Chapters
Summary
Please note that all translations are automatically generated.
Fabrikasjon av elektrisk adresserbare, high-aspekt-ratio (> 1000:1) metall nanotråder adskilt med mellomrom av single nanometer ved hjelp av enten oppofrende lag av aluminium og sølv eller selv-montert monolayers som maler er beskrevet. Disse nanogap strukturer er fabrikkert uten et rent rom eller noen foto-eller elektron-strålen litografiske prosesser ved en form for edge litografi kjent som nanoskiving.
