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ポリジメチルシロキサン マイクロ流体デバイスに埋め込まれた非長方形断面のチャンネルの作製には、いくつかの方法があります。それらのほとんどは、多段階の製造と広範な配置を含みます。本稿でワンステップ アプローチはポリジメチルシロキサン シーケンシャル ウェット エッチングによって異なる幾何学的な断面のマイクロ チャネルの作製のために報告されます。