisfério é revestido com Au 2 , 13 . A monocamada da partícula Janus é estampada com um selo de polidimetilsiloxano (PDMS) e depois tratada com um segundo processo de revestimento para preparar partículas metálicas totalmente revestidas 14 .

Para caracterizar as propriedades elétricas de uma partícula Janus, diferentes respostas eletrocinéticas AC, como DEP, EROT e eletro-orientação, são amplamente utilizadas 9 , 15 , 16 , 17 , 18 19 . Por exemplo, EROT é a resposta rotacional em estado estacionário de uma partícula sob um campo elétrico rotativo imposta externamente 2 , 9 , 15 , 16 . Ao medir o EROT, pode-se obter a interação entre o dipolo induzido das partículas e os campos elétricos. O DEP, que decorre da interação entre os dipolos induzidos e um campo elétrico não uniforme, é capaz de levar ao movimento das partículas 3 , 4 , 5 , 9 , 15 . Diferentes tipos de partículas podem ser atraídos para (DEP positivo) ou repelir de (DEP negativo) os bordos dos eletrodos, que serve como um método geral para manipular e caracterizar partículas no dispositivo microfluídico. O translacional (DEP) e rota As características das partículas (EROT) da partícula sob o campo elétrico são dominadas pela parte real e imaginária do fator Clausius-Mossotti (CM), respectivamente. O fator CM depende das propriedades elétricas das partículas e do líquido circundante, que são reveladas a partir da freqüência característica, ω c = 2σ / aC DL , de DEP e EROT, onde σ é a condutividade líquida, a é o raio da partícula, E C DL é a capacitância da camada dupla elétrica 15 , 16 . Para medir o EROT e o DEP de partículas, são necessários padrões de matrizes de eléctrodos especialmente projetados. Tradicionalmente, uma técnica fotolitográfica é usada para criar matrizes de eletrodos e requer uma série de procedimentos complicados, incluindo revestimentos de fotorresistência, alinhamento de máscara, exposição e desenvolvimento 15 , 18 ,S = "xref"> 19 , 20 .

Neste artigo, a fabricação rápida de arrays de eletrodos é demonstrada por padrões óticos diretos. Uma camada ITO de película fina transparente, que é revestida no substrato de vidro, é parcialmente removida por uma máquina de marcação a laser de fibra (1,064 nm, 20 W, largura de pulso de 90 a 120 ns e freqüência de repetição de pulso de 20 a 80 kHz) para formar Uma matriz de eletrodos de quatro fases. A distância entre os eletrodos diagonais é de 150-800 μm, que pode ser ajustada de acordo com os experimentos. O conjunto de eletrodos de quatro fases pode ser usado para caracterizar e concentrar partículas em diferentes dispositivos microfluídicos 15 , 16 , 18 . Para gerar o campo elétrico trifásico, a matriz de eletrodos é conectada a um gerador de função de 2 canais e a dois inversores. O deslocamento de fase entre os eletrodos adjacentes é definido em 90 ° (para EROT) ou 180 ° (para DEP) 15 . O sinal de CA é aplicado a uma amplitude de tensão de 0,5 a 4 V pp e a frequência varia de 100 Hz a 5 MHz durante o processo de operação. Partículas Janus, partículas metálicas e partículas de sílica são usadas como amostras para medir suas propriedades eletrocinéticas AC. As suspensões das partículas são colocadas na região central do conjunto de eletrodos e são observadas sob um microscópio óptico invertido com um objetivo 40X, NA 0.6. O movimento de partículas e a rotação são gravados com uma câmera digital. O movimento DEP é gravado na região anular, entre 40 e 65 μm radialmente fora do centro da matriz, e o EROT é gravado na região circular, 65 μm radialmente fora do centro da matriz. A velocidade da partícula e a velocidade angular são medidas pelo método de rastreamento de partículas. Os centroóides de partículas são distinguidos por escala de cinza ou geometria de partículas usando o software. A velocidade da partícula e a velocidade angular são obtidas porMedindo os movimentos dos centroides de partículas.

