Summary
Este proyecto permite a los pequeños laboratorios desarrollar una plataforma fácil de usar para la fabricación de dispositivos microfluídicos multicapa precisos. La plataforma consiste en un adaptador de alineación de máscara de microscopio impreso tridimensionalmente con el que se lograron dispositivos microfluídicos multicapa con errores de alineación de <10 μm.
Abstract
Este proyecto tiene como objetivo desarrollar una plataforma fácil de usar y rentable para la fabricación de dispositivos microfluídicos precisos y multicapa, que generalmente solo se pueden lograr utilizando equipos costosos en un entorno de sala limpia. La parte clave de la plataforma es un adaptador de alineación de máscara de microscopio (MMAA) impreso tridimensionalmente (3D) compatible con microscopios ópticos regulares y sistemas de exposición a la luz ultravioleta (UV). El proceso general de creación del dispositivo se ha simplificado enormemente debido al trabajo realizado para optimizar el diseño del dispositivo. El proceso implica encontrar las dimensiones adecuadas para los equipos disponibles en el laboratorio e imprimir en 3D el MMAA con las especificaciones optimizadas. Los resultados experimentales muestran que el MMAA optimizado diseñado y fabricado por impresión 3D funciona bien con un microscopio común y un sistema de exposición a la luz. Utilizando un molde maestro preparado por el MMAA impreso en 3D, los dispositivos microfluídicos resultantes con estructuras de múltiples capas contienen errores de alineación de <10 μm, que es suficiente para microchips comunes. Aunque el error humano a través del transporte del dispositivo al sistema de exposición a la luz UV puede causar errores de fabricación más grandes, los errores mínimos logrados en este estudio son alcanzables con práctica y cuidado. Además, el MMAA se puede personalizar para adaptarse a cualquier microscopio y sistema de exposición a los rayos UV realizando cambios en el archivo de modelado en el sistema de impresión 3D. Este proyecto proporciona a los laboratorios más pequeños una herramienta de investigación útil, ya que solo requiere el uso de equipos que normalmente ya están disponibles para los laboratorios que producen y utilizan dispositivos microfluídicos. El siguiente protocolo detallado describe el diseño y el proceso de impresión 3D para el MMAA. Además, los pasos para adquirir un molde maestro multicapa utilizando el MMAA y producir chips microfluídicos de poli(dimetilsiloxano) (PDMS) también se describen aquí.
Introduction
Un campo bien desarrollado y prometedor en la investigación de ingeniería es la microfabricación debido a la vasta extensión de aplicaciones que emplean plataformas microfluídicas. La microfabricación es un proceso en el que las estructuras se producen con características de tamaño μm o menor utilizando diferentes compuestos químicos. A medida que la investigación microfluídica se ha desarrollado en los últimos 30 años, la litografía blanda se ha convertido en la técnica de microfabricación más popular con la que producir microchips hechos de poli(dimetilsiloxano) (PDMS) o sustancias similares. Estos microchips se han utilizado ampliamente para la miniaturización de prácticas de laboratorio comunes1,2,3,4 y se han convertido en poderosas herramientas de investigación para que los ingenieros imiten los procesos de reacción5,6,7,estudien los mecanismos de reacción e imiten los órganos que se encuentran en el cuerpo humano in vitro (por ejemplo, órgano en un chip)8,9,10. Sin embargo, a medida que aumenta la complejidad de la aplicación, es típico que un diseño de dispositivo microfluídico más complejo permita una mejor replicación del sistema de la vida real que se pretende imitar.
El procedimiento básico de litografía blanda consiste en recubrir un sustrato con una sustancia fotorresistia y colocar una fotomáscara sobre el sustrato recubierto antes de someter el sustrato a la luz UV11. La fotomáscara tiene regiones transparentes que imitan el patrón deseado de los canales del dispositivo microfluídico. Al someter el sustrato recubierto a la luz UV, las regiones transparentes permiten que la luz UV penetre a través de la fotomáscara, haciendo que la fotorresistente se ticulte. Después del paso de exposición, la fotorresistente no reticulada se lava con un revelador, dejando estructuras sólidas con el patrón deseado. A medida que la complejidad de los dispositivos microfluídicos se hace mayor, requieren una construcción de múltiples capas con dimensiones extremadamente precisas. El proceso de microfabricación multicapa es mucho más difícil en comparación con la microfabricación de una sola capa.
