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JoVE Journal
Bioengineering

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JoVE Journal Bioengineering
Focalizzata la litografia del fascio ionico per esacire di nano-architetture nei microelettrodi
Author Spotlight: Development of a Novel Finite Element Analysis Model for Improved Orthognathic Surgical Techniques
Journal (Bioengineering)
Author Spotlight: Development of a Novel Finite Element Analysis Model for Improved Orthognathic Surgical Techniques
Monitoring the Reductive and Oxidative Half-Reactions of a Flavin-Dependent Monooxygenase using Stopped-Flow Spectrophotometry
Journal (Bioengineering)
Monitoring the Reductive and Oxidative Half-Reactions of a Flavin-Dependent Monooxygenase using Stopped-Flow Spectrophotometry
 
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Focalizzata la litografia del fascio ionico per esacire di nano-architetture nei microelettrodi

Article DOI: 10.3791/60004-v • 13:49 min • January 19th, 2020
January 19th, 2020 •
1, 2,4, 5, 6, 2,3,4
1Department of Electrical Engineering and Computer Science, University of Michigan, 2Veteran Affairs Ann Arbor Healthcare System, 3Department of Neurology, School of Medicine, University of Michigan, 4Department of Biomedical Engineering, University of Michigan, 5Michigan Center for Materials Characterization, University of Michigan, 6Carl Zeiss SMT, Inc.

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Abbiamo dimostrato che l'incisione della nano-architettura nei dispositivi intracorticali di microelettrodi può ridurre la risposta infiammatoria e ha il potenziale per migliorare le registrazioni elettrofisiologiche. I metodi descritti qui delineano un approccio per incidere le nano-architetture nella superficie di microelettrodi intracorticali in silicio a stilo non funzionali e funzionali.

Tags

Bioingegneria Problema 155 Litografia del fascio ionico focalizzato microelettrodi intracorticali nano-architettura elettrofisiologia neuroinfiammazione biocompatibilità
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