Waiting
Login processing...

Trial ends in Request Full Access Tell Your Colleague About Jove
JoVE Journal
Engineering

This content is Open Access.

Однозначных нанометр электронно лучевая литография с исправления аберраций сканирования просвечивающий электронный микроскоп
 
Click here for the English version

Однозначных нанометр электронно лучевая литография с исправления аберраций сканирования просвечивающий электронный микроскоп

Article DOI: 10.3791/58272-v 10:25 min September 14th, 2018
September 14th, 2018

Chapters

Summary

Please note that all translations are automatically generated.

Click here for the English version.

Мы используем аберрация исправлениями сканирования просвечивающий электронный микроскоп для определения шаблонов однозначным нанометров в двух широко используется электронно лучевые сопротивляется: поли (метилметакрилат) и водорода силсесквиоксанов. Противостоять шаблоны могут быть реплицированы в целевой материалы по выбору с верностью однозначным нанометр с помощью liftoff, плазменного травления и сопротивляться проникновению синтезированы.

Tags

Машиностроение выпуск 139 нанотехнологические электронно лучевая литография коррекции аберраций электронная микроскопия наноматериалов шаблон передачи e луч сопротивляться поли (метилметакрилат) водорода силсесквиоксанов
Read Article

Get cutting-edge science videos from JoVE sent straight to your inbox every month.

Waiting X
Simple Hit Counter