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Medición de la distribución de las microescenas a escala nanométrica a partir del muestreo
Nanofabrication of Gate-defined GaAs/AlGaAs Lateral Quantum Dots
Journal (Engineering)
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Metal-Assisted Electrochemical Nanoimprinting of Porous and Solid Silicon Wafers
Journal (Engineering)
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Medición de la distribución de las microescenas a escala nanométrica a partir del muestreo

Article DOI: 10.3791/55739-v • 06:56 min • May 23rd, 2017
May 23rd, 2017 •
1, 1, 1
1Research Institute for Measurement and Analytical Instrumentation, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST)

Chapters

Summary
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Se presenta aquí una técnica de moiré de muestreo con métodos de muestreo de 2 píxeles y multipíxeles para medidas de distribución de deformación de alta precisión a escala micro / nano.

Tags

Ingeniería Número 123 Distribución de deformación medición de deformaciones moiré de muestreo procesamiento de imágenes método óptico micro / nanoescala materiales compuestos
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