La microfabricación multicapa requiere una alineación precisa de las características de la primera capa con los diseños de la segunda máscara. Normalmente, este proceso se realiza utilizando un alineador de máscara comercial, que es costoso y requiere capacitación para operar la maquinaria. Por lo tanto, el proceso de microfabricación multicapa es típicamente inalcanzable para los laboratorios más pequeños que carecen de los fondos o el tiempo para tales esfuerzos. Si bien se han desarrollado varios otros alineadores de máscaras personalizados, estos sistemas a menudo requieren la compra y el ensamblaje de muchas piezas diferentes y aún pueden ser bastante complejos12,13,14. Esto no solo es costoso para los laboratorios más pequeños, sino que también requiere tiempo y capacitación para construir, comprender y usar el sistema. El alineador de máscaras detallado en este documento buscó aliviar estos problemas, ya que no hay necesidad de comprar equipos adicionales, solo requieren equipos que generalmente ya están presentes en los laboratorios que producen y usan dispositivos microfluídicos. Además, el alineador de máscaras se fabrica mediante impresión 3D, que con el reciente avance de la tecnología de impresión 3D, se ha vuelto fácilmente disponible para la mayoría de los laboratorios y universidades a un costo asequible.
El protocolo detallado en este documento tiene como objetivo crear un alineador de máscara alternativo rentable y de fácil operación. El alineador de máscaras que se detalla aquí puede hacer que la microfabricación multicapa sea factible para laboratorios de investigación sin instalaciones de fabricación convencionales. Usando el adaptador de alineación de máscara de microscopio (MMAA), se pueden lograr microchips funcionales con características complejas utilizando una fuente de luz UV regular, microscopio óptico y equipo de laboratorio común. Los resultados muestran que el MMAA funciona bien con un sistema de ejemplo que utiliza un microscopio vertical y una caja de exposición a la luz UV. El MMAA producido utilizando el proceso de impresión 3D se utilizó para adquirir un molde maestro bicapa de un dispositivo microfluídico de espiga con errores de alineación mínimos. Utilizando el molde maestro fabricado con un MMAA impreso en 3D, se prepararon dispositivos microfluídicos con estructuras de múltiples capas que contenían errores de alineación de <10 μm. El error de alineación de <10 μm es lo suficientemente mínimo como para no dificultar la aplicación del dispositivo microfluídico.
Además, se confirmó la alineación exitosa de un molde maestro de cuatro capas producido con el MMAA, y se determinó que los errores de alineación eran de < 10 μm. La funcionalidad del dispositivo microfluídico y los errores de alineación mínimos validan la aplicación exitosa del MMAA en la creación de dispositivos microfluídicos multicapa. El MMAA se puede personalizar para adaptarse a cualquier microscopio y sistema de exposición a los rayos UV realizando cambios menores en el archivo de la impresora 3D. El siguiente protocolo describe los pasos necesarios para ajustar el MMAA para que se ajuste al equipo disponible en cada laboratorio e imprimir en 3D el MMAA con las especificaciones requeridas. Además, el protocolo detalla cómo desarrollar un molde maestro multicapa utilizando el sistema y posteriormente producir dispositivos microfluídicos PDMS utilizando el molde maestro. La generación del molde maestro y los chips microfluídicos permite al usuario probar la efectividad del sistema.
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Protocol
1. Diseño del MMAA
- Obtener las dimensiones de la bandeja del sistema de emisión de luz UV disponible para que sea el límite superior para las dimensiones del soporte de oblea (o unidad de exposición UV) que se muestra en la Figura 1. Como se muestra en la Figura 2A,mida el diámetro (d) del borde circular interior, la altura interna (h) de la bandeja del sistema de emisión de luz UV, el ancho total (w) y la longitud (l) de la bandeja.
