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Litografia de feixe de elétrons do nanômetro do dígito com uma aberração corrigida digitalização microscópio eletrônico de transmissão
 
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Litografia de feixe de elétrons do nanômetro do dígito com uma aberração corrigida digitalização microscópio eletrônico de transmissão

Article DOI: 10.3791/58272-v 10:25 min September 14th, 2018
September 14th, 2018

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Nós usamos um aberração corrigida digitalização microscópio eletrônico de transmissão para definir padrões de dígito nanômetros em dois feixes de electrões utilizado resiste: poli (metacrilato de metilo) e silsesquioxane de hidrogênio. Resistir a padrões podem ser replicados em materiais de alvo de escolha com fidelidade dígito nanômetros usando plasma gravura, a decolagem e resistir a infiltração por organometálicos.

Tags

Engenharia edição 139 nanofabricação litografia de feixe de elétrons correção de aberração microscopia eletrônica nanomateriais transferência de padrão resistir e-feixe poli (metacrilato de metilo) silsesquioxane de hidrogênio
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