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Area selettiva Modifica della Silicon bagnabilità della superficie da impulsi laser UV irradiazione in ambiente liquido
 
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Area selettiva Modifica della Silicon bagnabilità della superficie da impulsi laser UV irradiazione in ambiente liquido

Article DOI: 10.3791/52720-v 08:48 min November 9th, 2015
November 9th, 2015

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Riportiamo un processo di alterazione in situ di HF trattata Si (001) superficie in uno stato idrofilo o idrofobo irradiando campioni in camere microfluidica riempiti con H 2 O 2 / H 2 O soluzione (0,01% -0,5%) o soluzioni di metanolo per mezzo del laser pulsato UV di un parente a bassa fluenza impulso.

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Ingegneria Numero 105 Silicio bagnabilità della superficie l'interazione laser-superficie l'elaborazione area selettiva laser ad eccimeri spettroscopia fotoelettronica a raggi X angolo di contatto
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