Este artigo fornece um método simples para fabricar rapidamente arrays de eletrodos com padrões arbitrários. Ele introduz a preparação de partículas metálicas totalmente ou parcialmente revestidas, que podem ser usadas em diferentes campos, com usos que variam de biologia para aplicações industriais.

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Protocol

1. Fabricação do Microchip

  1. Preparação do eletrodo ITO
    1. Use o software de ilustração comercial para desenhar um padrão cruzado. Defina a distância entre os eletrodos diagonais para 160 μm e faça com que os braços do padrão cruzado sejam 30 mm de largura e 55 mm de comprimento, como mostrado na Figura 1 . Salve o arquivo de ilustração como um arquivo DXF.
    2. Use um cortador de vidro para cortar o vidro ITO para um tamanho de 25 mm x 50 mm (largura x comprimento). Use 75% de etanol e água DI para enxaguar o vidro ITO várias vezes.
    3. Coloque o vidro ITO na máquina de marcação a laser de fibra pulsada. Focalize o laser na superfície do vidro ITO ajustando a distância entre o vidro ITO e o laser para 279,5 mm.
      NOTA: O laser utilizado aqui possui as seguintes especificações: 1.064 nm, 20 W, largura de pulso de 90 a 120 ns e freqüência de repetição de pulso de 20 a 80 kHz, com intensidade de luz pulsada em aproximadamente 5 x 10 5 W / cm 2).
    4. Insira diretamente o arquivo de ilustração (arquivo DXF) no computador da máquina de marcação a laser. Clique no botão "Mark Parameter" e insira os seguintes parâmetros: velocidade, "800 mm / s;" Poder, "60%;" E freqüência, "40 kHz". Marque os termos "Quadro", "Preencher" e "Preencher Primeiro".
      1. Clique no botão "Pré-visualizar" posicionar o padrão no centro de vidro ITO. Clique no botão "Mark Sample" para modelar o vidro ITO ( Figura 1 A ).
  2. Configurando um gerador trifásico e conectando o microchip experimental
    1. Construa os circuitos dos inversores, como mostrado na Figura 2 A.
    2. Conecte os 4 fios no eletrodo trifásico por contato direto com a fita, como mostrado na Figura 2 C. Divida o "ChannEl 1 "do gerador de função em dois ramos usando um conector BNC duplo.
      1. Conecte um ramo ao fio (# 1) conectado ao eletrodo ITO e o outro à entrada do inversor. Conecte a saída do inversor ao fio (# 3), como mostrado na Figura 2 B.
    3. Conecte o "Canal 2" com o mesmo procedimento que no passo 1.2.2, mas conecte-se aos fios (# 2 e # 4) como mostrado na Figura 2 B.
    4. Para as experiências EROT, ajuste o deslocamento de fase entre os dois canais para 90 °, diretamente no gerador de funções. Aplique uma onda de seno a uma amplitude de tensão de 0,5-4 V pp e uma freqüência variando de 100 Hz a 5 MHz durante as experiências, como mostrado na Figura 2 D.
    5. Para as experiências DEP, conecte um ramo do Canal 1 ao fio (# 1) conectado ao eletrodo ITO e o outro aoEntrada do inversor. Conecte a saída do inversor ao fio (# 2). Conecte o Canal 2 usando o mesmo procedimento, mas conecte-se aos fios (# 3 e # 4).
    6. Defina o deslocamento de fase entre os 2 canais a 0 °, diretamente no gerador de funções. Aplique uma onda de seno a uma amplitude de tensão de 0,5-4 V pp e uma freqüência variando de 100 Hz a 5 MHz durante as experiências, como mostrado na Figura 2 D.

