収差補正走査透過電子顕微鏡と 1 桁台のナノメートルの電子ビーム露光

収差補正走査透過電子顕微鏡を使用して、2 つの広く使われている電子線レジストに 1 桁台のナノメートル パターンを定義する: ポリ (メチルメタクリ レート) と水素シルセスキオキサン。レジスト パターン選択のターゲット材料打ち上げ、エッチング、プラズマを使用して 1 桁台のナノメートル忠実に再現可能し、有機金属錯体による浸透に抵抗します。