NOTA: Como ejemplo, el sistema de exposición a la luz UV disponible tenía dimensiones de bandeja interior de 5 pulgadas (") x 5" x 0.25" con un recorte circular de 4". Las dimensiones del MMAA se diseñaron para que no fueran mayores que las dimensiones de la bandeja interior para ajustarse correctamente y sentarse planas dentro de la bandeja del sistema, como se muestra en la Figura 2B. Vea la Figura 3 para las piezas impresas en 3D del MMAA: oblea de silicio recubierta de fotorresistente y un sujetador para fijar la configuración al microscopio. - Mida la longitud entre los tornillos en la etapa de microscopio vertical disponible que mantiene el soporte deslizante en su lugar. Además, mida el ancho de los tornillos. Aplique estas dimensiones para personalizar el soporte magnético (Figura 1) para que se ajuste al microscopio disponible para permitir una fijación fácil y precisa del MMAA al microscopio (Figura 4A).
- Utilizando una aplicación de diseño por computadora disponible, personalice el soporte de la oblea y el sujetador del microscopio magnético para que se ajusten a las dimensiones medidas. Diseñe la altura, el ancho y la longitud del soporte de la oblea para que no sean mayores que la altura (h), el ancho (w) y la longitud (l) de la bandeja del sistema de emisión de luz UV. Además, incluya el recorte circular en la parte inferior del soporte de la oblea con el mismo diámetro (d) que la bandeja del sistema de emisión de luz UV. Generar archivos STL o CAD para las dos piezas del MMAA que se utilizarán para la impresión 3D del dispositivo (ver Material suplementario).
2.3D Impresión del MMAA
- Cargue los archivos STL o CAD generados en el software de impresión 3D disponible. 3D-Imprimir las dos piezas del MMAA siguiendo el procedimiento adecuado para el proceso 3D y la impresora utilizada. Complete las piezas siguiendo los pasos posteriores a la impresión requeridos (por ejemplo, eliminación del material de soporte, eliminación de resina sin curar, pasos adicionales de lavado o curado). Alternativamente, utilice una instalación de impresión 3D disponible para imprimir y completar las piezas diseñadas en otro lugar.
- Asegúrese de que el soporte de la oblea se ajuste bien y se asiente plano dentro de la bandeja del sistema de exposición a la luz UV disponible(Figura 2B). Además, asegúrese de que el sujetador del microscopio esté conectado a la etapa del microscopio y se pueda mover fácilmente utilizando las perillas que controlan las posiciones x e y de la etapa del microscopio(Figura 4A).
- Una vez finalizadas las piezas, inserte y fije los imanes en el soporte de la oblea y el sujetador del microscopio(Figura 3A),utilizando súper pegamento o cualquier otra sustancia fijadora. Deje que el pegamento se seque antes de probar el sistema.
NOTA: Si se desea, primero se puede imprimir una pieza protype utilizando una impresora 3D de modelado por deposición fundida (FDM) para ahorrar recursos y dinero15. Este protipo se puede evaluar para un ajuste preciso al equipo disponible, y el diseño se puede modificar, si es necesario. El dispositivo final se puede imprimir utilizando un proceso más preciso (por ejemplo, estereolitografía) para una mejor precisión. El dispositivo final también se puede imprimir con un acabado translúcido para un uso óptimo bajo el microscopio.
3. Pruebas experimentales de la MMAA
- Diseño e impresión de las fotomáscaras de dispositivos microfluídicos con marcadores de alineación
- Utilice una aplicación de diseño informático para diseñar fotomáscaras para el dispositivo microfluídico bicapa deseado.
- Incluya estructuras adicionales en el lado de las estructuras del canal del dispositivo microfluídico que actuarán como marcadores de alineación (más cerca del borde de la fotomáscara / molde maestro) como se muestra en la Figura 5A,B. Asegúrese de que haya un marcador de alineación a cada lado del dispositivo microfluídico (para un total de al menos cuatro). Además, asegúrese de que la fotomáscara contenga un borde recto que pueda alinearse perfectamente con el borde recto de la oblea de silicio.
NOTA: La mayor complejidad de la estructura del marcador de alineación permitirá una mayor precisión de alineación de las capas adicionales. Como mínimo, se debe utilizar una estructura cruzada simple con medidas de 1 mm x 1 mm (Figura 6A). Un ejemplo de los marcadores de alineación se puede ver en las esquinas y el borde medio inferior de la Figura 5A,B,que representan las fotomáscaras de primera y segunda capa utilizadas para generar un molde maestro de doble capa. - Imprima las fotomáscaras a través de un proveedor comercial o a través de otras instalaciones accesibles
- Creación del molde maestro bicapa utilizando el MMAA (fotolitografía)
- Utilizando técnicas de fotolitografía estándar e instrucciones del fabricante de la fotorresistción, cree la primera capa del molde maestro utilizando la fotomáscara de la primera capa16. Use una oblea de silicio de 4"con la fotorresistente adecuada (es decir, SU-8) para crear el espesor de capa deseado. Asegúrese de que el grosor de la primera capa sea mayor que el de las capas posteriores para facilitar la identificación de los marcadores de alineación.