2. Preparação das amostras

  1. Preparação de partículas Janus
    1. Centrifugue a suspensão aquosa de partículas de sílica de 2 μm (10% p / p) a 2.200 xg durante 1 min.
    2. Pipetar 2 μL de partículas de sílica sedimentar em um tubo de microcentrífuga de 1,5 mL e adicionar 500 μL de etanol (99,5% v / v).
      NOTA: O sobrenadante não precisa ser descartado; Apenas guarde na geladeira a 4 ° C. Não é necessário ressuspender antes da pipetinaG.
    3. Sonicate a suspensão de partículas de etanol e sílica usando um ultra-som (43 kHz, 50 W) por 1 min e depois centrifugá-lo a 2,200 xg durante 3 min.
    4. Substitua o sobrenadante com 500 μL de etanol e repita o passo 2.1.3 três vezes.
    5. Substituir o sobrenadante com 8 μL de etanol e sonificar a suspensão de partículas de etanol e sílica usando um ultra-som (43 kHz, 50 W) durante 3 min.
      NOTA: Cerca de 10 μL de suspensão de partículas de etanol e sílica devem permanecer no tubo neste passo.
    6. Pipetar 2 μL de suspensão de partículas de etanol e sílica e soltá-lo em uma lâmina de vidro normal (largura: 25 mm, comprimento: 75 mm e espessura: 1,2 mm) para formar uma gota.
      Nota: Esta quantidade de suspensão de partículas é suficiente para preparar as monocamadas para 5-6 lâminas (2 μL para cada lâmina).
    7. Arraste lentamente a gota de partículas de etanol e sílica ligeiramente com uma tampa de vidro para formar uma monocamada de partículas de sílica ( Figura 3 A ).
    8. Coloque o slide com a monocamada de partículas de sílica em um dispositivo de pulverização a ser revestido com Au.
      1. Retire o ar da câmara de pulverização a 100 mTorr e injete argônio durante 10 minutos (substitua o ar por árgon). Pare de injetar argônio e, em seguida, remova o argônio da câmara a 70 mTorr.
      2. Ajuste a corrente para 15 mA por 200 s. ( Figura 3 B ); Janus partículas já estão preparadas nesta etapa.
    9. Largue 20 μL de água DI na corrediça pulverizada e raspe as partículas Janus da monocamada usando uma ponta normal de 200 μL de pipeta.
      NOTA: As partículas Janus raspadas da monocamada suspendem na gota de água DI neste passo.
    10. Pipetar a gota de partículas Janus e soltar-a em outro tubo de centrifugação de 1,5 mL.
    11. Use a suspensão de partículas Janus para preparar a amostra diluyendo-a com água DI para uma concentração adequadaPara experiências.
      NOTA: A concentração da suspensão de partículas nas experiências aqui descritas é de cerca de 2.000 contagens / μL.
  2. Preparação de partículas metálicas totalmente revestidas 14
    1. Misture a base de polímero PDMS e o agente de cura com uma proporção em peso de 10: 1.
    2. Faixa em torno da lâmina de vidro para formar as paredes laterais do recipiente. Despeje a mistura de PDMS em uma corrediça gravada para obter uma camada PDMS de 2-3 mm, como mostrado na Figura 4 A.
    3. Coloque a corrediça gravada (recipiente) com a mistura PDMS em uma câmara hermética e execute a bomba de vácuo durante 30 min para remover as bolhas na mistura PDMS.
    4. Coloque o slide gravado (recipiente) com a mistura PDMS (passo 2.2.3) no forno. Cure a mistura PDMS a 70 ° C durante 2 h para formar um selo PDMS.
    5. Depois que o selo PDMS for curado, remova o slide e a fita adesiva para obter o selo PDMS, a superfícieDos quais anexados originalmente ao slide de vidro, formando uma superfície plana, como mostrado na Figura 4 B.
    6. Siga os passos de 2.1.1-2.1.8 para preparar uma monocamada de partículas Janus em um slide.
    7. Use a superfície plana do selo PDMS para selar a monocamada com pressão uniforme.
    8. Coloque o selo PDMS com a monocamada de partículas de Janus, que é invertida da corrediça de vidro feita no passo 2.1.8, no dispositivo de pulverização a ser revestida com Au.
      1. Retire o ar da câmara de pulverização a 100 mTorr e injete argônio durante 10 minutos (substitua o ar por árgon). Pare de injetar argônio e, em seguida, remova o argônio da câmara a 70 mTorr.
      2. Ajuste a corrente para 15 mA por 200 s ( Figura 4 C ); As partículas metálicas totalmente revestidas já estão preparadas nesta etapa.
    9. Siga as etapas de 2.1.9-2.1.11 para preparar a amostra para experiências.
      10. </ Ol>

