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Bioengineering

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La fonctionnalisation douce lithographiques et les motifs sans oxyde silicium et de germanium
 
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La fonctionnalisation douce lithographiques et les motifs sans oxyde silicium et de germanium

Article DOI: 10.3791/3478-v 12:38 min December 16th, 2011
December 16th, 2011

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Nous décrivons ici une méthode simple pour la modélisation sans oxyde de silicium et de germanium fonctionnalisation avec des monocouches organiques réactifs et de démontrer des substrats à motifs avec des petites molécules et des protéines. L'approche protège complètement les surfaces de l'oxydation chimique, fournit un contrôle précis de la morphologie caractéristique, et fournit un accès facile à des modèles chimiquement discriminés.

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Bioengineering Numéro 58 lithographie douce impression par microcontact puces à protéines l'impression de catalyseur l'oxyde de silicium libre-
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