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Niobium ऑक्साइड फिल्म्स प्रतिक्रियाशील sputtering द्वारा जमा
Scaled-Up Preparation of an Intermediate of Upatinib, ACT051-3
Journal (Chemistry)
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Exfoliation and Analysis of Large-area, Air-Sensitive Two-Dimensional Materials
Journal (Chemistry)
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Niobium ऑक्साइड फिल्म्स प्रतिक्रियाशील sputtering द्वारा जमा: ऑक्सीजन प्रवाह दर का प्रभाव

Article DOI: 10.3791/59929-v • 08:23 min • September 28th, 2019
September 28th, 2019 •
1, 2, 2, 2, 1, 2
1Chemistry Department, Federal University of São Carlos (UFSCAR), 2Physics Department, School of Sciences, São Paulo State University (UNESP)

Chapters

Summary
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यहाँ, हम perovskite सौर कोशिकाओं में एक इलेक्ट्रॉन परिवहन परत के रूप में उपयोग के लिए विभिन्न ऑक्सीजन प्रवाह दरों के साथ प्रतिक्रियाशील sputtering द्वारा निओबियम ऑक्साइड फिल्मों के लिए एक प्रोटोकॉल प्रस्तुत करते हैं.

Tags

रसायन विज्ञान अंक 151 niobium ऑक्साइड फिल्म प्रतिक्रियाशील sputtering कॉम्पैक्ट फिल्मों इलेक्ट्रॉन परिवहन परत चालकता perovskite सौर सेल
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