    3. Experimentos para medição eletroquimática AC

    1. Enrole 5 peças de película de parafina para preparar um espaçador. Combine o conjunto de eletrodos ITO com o espaçador de película de 500 μm de espessura usando uma pistola de calor e coloque o eletrodo no estágio do microscópio.
      1. Soltar 8 μL de suspensão de partículas, que foi preparada nos passos 2.1 e 2.2, no centro da matriz de eletrodos cruzados. Coloque uma tampa no espaçador.
    2. Para as experiências EROT, no gerador de funções, ajuste o deslocamento de fase entre os 2 canais para 90 °. Aplique uma onda de seno com uma amplitude de tensão de 0,5-4 V pp e uma freqüência variando de 100 Hz a 5 MHz durante os experimentos (com base na conexão nas etapas 1.2.2-1.2.3).
      1. Escolha o formulário de onda clicando no botão "forma de onda" no gerador de funções. Insira o valor de tensão e freqüência usando os botões numerados na função geNerator e, em seguida, ative o sinal de CA clicando no botão "output".
    3. Para as experiências DEP, defina a mudança de fase entre os 2 canais para 0 °. Aplique uma onda de seno a 0,5-4 V pp de amplitude de tensão e uma freqüência de 100 Hz a 5 MHz durante as experiências (com base nas conexões no passo 1.2.5) configurando o gerador de funções como no passo 3.2.1.
    4. Ligue o sinal AC clicando no botão "saída" e capture as imagens de movimento e rotação de partículas sob um microscópio óptico invertido com um objetivo 40X, NA 0.6 usando uma câmera.
    5. Insira as imagens de movimento de partículas e rotação para o software e analise a trajetória de partículas por rastreamento de partículas para obter as velocidades de partículas e angulares.
      Nota: O software "Image J" e o plugin "MultiTracker" foram utilizados aqui para a binarização de imagens e rastreamento de partículas.

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Representative Results

O conjunto de eletrodos de quatro fases é criado por uma máquina de marcação a laser de fibra. A camada condutora ITO revestida no vidro é removida por um laser de foco para formar um padrão cruzado com um intervalo de 160 μm, como mostrado na Figura 1 B.

figura 1
Figura 1 : Preparação do eletrodo ITO. ( A ) Esquemas de criação de um eletrodo ITO trifásico com uma máquina de marcação a laser de fibra (1,064 nm, 20 W, largura de pulso de 90 a 120 ns e freqüência de repetição de pulso de 20 a 80 kHz). ( B ) Imagem de campo brilhante da matriz de eléctrodos cruzados ao microscópio. Clique aqui para ver uma versão maior deste figUre.

O diagrama de circuito do inversor é mostrado na Figura 2 A. Para criar o campo elétrico trifásico, a matriz de eletrodos é conectada a um gerador de função de 2 canais e a dois inversores, conforme mostrado em Figura 2 B.

Figura 2
Figura 2 : Configuração de um gerador de quatro fases e conexão do microchip experimental. ( A ) O diagrama de circuito do inversor. ( B ) Esquemas do microchip experimental. ( C ) Conecte os 4 fios no eletrodo trifásico através de contato direto com fita adesiva. ( D ) O deslocamento de fase entre os eletrodos adjacentes é ajustado em 90 °(Para EROT) ou 180 ° (para DEP). Clique aqui para ver uma versão maior dessa figura.

