Waiting
Login processing...

Trial ends in Request Full Access Tell Your Colleague About Jove
JoVE Journal
Bioengineering

This content is Open Access.

Funcionalización suaves litográfica y Patrones libre de óxido de silicio y el germanio
 
Click here for the English version

Funcionalización suaves litográfica y Patrones libre de óxido de silicio y el germanio

Article DOI: 10.3791/3478-v 12:38 min December 16th, 2011
December 16th, 2011

Chapters

Summary

Please note that all translations are automatically generated.

Click here for the English version.

A continuación se describe un método sencillo para modelar funcionalización libres de óxido de silicio y germanio con reactivos orgánicos monocapas y demostrar de los sustratos con dibujos de pequeñas moléculas y proteínas. El enfoque completamente protege las superficies de oxidación química, proporciona un control preciso sobre la morfología característica, y proporciona acceso rápido a los patrones discriminar químicamente.

Tags

Bioingeniería número 58 la litografía blanda impresión por microcontacto arreglos de proteínas la impresión de catalizador de óxido de silicio libre
Read Article

Get cutting-edge science videos from JoVE sent straight to your inbox every month.

Waiting X
Simple Hit Counter