U₂O₅ Film préparation via UO₂ dépôt par pulvérisation de courant continu et l’oxydation Successive et réduction avec l’oxygène atomique et de l’hydrogène atomique

Ce protocole présente la préparation de U₂O₅ couches minces obtenues in situ sous ultravide. Le processus implique oxydation et réduction des films₂ UO avec l’oxygène atomique et de l’hydrogène atomique, respectivement.