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Dépôt de couches atomiques du dioxyde de Vanadium et un modèle optique dépend de la température
 
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Dépôt de couches atomiques du dioxyde de Vanadium et un modèle optique dépend de la température

Article DOI: 10.3791/57103-v 11:10 min May 23rd, 2018
May 23rd, 2018

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Couches minces (100-1000 Å) de dioxyde de vanadium (VO2) ont été créés par le dépôt de couches atomiques (ALD) sur des substrats de saphir. Suite à cela, les propriétés optiques ont été caractérisées par l’intermédiaire de la transition métal-isolant de VO2. Des propriétés optiques mesurées, un modèle a été créé pour décrire l’indice de réfraction accordable de VO2.

Tags

Ingénierie numéro 135 dépôt de couches atomiques mince Film croissance basse température une Transition métal-isolant caractérisation optique indice de réfraction optique
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