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JoVE Journal Engineering
액체 환경에서의 펄스 자외선 레이저 조사에 의한 실리콘 표면의 젖음성의 선택 영역 수정
Fine-tuning the Size and Minimizing the Noise of Solid-state Nanopores
Journal (Engineering)
Fine-tuning the Size and Minimizing the Noise of Solid-state Nanopores
Enrich and Expand Rare Antigen-specific T Cells with Magnetic Nanoparticles
Journal (Engineering)
Enrich and Expand Rare Antigen-specific T Cells with Magnetic Nanoparticles
 
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액체 환경에서의 펄스 자외선 레이저 조사에 의한 실리콘 표면의 젖음성의 선택 영역 수정

Article DOI: 10.3791/52720-v • 08:48 min • November 9th, 2015
November 9th, 2015 •
1, 1, 1
1Laboratory for Quantum Semiconductors and Photon-based BioNanotechnology, Interdisciplinary Institute for Technological Innovation, Laboratoire Nanotechnologies Nanosystèmes (LN2)- CNRS UMI-3463, Faculty of Engineering, Université de Sherbrooke

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우리는 HF의 시츄 변경이 2 O 2 / H 2 O 용액 (0.01 % -0.5 %) 또는 메탄올 용액 H로 채워진 미세 유체 챔버에서 샘플을 조사함으로써 친수성 또는 소수성 상태의 Si (001) 표면 처리에서의 공정보고 상대적으로 낮은 펄스 UV 플루 언스의 레이저 펄스를 사용.

Tags

공학 판 (105) 실리콘 표면 습윤성 레이저 표면 상호 작용 선택 영역 처리 엑시머 레이저 X 선 광전자 분광법 접촉각
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