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Chemistry

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Fabricating Nanogaps durch Nanoskiving
 
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Fabricating Nanogaps durch Nanoskiving

Article DOI: 10.3791/50406-v 07:36 min May 13th, 2013
May 13th, 2013

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Die Herstellung von elektrisch adressierbaren, high-aspect-ratio (> 1000:1) Metallnanodrähte durch Lücken einzelner Nanometer entweder mit Opferschichten aus Aluminium und Silber oder selbstorganisierten Monoschichten als Vorlagen getrennt beschrieben. Diese Nanogap Strukturen werden ohne Reinraum oder ein beliebiges Foto-oder Elektronenstrahl-Lithographie-Prozesse durch eine Form der Kante als Lithographie bekannt Nanoskiving hergestellt.

Tags

Chemie Werkstoffkunde Chemieingenieurwesen Elektrotechnik Physik Nanotechnologie Nanostrukturen (elektronisch) Nanoskiving Nanogaps Nanofabrikation molekulare Elektronik Nanodrähte Fertigung Radierung Ultramikrotom Rasterelektronenmikroskopie SEM
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