Uma monocamada de partículas de sílica é preparada arrastando lentamente a gota de partículas de etanol e sílica ligeiramente usando uma tampa de vidro, conforme mostrado na Figura 3 A. A monocamada de partículas de sílica é colocada no dispositivo de pulverização a ser revestida com Au. Finalmente, as partículas Janus são preparadas, como mostrado na Figura 3 C.

Figura 3
Figura 3 : Procedimentos de preparação de partículas Janus. ( A ) A monocamada de partículas de sílica sob um microscópio. ( B )Desenho esquemático do revestimento de uma fina camada de Au sobre uma monocamada de partículas de sílica. ( C ) Imagem de campo brilhante de uma partícula Janus sob um microscópio. O lado escuro da partícula é o revestimento Au. Clique aqui para ver uma versão maior dessa figura.

A preparação de partículas metálicas totalmente revestidas é mostrada na Figura 4 . O recipiente, que consiste em um slide e fita, é carregado com a mistura PDMS para uma altura de 2 a 3 mm, como mostrado na Figura 4 A. A mistura PDMS é colocada no forno a 70 ° C durante 2 h para formar um selo PDMS. O selo PDMS, com uma superfície plana, é mostrado na Figura 4 B. O procedimento de preparação de partículas metálicas totalmente revestidas é mostrado na FigurE 4 C. A partícula metálica totalmente revestida é mostrada na Figura 4 D.

Figura 4
Figura 4 : Preparação de Partículas Metálicas Totalmente Revestidas. ( A ) A mistura PDMS no recipiente de fita deslizante. ( B ) O selo PDMS com uma superfície plana. ( C ) Procedimentos de preparação de partículas metálicas totalmente revestidas. ( D ) Imagem de campo brilhante de uma partícula metálica totalmente revestida sob um microscópio. Clique aqui para ver uma versão maior dessa figura.

Os resultados representativos da partícula EROT e DEP são mostrados na FigurE 5. O EROT de partículas de Janus geralmente está na direção oposta do campo elétrico (campo de contador), com uma velocidade angular máxima em uma freqüência característica, como mostrado na Figura 5 A. O EROT de partículas de Janus a baixa frequência reverte para a direção co-arquivada, o que pode ser devido ao mecanismo de polarização mais complicado e ao fluxo eletroossômico de carga induzida em torno do hemisfério de superfície metálica 15 , 16 . O EROT de partículas de sílica é co-campo em todos os intervalos de freqüência de teste, e sua freqüência característica é a menor freqüência de teste (~ 500 Hz), como mostrado na Figura 5 B. O EROT de partículas metálicas é contra-campo em todas as faixas de freqüência de teste, e sua freqüência característica é menor que a das partículas Janus, como mostrado na Figura 5 C. A partir de Figura 5 A-5C , podemos ver a mudança na parte imaginária dos fatores CM, com as freqüências de campo elétrico entre diferentes tipos de partículas. Além disso, podemos ver que a freqüência característica do EROT das partículas Janus é maior do que nas partículas metálicas totalmente revestidas. Este resultado sugere que a polarização das partículas de Janus não pode ser explicada diretamente por um simples modelo de superposição de estruturas de dois hemisférios. Existe um mecanismo mais complicado para a polarização das partículas Janus 2 . As medidas de DEP de partículas metálicas são mostradas na Figura 5 D. Os resultados mostram que a resposta DEP de partículas metálicas é n-DEP em freqüências mais baixas, mas p-DEP em freqüências mais altas, com uma freqüência de cruzamento que concorda com a freqüência característica em A medida EROT.

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Figura 5 : Os Resultados Representativos da Partícula EROT e DEP. ( A ) espectro EROT de partículas Janus. ( B ) espectro EROT de partículas de sílica. ( C ) espectro EROT de partículas metálicas totalmente revestidas. ( D ) espectro DEP de partículas metálicas totalmente revestidas. Clique aqui para ver uma versão maior dessa figura.

