Login processing...

Trial ends in Request Full Access Tell Your Colleague About Jove
JoVE Journal
Bioengineering

This content is Open Access.

תא דפוסים על photolithographically מוגדר Parylene-C
 
Click here for the English version

תא דפוסים על photolithographically מוגדר Parylene-C: SiO

Article doi: 10.3791/50929
March 7th, 2014

Summary March 7th, 2014

Please note that all translations are automatically generated.

Click here for the English version.

פרוטוקול זה מתאר שיטת microfabrication התואם לדפוסי תא על SiO 2. עיצוב parylene-C מוגדר מראש מודפס photolithographically על SiO 2 הוופלים. תאים לאחר דגירה עם סרום (או פתרון הפעלה אחר) לדבוק במיוחד ל( ולגדול בהתאם להתאמה של) parylene-C שבבסיס, בעוד שנהדף על ידי SiO 2 אזורים.

Read Article

Get cutting-edge science videos from JoVE sent straight to your inbox every month.

Waiting X
simple hit counter