Cuprates와 철 기반 초전도체에 고온 초전도 양자 문제¹^,²의 흥미로운 상태입니다. 이해 초전도 주요 과제는 전자 nematic 및 smectic 단계 (전자의 회전 및 변환 대칭 끊기)와 같은 다양 한 깨진된 대칭 상태의 로컬로 얽혀 자연 초전도³^,^,⁴⁵^,^,⁶⁷. 조작과 고의적인 튜닝이 깨진된 대칭의 이해 및 초전도 제어 핵심 목표 이다.

제어 변형, 단축 및 biaxial, 압축된 문제 시스템⁸^,^,⁹¹⁰^,¹¹^,¹²^{, 집단 전자 상태를 조정 하는 확고 기술입니다.} ¹³^,¹⁴^,¹⁵^,^,¹⁶¹⁷^,¹⁸^,¹⁹^,²⁰^,²¹^, ²². 이 깨끗 한 튜닝, 화학도 핑을 통해 장애의 소개 없이 일반적으로 다양 한 종류의 실험에 대량 전자 속성²³^,^,²⁴²⁵^,^{26 조정}. 예를 들어 매치 압력 nematic 상전이 철 기반 초전도체의 초전도 구조, 자석, 및 Sr₂RuO₄¹³ 에 cuprates²⁷ 에 엄청난 효과를 입증 했다 ¹⁰ ^, ¹⁴ ^, ²⁸ ^, ²⁹ 그리고 최근 SmB₆²⁴의 토폴로지 상태 튜닝에서 설명 되었다. 그러나, 표면에 민감한 기법, STM 등 각도 해결 광전자 방출 분광학 (ARPES) 스트레인의 사용에 제한 해 라 성장 박막 일치 하지 않는 기판²⁶^,³⁰에 되었습니다. 표면에 민감한 실험에 단일 결정에 긴장을 적용 하 여 주요 과제는 초고 진공 (UHV)에 긴장된 샘플을 쪼개 다 필요가. 지난 몇 년 동안, 대체 방향 압 스택⁹^,¹⁰^,^,¹⁸³¹ 에 또는 열 확장^{19의 다른 계수 접시에 얇은 샘플을 에폭시 하고있다} ^,³². 그러나 두 경우 모두, 적용 된 스트레인의 크기 매우 제한 됩니다.

여기 우리 제약 없이 샘플 (압축 변형)을 변형 하 고 동시에 STM을 사용 하 여 그것의 표면 구조를 시각화 하는 연구자 수 있도록 새로운 기계 단축 긴장 장치의 사용을 보여 줍니다 ( 그림 1참조). 예를 들어, 사용 하는 철_{1 +}_yTe의 단일 결정 어디 y = 0.10, (y는 과잉 철 분 농도) 철 칼코게나이드 초전도체의 부모 화합물. T_N 아래 = ~ 60 K, Fe_{1 +}_y테 변환 높은 온도 상자성 상태에서 낮은 온도는 bicollinear 스트라이프 자기 순서²⁶^,³³ ^{와 antiferromagnetic 상태}³⁴ ( 그림 3A, B참조). 마그네틱 전환 추가 동반 된다 구조 전환 정방에서 단사²⁶^,³⁵. 비행기에서 AFM 순서 orthorhombic 구조³⁴의 긴 b 방향을 따라 가리키는 스핀 구조와 detwinned 도메인을 형성 합니다. 스핀 편광 STM와 AFM 순서를 시각화, 여 우리 unstrained Fe_{1 +}_y테 샘플에서 양방향 도메인 구조를 조사 하 고 그들의 전환을 적용 받으며 하나의 큰 도메인으로 관찰 ( 에서 회로도 참조 그림 3 C-E). 이러한 실험 주사 터널링 현미경 샘플 및 표면 구조의 동시 이미징의 고착, 여기에 제시 된 단축 긴장 장치를 사용 하 여 단일 결정의 성공적인 표면 조정 표시. 그림 1 도식 도면 및 기계 긴장 장치의 사진을 보여준다.

이 프로토콜은 스캐닝 터널링 현미경 검사법과 함께 단축 균주 장치의 통합의 시각화이기 때문에 중요합니다. 여기에는 변형을 적용하고 SDM에서 구조 도메인의 조작을 시각화하는 작업이 모두 포함됩니다. 이 기술의 주요 장점은 기계 장치이기 때문에 증가된 양의 변형을 허용한다는 것입니다.

표면 효과는 스캐닝 터널링 현미경을 사용하여 시각화할 수 있습니다. 고온 초전도체에서는 고온 초전도체에서 고의적으로 고공대적 상태를 조정하고 조작하여 초전도성을 제어하고 이해할 수 있습니다. 이 공정은 단일 결정이며 SDM 호환되는 경우 모든 재료에 적용할 수 있습니다.

얼마나 많은 변형을 달성할 수 있는지 를 포함하여 다양한 조건에 대한 설정의 응답을 결정하기 위한 장치 테스트가 많이 있습니다. 그것은 당신이 하고있는 일에 대한 인내와 절대적인 이해가 중요한 매우 도전적인 실험입니다. 이 프로세스의 시각적 데모는 복잡한 프로세스인 SDM을 사용하여 설명된 장치를 만들고 사용하는 데 대한 통찰력을 제공하기 때문에 매우 중요합니다.

먼저 U자형 장치를 분해하여 아세톤에 넣습니다. 장치, 마이크로미터 나사, 벨빌 스프링 디스크 및 베이스 플레이트를 20분 동안 초음파 처리하여 청소합니다. 그런 다음, 이소프로판올로 옮기고 추가 로 20 분 동안 초음파 처리하십시오.

일단 깨끗해지면 기기 부품을 오븐에 15-20분 간 구워 물 잔류물을 제거하고 탈가스를 제거합니다. 그런 다음 날카로운 면도날을 사용하여 철 텔루륨 샘플을 크기가 0.1 밀리미터 씩 2 밀리미터로 절단합니다. 마지막으로 부품을 함께 조립합니다.

U 내부의 개구부는 1mm이며 장치 측면에 위치한 마이크로미터 나사 쌍으로 작거나 크게 조정할 수 있습니다. 두 개의 별도 요리에서 에폭시 데이터 시트의 지침에 따라 실버 에폭시와 비 전도성 에폭시를 혼합하십시오. 그런 다음, 실버 에폭시의 얇은 층을 적용하여 전기 접점을 만들고 1밀리미터 간격을 가로질러 샘플을 장착하여 긴 축이 철 텔루리움 샘플의 b 축을 따라 지향되도록 합니다.

샘플 홀더와 샘플을 대류 오븐에 넣고 15분 동안 구워 에폭시를 다시 치료합니다. 샘플이 냉각되면 샘플이 장치에서 단단히 지원되도록 비 전도성 에폭시로 양면을 덮습니다. 그런 다음 에폭시를 치료하기 위해 오븐에 다시 넣습니다.

광학 현미경을 사용하여 모든 각도에서 샘플의 위치를 검사하여 간격을 가진 샘플의 측면의 평행 정렬을 확인합니다. 이제 모든 것이 준비되면 샘플

단축 긴장 조작 Fe<sub>1 +</sub><em><sub>Y</sub></em>테 스핀 편광 스캔 터널링 현미경을 사용 하 여 Antiferromagnetic 도메인의 시각화