- Use un rotulador de color claro (por ejemplo, dorado) para colorear los marcadores de alineación de la primera capa en los cuatro lados.
- Siguiendo las instrucciones del fabricante de la fotorresistente, inicie la segunda capa del molde maestro mediante el recubrimiento de la fotorresistente sobre la oblea y realice el horneado suave16. Inserte la oblea recubierta en el soporte de la oblea del MMAA(Figura 3B)y fije la oblea recubierta al MMAA con cinta adhesiva.
- Conecte el soporte de la oblea al microscopio vertical disponible utilizando el sujetador del microscopio magnético (Figura 4A). Mueva la posición del MMAA usando las perillas de dirección X e Y de la etapa del microscopio hasta que uno de los marcadores de alineación de color en la oblea esté a la vista a través de la lente del microscopio.
- Inserte la fotomáscara de segunda capa en el soporte de la oblea, en la parte superior de la oblea recubierta (Figura 3C). Asegúrese de que los marcadores de alineación de color de la primera capa se puedan ver parcialmente a través de los marcadores de alineación en la fotomáscara.
- Conecte la fotomáscara a un elevador de tijera (también conocido como gato de soporte) a través de uno de los recortes laterales(Figura 4B)con cinta adhesiva. Utilice el elevador de tijera para ajustar la posición en dirección Z de la fotomáscara hasta que se encuentre justo encima de la oblea recubierta(Figura 3C).
NOTA: El elevador de tijera permite un ajuste fino de la posición z de la fotomáscara, ya que el elevador de tijera se puede utilizar para mover la posición de la fotomáscara adjunta en la dirección z. - Mientras mantiene la fotomáscara quieta, mire a través de la lente del microscopio e identifique los marcadores de alineación de color de la primera capa debajo de los marcadores de alineación de la fotomáscara. Utilice las perillas de dirección X e Y de la etapa del microscopio para mover la posición del MMAA(Figura 4D). Ajuste la posición del MMAA hasta que el marcador de alineación en la fotomáscara se superponga con el marcador de alineación de color en la primera capa(Figura 6A,B)observando la posición de los marcadores de alineación a través de la lente del microscopio.
- Aplique con cuidado una ligera fuerza a la fotomáscara y use cinta adhesiva para asegurar la fotomáscara en su lugar en la parte superior de la oblea recubierta. Separe la fotomáscara del elevador de tijera. Asegúrese de que los cuatro marcadores de alineación de la fotomáscara estén alineados con los cuatro marcadores de alineación de la primera capa.
- Una vez que se logre la alineación, separe cuidadosamente el soporte de la oblea de la etapa del microscopio. Inserte la placa superior de vidrio en la parte superior de la oblea y la fotomáscara para disminuir el espacio entre las dos piezas (Figura 1). Coloque todo el soporte de la oblea en el sistema de exposición a la luz UV disponible como se muestra en la Figura 4E. Exponga la segunda capa durante el tiempo y la intensidad de luz adecuados, tal como se describe en las instrucciones del fabricante de la fotorresistción16.
- Retire el soporte de la oblea del sistema de exposición a la luz UV. Retire la oblea recubierta del soporte de la oblea y desmonte la fotomáscara de la oblea. Completar el procesamiento de la segunda capa (por ejemplo, después de hornear, desarrollar y enjuagar y secar) según las instrucciones del fabricante de la fotorresistción16.
NOTA: El recubrimiento de centrifugado exacto, la cocción suave, la exposición, la post-cocción y las condiciones de desarrollo (tiempo, temperatura) variarán según la fotorresistción que se utilice y el espesor de la capa deseado. Las condiciones reales y el procedimiento exacto de fotolitografía deben basarse en las instrucciones del fabricante de la fotorresistción.
