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Renderización de superficies SiO2/Si omnifóbicas por el tallado microtexturas que atrapan el gas que comprende cavidades o pilares reentrantes y doblemente reentrantes
 
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Renderización de superficies SiO2/Si omnifóbicas por el tallado microtexturas que atrapan el gas que comprende cavidades o pilares reentrantes y doblemente reentrantes

Article DOI: 10.3791/60403-v 08:02 min February 11th, 2020
February 11th, 2020

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Este trabajo presenta protocolos de microfabricación para lograr cavidades y pilares con perfiles reentrantes y doblemente reentrantes en wafers SiO2/Si utilizando fotolitografía y grabado en seco. Las superficies microtexturizadas resultantes demuestran una notable repelencia líquida, caracterizada por una sólida atrapadura a largo plazo del aire bajo líquidos humectantes, a pesar de la humectabilidad intrínseca de la sílice.

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Ingeniería Número 156 humectación omoficidad cavidades/pilares reentrantes y doblemente reentrantes microtexturas que atrapan gas (GEM) fotolitografía grabado isotrópico grabado anisotrópico crecimiento de óxido térmico grabado de iones reactivos ángulos de contacto inmersión microscopía confocal
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