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Fabbricazione di diodi Schottky su Zn-polar eterostruttura BeMgZnO/ZnO cresciuto di epitassia da fasci molecolari assistita da Plasma
 
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Fabbricazione di diodi Schottky su Zn-polar eterostruttura BeMgZnO/ZnO cresciuto di epitassia da fasci molecolari assistita da Plasma

Article DOI: 10.3791/58113-v 14:16 min October 23rd, 2018
October 23rd, 2018

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Raggiungimento dei contatti Schottky di alta qualità è di importanza fondamentale per il raggiungimento di modulazione efficiente porta a eterostruttura transistor ad effetto di campo (HFET). Vi presentiamo la metodologia di fabbricazione e le caratteristiche dei diodi Schottky su Zn-polar BeMgZnO/ZnO eterostrutture con gas ad alta densità di elettrone dimensionale due (2DEG), cresciute di epitassia da fasci molecolari assistita da plasma su modelli di GaN.

Tags

Epitassia da fasci molecolari (MBE) ingegneria problema 140 ZnO BeMgZnO gas elettronici bidimensionali (2DEG) campo di eterostruttura effetto transistor (HFET) Ag diodi Schottky
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