- Preparación de un dispositivo microfluídico utilizando el molde maestro (litografía blanda)
- Recupere el molde maestro y asegúrelo en medio de una placa de Petri de plástico de 150 mm x 15 mm con cinta.
- Prepare ~ 15-20 g de PDMS según las instrucciones del fabricante. Coloque el PDMS en una cámara de vacío o déjelo reposar hasta que esté libre de burbujas. Vierta el PDMS en la placa de Petri que contiene el molde maestro.
- Deje que la placa de Petri con el molde maestro descanse en la encimera hasta que el PDMS esté libre de burbujas. Coloque la placa de Petri en un horno a 65 °C hasta que el PDMS esté completamente curado (al menos 3 h).
- Recorte el PDMS para revelar las estructuras de microcanales. Corte el PDMS alrededor de las estructuras de microcanales en microchips separados y cree los orificios de entrada y salida para el dispositivo microfluídico. Use cinta adhesiva para eliminar suavemente cualquier partícula pequeña que pueda estar en la superficie del PDMS.
- Complete la fabricación del microchip uniendo el chip PDMS al PDMS o un portaobjetos de microscopio tratando con plasma el chip PDMS y el sustrato adicional.
- Determinación del error de alineación
- Recupere el molde maestro y use el microscopio vertical para determinar la distancia de espacio (error de alineación) entre la primera capa y la segunda capa. Haga esto simplemente midiendo la distancia por la cual la segunda capa se desplaza y desalinea de la primera capa en las estructuras de microcanales (consulte la Figura 5D para ver un ejemplo de una distancia de brecha medida).
- Utilice el microscopio vertical para determinar si el chip PDMS contiene paredes de canal rectas con bordes de dispositivo claros. Además, verifique el chip PDMS para detectar posibles defectos que puedan obstaculizar la funcionalidad del dispositivo.
NOTA: Es posible que sea necesario repetir la fabricación del molde maestro (secciones 3.2 y 3.3) para lograr un menor error de alineación. Se ha demostrado que la práctica repetida con el MMAA mejora la capacidad del usuario para crear un molde maestro bien alineado. Además, las imágenes se pueden obtener mediante microscopía electrónica de barrido (SEM)(Figura 7)para confirmar el error de alineación.
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Representative Results
A través de la optimización y el uso del MMAA(Figura 1),se fabricaron moldes maestros multicapa con un error de alineación mínimo. El MMAA final se fabricó utilizando el proceso de impresión 3D de fabricación de filamentos fundidos (FFF)(Figura 2). El proceso FFF confiere una mayor precisión para las dimensiones deseadas del dispositivo. El MMAA consta de dos piezas principales(Figura 3):la pieza base y el cierre personalizado. La pieza base consiste en la unidad de exposición UV, que actúa como el soporte de la oblea. La unidad de exposición UV permite la alineación adecuada de la fotomáscara y la oblea de silicio recubierta. La segunda pieza es el sujetador personalizado que fija el soporte de la oblea a la plataforma del microscopio con imanes. Toda la configuración utilizada para ayudar en la alineación de las capas superior e inferior del molde maestro de doble capa se representa en la Figura 4. Este sistema y el protocolo descrito se utilizaron para la alineación de los marcadores en la fotomáscara con los marcadores en la capa inicial del molde maestro (Figura 6). El molde maestro SU-8 de doble capa para un dispositivo microfluídico con un patrón de espiga se fabricó y se demostró que tenía una distancia de espacio de <5 μm entre las dos capas(Figura 5).
El molde maestro de dos capas(Figura 7A)se utilizó para fabricar microchips PDMS que se pueden ver en la Figura 7D. Las imágenes SEM que se ven en la Figura 7B,C muestran que el dispositivo microfluídico con el patrón de espiga contiene bordes claros, paredes de canal recto y capas bien alineadas, que son esenciales para la funcionalidad adecuada del dispositivo. Además, se creó un molde maestro de cuatro capas con características circulares simples(Figura 8A)utilizando el MMAA para mostrar la alineación exitosa de un molde maestro multicapa. Los datos del perfilómetro(Figura 8B)confirman las cuatro capas distintas del molde maestro. Las mediciones tomadas del error de alineación obtenidas para múltiples entidades de cuatro capas de geometría diferente confirman que el error de alineación no es superior al 5% de la distancia diseñada entre las capas. A partir de las imágenes del dispositivo final, está claro que el error humano durante la fijación de la máscara en el MMAA antes de la exposición a los rayos UV de la segunda capa aumentó la distancia de espacio entre las dos capas del dispositivo y causó una desalineación. Sin embargo, a medida que el usuario se familiariza con el procedimiento, el dispositivo final se puede producir con un error de alineación resultante de <10 μm, como lo confirman los resultados representados.
