Summary
采用高分辨率 MALDI 质谱和单核苷酸扩展策略, 建立了 dna 聚合酶校对和 dna 修复实验的非标记非射电同位素方法。试验证明是非常具体, 简单, 快速, 并易于执行校对和修复补丁短于 9-核苷酸。
Abstract
维持基因组及其忠实的复制对保存基因信息至关重要。为了评估高保真度复制, 我们开发了一种简单的无标记和非无线电同位素方法, 利用矩阵辅助激光解吸电离与飞行时间 (MALDI) 质谱 (MS) 分析进行校对研究。在这里, 一个 DNA 聚合酶 [例如,克莱诺片段 (KF) 大肠杆菌 DNA 聚合酶 i () 在本研究中] 在所有四 dideoxyribonucleotide triphosphates 的存在, 用于处理不匹配的底漆模板双工。不匹配的底漆, 然后校对/延长和受 MALDI 的 MS。产品由底漆的质量变化区分到单核苷酸变异。重要的是, 校对也可以确定内部单一的不匹配, 虽然在不同的效率。2-4-核苷酸 (nt) 从 3 ' 年底的不匹配是有效地校对了由我, 和不匹配的 5 nt 从底漆总站只显示了部分更正。在 6-9 nt 从底漆 3 ' 末端没有校对发生内部不匹配。这种方法也可应用于 DNA 修复化验 (例如,评估内 V 修复通路基底损伤修复)。含 3 ' 倒数 deoxyinosine (dI) 病灶的底漆可由 i. 型矫正。事实上, 倒数第二 T i、G i 和 i 基板在添加正确的 ddN 5 '-单磷酸 (ddNMP) 之前, 有他们最后的 2 dI 含核苷酸, 而倒数第二个 C i 的不匹配是由我来容忍的, 允许引伸不修复, 显示的敏感性和分辨率的 MS 化验, 以测量 DNA 修复。
Introduction
dna 聚合酶在 dna 复制过程中的校对功能对于确保需要转移到后代1、2、3、4的遗传信息的高保真度至关重要, 5,6,7。能够评估聚合酶校对 exonucleases 的贡献将澄清保护遗传稳定性的机制。
放射性同位素标记和凝胶检测结合密度分析的 autoradiograms 或荧光粉成像8,9,10历来被用来检测 DNA 校对活动聚合 酶。虽然功能, 这些化验是费力的, 昂贵的, 不适合高通量格式。此外, 放射性同位素还遭受安全问题, 包括废物处理。另外, 通过荧光技术对校对活动进行了分析。例如, 2-aminopurine (2-AP) 可纳入延伸产品在体外聚合酶校对化验, 以产生荧光信号11,12。不幸的是, 这些方法受到低特异性, 因为 2 AP 可以对嘧啶和胞嘧啶。最近的方法包括一个敏感的基于 G 四的荧光开关探针, 用于聚合酶 3 '-5 ' exonuclease 检测13以及一个单一标记的荧光探针, 用于聚合酶校对试验, 克服了一些上述缺点14。由于需要对 DNA 基质进行特异标记, 因此对这些荧光方法的热情减弱。
与此相反, MALDI 的 DNA 分析的 MS 已经被应用于精确检测中, 在那里, 用未标记的 4 ddNTPs 的底漆延伸反应可以用来识别给定轨迹15、16、17和已广泛应用于临床应用的突变检测和癌症诊断18。利用这些基本原理, 我们建立了一个无标签的检测 DNA 聚合酶校对活动利用高分辨率, 高特异性和高通量潜力的 MALDI. 使用E。大肠杆菌DNA 聚合酶 I 克莱诺片段作为一种模型酶, dideoxyribonucleotide triphosphates (ddNTPs) 作为基质可以采取 "快照" 的校对产品后, 单核苷酸延长通过MALDI-飞行 MS (图 1)。
同样, 这种方法也被开发用于 DNA 修复化验, 其中含有 3 ' 倒数二 dI 病变的底漆受到一项模拟中 V 型修复中间体的一项检测。虽然不完全理解, 内 V 修复通路是唯一的修复系统, 已知使用的 exonuclease 的病灶切除19,20。使用 MALDI 的 MS, 我们显示一个明确定义的修复补丁, 其中 dI 可以被切除的第一个 2 nt 的底漆, 然后添加正确的补充核苷酸。
对于校对和 DNA 修复的研究, 该方法比以往的方法更快、更费力, 为机制和功能提供了补充信息。
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Protocol
