Waiting
Login processing...

Trial ends in Request Full Access Tell Your Colleague About Jove
Journal / Chemistry / U2O5 Film forberedelse via UO2 deponering av…
JoVE Journal
Chemistry

This content is Open Access.

JoVE Journal Chemistry
U2O5 Film forberedelse via UO2 deponering av likestrøm Sputtering og påfølgende oksidering og reduksjon med atomisk oksygen og Atom Hydrogen
Protocol for the Synthesis of Ortho-trifluoromethoxylated Aniline Derivatives
Journal (Chemistry)
Protocol for the Synthesis of Ortho-trifluoromethoxylated Aniline Derivatives
In Situ SIMS and IR Spectroscopy of Well-defined Surfaces Prepared by Soft Landing of Mass-selected Ions
Journal (Chemistry)
In Situ SIMS and IR Spectroscopy of Well-defined Surfaces Prepared by Soft Landing of Mass-selected Ions
 
Click here for the English version

U2O5 Film forberedelse via UO2 deponering av likestrøm Sputtering og påfølgende oksidering og reduksjon med atomisk oksygen og Atom Hydrogen

Article DOI: 10.3791/59017-v • 12:05 min • February 21st, 2019
February 21st, 2019 •
1, 1, 1, 1
1European Commission, Joint Research Centre, Directorate for Nuclear Safety and Security

Chapters

Summary
Automatic Translation

Please note that all translations are automatically generated.

Click here for the English version.

Denne protokollen presenterer utarbeidelse av U2O5 tynne filmer innhentet i situ under svært høy vakuum. Prosessen omfatter oksidering og reduksjon av UO2 filmer med atomisk oksygen og Atom hydrogen, henholdsvis.

Tags

Kjemi problemet 144 U2O5 UO3 UO2 film DC sputtering røntgen photoemission spektroskopi oksidasjon reduksjon
Read Article

Get cutting-edge science videos from JoVE sent straight to your inbox every month.

Waiting X
Simple Hit Counter