Figura 1: Diseño de un MMAA imprimible en 3D para microfabricación multicapa. La ilustración representa las dos piezas del MMAA: la unidad de exposición UV y el sujetador de microscopio personalizado. La unidad de exposición UV alberga, en orden descendente, la placa superior de vidrio, que sostiene la fotomáscara contra la oblea; la fotomáscara; y la oblea recubierta de fotorresistción. La unidad de exposición UV se conecta magnéticamente al sujetador de microscopio personalizado, que se conecta a la etapa del microscopio, y luego permite la alineación adecuada de la fotomáscara y la oblea. Abreviaturas: MMAA = adaptador de alineación de máscara de microscopio; UV = ultravioleta. Haga clic aquí para ver una versión más grande de esta figura.
Figura 2: Personalización e impresión 3D de un MMAA y post-procesamiento para un dispositivo completamente curado. (A) Foto de la bandeja del sistema de emisión de luz UV disponible que muestra las mediciones necesarias para personalizar el MMAA. El usuario debe medir el diámetro (d) del borde circular interior, la altura interior (h), el ancho total (w) y la longitud (l) de la bandeja. (B) Después de la personalización, el MMAA debe sentarse plano dentro de la bandeja como se muestra aquí. (C) Ilustración del proceso de impresión 3D FFF. El proceso FFF produce estructuras mediante capas del filamento impreso en 3D. El filamento se deposita en capas delgadas, una encima de la siguiente, hasta que se produce la pieza final impresa en 3D. (D) El curado del MMAA final impreso en 3D en la cámara de curado UV como parte del proceso de post-impresión. Abreviaturas: MMAA = adaptador de alineación de máscara de microscopio; UV = ultravioleta; FFF = fabricación de filamentos fundidos. Haga clic aquí para ver una versión más grande de esta figura.
Figura 3: Piezas impresas en 3D de un MMAA. (A) Dos piezas estaban conectadas por imanes (indicados por rectángulo discontinuo rojo). (B) MMAA que contiene una oblea de silicio recubierta con una fina capa de fotorresistente (SU-8). (C) MMAA con una fotomáscara sobre la oblea de silicio recubierta en preparación para el proceso de alineación. Abreviatura: MMAA = adaptador de alineación de máscara de microscopio. Haga clic aquí para ver una versión más grande de esta figura.
Figura 4: Procedimiento para utilizar un MMAA impreso en 3D para la alineación de la fotomáscara. (A) Después de que el MMAA se haya cargado con la oblea de silicio recubierta de fotorresistente, el MMAA se coloca en el escenario de un sistema de microscopio vertical y se fija al escenario utilizando el sujetador del microscopio magnético como se muestra en la imagen. (B) La fotomáscara se inserta en el MMAA y se conecta a la plataforma de ajuste de dirección z, también conocida como elevador de tijera, a través de uno de los lados del MMAA como se muestra en la imagen. (C) La altura de la plataforma elevadora de tijera se ajusta hasta que la fotomáscara se encuentra justo encima de la oblea de silicio recubierta como se muestra en la imagen. A partir de este punto, la fotomáscara no se mueve hasta que se completa la alineación. (D) Para lograr una alineación perfecta, la posición del MMAA y, por lo tanto, de la oblea de silicio, en la etapa del microscopio se ajusta en las direcciones x e y utilizando las perillas del microscopio como se muestra en la imagen. Las posiciones X e Y de la oblea de silicio se ajustan finamente, mientras que el usuario observa a través de la lente del microscopio hasta que se superponen los marcadores de alineación en la oblea de silicio y la fotomáscara. Una vez que se logra esto, la fotomáscara se puede asegurar a la oblea. (E) Una vez que se logra la alineación, el MMAA se separa cuidadosamente de la etapa del microscopio y se coloca en la bandeja del sistema de exposición a la luz UV. La bandeja se puede cerrar para que la oblea pueda exponerse a la irradiación UV para curar la fotorresistente. Abreviatura: MMAA = adaptador de alineación de máscara de microscopio. Haga clic aquí para ver una versión más grande de esta figura.
