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Micropunching Lithographie zur Erzeugung von Mikro-und Submikron-Muster auf Polymersubstrate
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Micropunching Lithographie zur Erzeugung von Mikro-und Submikron-Muster auf Polymersubstrate

Article DOI: 10.3791/3725-v • 09:24 min • July 2nd, 2012
July 2nd, 2012 •
1, 1, 1
1Mechanical and Aerospace Engineering, University of Texas at Arlington

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Ein micropunching Lithographie Ansatz wurde entwickelt, um Mikro-und Submikron-Muster auf der Oberseite, Seitenwand-und Bodenflächen der Polymer-Substraten zu erzeugen. Sie überwindet die Hindernisse der Strukturierung leitfähiger Polymere und Erzeugung Seitenwand Muster. Diese Methode ermöglicht eine schnelle Fertigung von mehreren Funktionen und ist frei von aggressiven Chemie.

Tags

Maschinenbau Ausgabe 65 Physik micropunching Lithographie leitfähige Polymere Nanodrähte Seitenwand Muster Mikrolinien
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