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Discussion

A fabricação de arrays de eletrodos ITO usando a máquina de marcação a laser de fibra fornece um método rápido para preparar eletrodos com padrões arbitrários. No entanto, ainda existem algumas desvantagens para este método, como menos portadores de carga e a menor precisão de fabricação de eletrodos ITO em comparação com eletrodos metálicos criados por métodos tradicionais. Essas desvantagens podem limitar algumas experiências. Por exemplo, menos transportadores podem afetar a distribuição do campo elétrico quando há uma grande distância entre os eletrodos. Além disso, o ajuste dos parâmetros de padrão é um passo crítico neste método, que afeta diretamente a qualidade dos arrays de eletrodos ITO. Por exemplo, o poder do laser afeta a remoção da camada condutora ITO do substrato de vidro. A freqüência e a velocidade do laser determinam a suavidade das arestas do eletrodo ITO. Normalmente, os parâmetros de padrões adequados são encontrados por tentativa e erro. Em suma, esta metanfetaminaOd é capaz de produzir de forma rápida e eficiente eletrodos em vidro ITO em padrões arbitrários, que podem ser aplicados a vários tipos de experimentos elétricos, para pesquisa e outras aplicações.

Preparar as partículas Janus e partículas metálicas com o processo de secagem é um método simples e conveniente. Em contraste com outros métodos, como o método de emulsão Pickering 10 , o método de co-jato eletroidrodinâmico 11 , o método de fotopolimerização microfluídica 12 e o método de síntese química 15 , este método é capaz de preparar um grande número de partículas em um curto período de tempo . No entanto, a limitação deste método é que a deposição de metal nas superfícies das partículas pode ser não uniforme, o que poderia alterar ligeiramente a forma da partícula. Embora o método do processo de secagem tenha essa limitação, ainda é um método útil para preparar partículas de Janus ePartículas metálicas.

Em resumo, este artigo fornece métodos funcionais para preparar rapidamente arrays de eléctrodos em padrões arbitrários, bem como um grande número de partículas metálicas totalmente ou parcialmente revestidas. Isso pode facilitar o desenvolvimento e aplicação de eletrocinética, incluindo a manipulação e caracterização de partículas em dispositivos microfluídicos.

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Disclosures

Os autores não têm nada a revelar.

Acknowledgments

Este trabalho foi apoiado pelo Ministério da Ciência e Tecnologia, Taiwan, ROC, sob Grant NSC 103-2112-M-002-008-MY3.

Materials

Name Company Catalog Number Comments
Silica Microsphere-2.34 µm Bangs Laboratories SS04N
Ethyl Alcohol (99.5%) KATAYAMA CHEMICAL E-0105
SYLGARD 184 A&B Silicone Elastomer(PDMS) DOW CORNING PDMS 
 ITO glass Luminescence Technology LT-G001
Fiber laser marking machine Taiwan 3Axle Technology TAFB-R-20W
 2-channel function generator Gwinsek AFG-2225
CMOS camera Point Grey GS3-U3-32S4M-C
Sputter JEOL JFC-1100E
Operational Amplifiers Texas Instruments LM6361N OP invertor 
Ultrasonic Cleaner Gui Lin Yiyuan Ultrasonic Machinery Co. DG-1
Microcentrifuge Scientific Specialties, Inc. 1.5ml
Mini Centrifuge LMS MC-MCF-2360
Microscope cover glass Marienfeld-Superior 18*18mm
Inverted optical microscope Olympus OX-71 
Parafilm bemis spacer

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References

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Preparação de partículas de Janus e medições eletroquimáticas de corrente alternada com uma matriz de eletrodo de estanho de estanho rapidamente fabricada
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Chen, Y. L., Jiang, H. R.… More

Chen, Y. L., Jiang, H. R. Preparation of Janus Particles and Alternating Current Electrokinetic Measurements with a Rapidly Fabricated Indium Tin Oxide Electrode Array. J. Vis. Exp. (124), e55950, doi:10.3791/55950 (2017).

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