Figura 5: Estructura de canal de doble capa creada utilizando el MMAA. El molde maestro de doble capa está diseñado para la producción de dispositivos microfluídicos de espiga con cuatro canales paralelos. (A)Imagen del diseño de la fotomáscara de primera capa, que incluye el contorno de los canales y genera el piso hueco del dispositivo microfluídico. (B) Imagen del diseño de la fotomáscara de segunda capa, que incorpora el patrón de espiga dentro de los canales que recubres el techo del dispositivo microfluídico. (C) La estructura de entrada del molde maestro de doble capa indicada por rectángulos discontinuos rojos en (A) y (B). La imagen muestra una distancia mínima entre las dos capas. (D) Sección del molde maestro de doble capa que muestra una curvatura en el canal indicada por rectángulos discontinuos verdes en (A) y (B). La distancia de espacio entre las dos flechas es de 5 μm. Barras de escala = 100 μm. Abreviatura: MMAA = adaptador de alineación de máscara de microscopio. Haga clic aquí para ver una versión más grande de esta figura.
Figura 6: Resultados de microfabricación con el MMAA. (A) y (B) muestran la alineación de los marcadores en la fotomáscara. Las barras de escala = 200 μm. (C) y (D) son las imágenes correspondientes de los marcadores en la oblea después de la exposición. Barras de escala = 100 μm. Abreviatura: MMAA = adaptador de alineación de máscara de microscopio. Haga clic aquí para ver una versión más grande de esta figura.
Figura 7: El molde maestro preparado utilizando el MMAA y el dispositivo PDMS resultante hecho del molde maestro. (A) Molde maestro de doble capa del dispositivo microfluídico de espiga preparado utilizando el MMAA para lograr la alineación de las capas. (B) y (C) son imágenes SEM del dispositivo de espiga en diferentes escalas con las flechas rojas apuntando a la capa inferior. (D) Dispositivo microfluídico PDMS con patrón de espiga fabricado con el molde maestro de doble capa en (A). Abreviaturas: MMAA = adaptador de alineación de máscara de microscopio; PDMS = poli(dimetilsiloxano); SEM = microscopía electrónica de barrido. Haga clic aquí para ver una versión más grande de esta figura.
Figura 8:Datos de imagen y perfilómetro de un molde maestro de cuatro capas creado con el MMAA. (A) Imagen de un molde maestro de cuatro capas creado utilizando el MMAA que muestra la alineación exitosa de las capas. Se eligieron características circulares simples en tamaño descendente para demostrar la capacidad de alineación del MMAA. Barra de escala = 1.250 μm. (B) Datos del perfilómetro del mismo molde maestro circular de cuatro capas que confirman la presencia de las cuatro capas distintas. Abreviaturas: MMAA = adaptador de alineación de máscara de microscopio. Haga clic aquí para ver una versión más grande de esta figura.
Material suplemantal. Haga clic aquí para ver una versión más grande de esta figura.
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Discussion
El protocolo mencionado anteriormente describe el procedimiento para imprimir en 3D un MMAA y utilizar el sistema para crear un molde maestro de dispositivo microfluídico preciso y multicapa. Aunque el dispositivo es fácil de usar, hay pasos críticos dentro del protocolo que requieren práctica y cuidado para garantizar la alineación adecuada de las capas maestras del molde. El primer paso crítico es el diseño del MMAA. Es esencial al diseñar el MMAA determinar las medidas exactas para el dispositivo que permitirán un ajuste adecuado dentro del sistema de exposición a la luz UV. Una desalineación del dispositivo puede causar una exposición desigual a la luz UV, lo que puede crear deformidades de las características del molde maestro. El segundo paso crítico es tener cuidado al alinear la primera y segunda capa del molde maestro cuando se usa el MMAA. Es imperativo después de alinear la fotomáscara de segunda capa con los marcadores de alineación de la primera capa que el usuario tenga mucho cuidado al fijar la fotomáscara a la oblea y MMAA. Las características del tamaño de micras significan que cualquier pequeña desalineación debido al movimiento de la fotomáscara durante la fijación puede crear errores de alineación que pueden hacer que el dispositivo PDMS final sea inutilizable. Por lo tanto, este paso requiere una precisión que se puede desarrollar con la práctica utilizando el MMAA. El último paso crítico es asegurarse de que no haya espacio entre la fotomáscara y la oblea recubierta para garantizar una exposición uniforme a la luz UV. Esta técnica en el uso del MMAA para crear moldes maestros multicapa está limitada por la atención al detalle y el cuidado del usuario al seguir el protocolo dado, ya que se deben seguir los pasos críticos anteriores para garantizar capas bien alineadas.
Los dispositivos microfluídicos multicapa suelen ser difíciles de producir con poco error a menos que se disponga de equipos de alineación tradicionales. Este equipo es costoso y, debido a su sensibilidad, requiere capacitación especial y, por lo general, un entorno de sala limpia que no siempre está disponible para laboratorios más pequeños. Además, los alineadores de máscaras personalizados publicados anteriormente generalmente requieren la compra y el ensamblaje de muchas piezas diferentes, lo que aún puede hacer que las plataformas sean costosas de producir y difíciles de usar12,13,14. La importancia del MMAA es que es una alternativa fácil de fabricar y rentable al equipo estándar utilizado para la fabricación de dispositivos microfluídicos multicapa. Además, el MMAA no requiere capacitación especial para su uso, ya que su aplicación es bastante simple y utiliza equipos de laboratorio estándar ya presentes en laboratorios que producen y utilizan regularmente dispositivos microfluídicos. Esto permite a los laboratorios pequeños y con recursos limitados producir dispositivos microfluídicos multicapa con una funcionalidad mejorada.
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Disclosures
Los autores no tienen nada que revelar.
Acknowledgments
A los autores les gustaría agradecer al Centro de Experiencias Transformadoras de Pregrado de la Universidad Tecnológica de Texas por proporcionar fondos para este proyecto. Los autores también desean agradecer el apoyo del Departamento de Ingeniería Química de la Universidad Tecnológica de Texas.
Materials
| Name | Company | Catalog Number | Comments |
| Acrylonitrile Butadiene Styrene (ABS), 3D Printing Filament | Provided by the Texas Tech University 3D printing facility | ||
| BX53, Upright Microscope | Olympus | ||
| Form 2, Stereolithography 3D printer | Formlabs | ||
| Advanced Hot Plate Stirrer | VWR | 97042-642 | |
| Isoproyl Alcohol, 70% (v/v) | VWR | BDH7999-4 | |
| Light Colored Marker | Sharpie | ||
| Magnets, 3 mm x 3 mm | WOTOY | ASIN #: B075PLVW8W | |
| SYLGARD 184 Silicone Elastomer Kit | DOW | 4019862 | |
| Petri Dish, 150 mm x 15 mm | VWR | 25384-326 | |
| Printed Photomasks | CAD/Art Services, Inc. | ||
| Aluminum Support Jack - 8" x 8", Scissor Lift | VWR | 12620-904 | |
| Silicon Wafer | University Wafer | 452 | |
| Sodium Hydroxide | VWR | ||
| Sonication Bath | Branson | CPX3800H | |
| Spin Coater | Laurell Technologies Corporation | Model WS-650MZ-23NPPB | |
| STRATASYS SR-30 | MakerBot Industries, LLC | SR-30 | Dissolvable support material for 3D printing |
| Stratasys uPrint SE 3D Printer | Computer Aided Technology, LLC | ||
| SU-8 50 | Kayaku | Y131269 0500L1GL | |
| SU-8 100 | Kayaku | Y131273 0500L1GL | |
| SU-8 Developer | Kayaku | Y020100 4000L1PE | |
| Super glue | Gorilla Glue | ||
| Trichloro(1H,1H,2H,2H-perfluorooctyl)silane | Sigma-Aldrich | 448931-10G | |
| Tape | Scotch | ||
| Form Cure, UV Curing Chamber | Formlabs | FH-CU-01 | |
| UV-KUB2, UV Light-Exposure Box | Kloe | UV-KUB2 |
References
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