1. 底漆/模板准备
- 设计引物/模板与平衡的 G + C 内容之间的40% 和60% 之间的排序或 PCR 底漆设计。使用18到 21 nt 的引物进行适当的退火和更好的 MS 信号。
- 设计模板, 设置50°c 为双工区域的最小熔化温度, 至少 7 nt 5 '-悬置, 以分离的信号之间的底漆和模板。
注: 例如, 对于表 1中的基板 P21/T28, 21-nt 底漆与 28 nt 模板配对。选项: 使用替代核酸 (如核酸酶抗硫代核苷酸键) 替换模板 3 ' 端上的最后4磷酸二酯键, 可以防止模板的非特定 3 ' 端退化可能造成的干扰 (例如,表 1中的 T28S4), 虽然这将增加模板准备的一些成本。 - 采用标准淡化寡核苷酸无进一步纯化, 对本研究是满意的。使用寡核苷酸底漆/模板集中 100 pmol/µL 在 H2O 作为一个股票, 并存储在-20 摄氏度。检查底漆和模板的质量和纯度, 通过运行 MALDI 的寡核苷酸 (步骤 4-7), 以确保独特的峰值信号和良好的信噪比。
- 确定校准和浓度规范化反应中相关序列的相等摩尔引物的相对 MALDI 的 MS 信号强度 (步骤 7) (图 2)。
2. 校对反应
注: 相同的校对反应条件和协议适用于 DNA 修复 i、G i、C i 和 T i。
- 用 P21/T28 基板的 T G 错配作为表 1中校对的一个例子, 稀释底漆 P21 和模板 T28 到 12.5 pmol/µL 与 H2O;然后将稀释底漆的12µL 和12µL 稀释后的模板转移到1.5 毫升的灭菌离心管上。
注: 模板/底漆组合量足以应付2反应;相应地增加试剂的容量为多反应。 - 紧紧地关上管子。在65°c 的水浴中孵化30分钟, 然后在37°c 的水浴中再加30分钟, 最后在冰上确保适当的退火。
- 对1.5 毫升灭菌离心管, 添加8µL 的底漆和模板组合 (50 pmol), 2 µL 10x 校对反应缓冲器, 4 µL 的 4 ddNTPs 混合 (2 毫米的每 4 dNTPs), 和 H2O 高达18µL. 轻弹管子混合。
注: 1x 校对反应缓冲器包含50毫米氯化钠, 10 毫米氯化镁2, 1 毫米 dithiothreitol, 10 毫米三盐酸 (pH 7.9 在25°c)。参见材料表为商业来源的10x 校对反应缓冲器。反应中每个 ddNTP 的最终浓度为0.1 毫米。 - 稀释的 DNA 聚合酶在冰冷的1x 校对反应缓冲到期望的浓度 [例如, 到一个1.5 毫升的离心管, 添加4µL 1x 校对反应缓冲器和1µL 5 U 克莱诺聚合酶从商业来源 (表材料)]。随时将稀释后的酶储存在冰上。
注: 稀释后的 DNA 聚合酶的用量足以应对2反应;相应地增加酵素的容量为多反应。体积为2.0 µL, 含2.0 克莱诺聚合酶, 可以校对超过 50 pmol 的 T G 终端不匹配 P21/T28 在5分钟。 - Prewarm 离心管与基质混合从步骤2.3 到预期的反应温度 (例如, 通常为37°c 为克莱诺聚合酶和25°c T4 DNA 聚合酶)。然后将稀释后的 DNA 聚合酶的2.0 µL 从步骤2.4 转移到 prewarmed 基质混合物中, 然后轻轻地将管子混合在一起。
- 在室温下, 用酶和基片离心出几秒钟, 在 3200 x g 处旋转反应的成分。立即转移反应到加热块或水浴在期望的孵化温度和在步骤2.5。
-
终止反应
- 添加等量的缓冲苯酚, 将其混合涡流几秒钟, 并将其离心在离心 3200 x g 的环境温度5分钟。
- 将水相转移到干净的离心管, 加入等量的氯仿, 将其混合涡流几秒钟, 并将其离心在离心 3200 x g 处, 室温下3分钟. 将水相转移到干净的离心管中, 并在cubate 它在95°c 为5分钟;然后把它放在冰上。
注意: 苯酚和氯仿是危险化学品。处理和废物处置应遵循制度规定。
- 将水相转移到干净的离心管, 加入等量的氯仿, 将其混合涡流几秒钟, 并将其离心在离心 3200 x g 处, 室温下3分钟. 将水相转移到干净的离心管中, 并在cubate 它在95°c 为5分钟;然后把它放在冰上。
- 或者, 使用酸性淬火协议。为此, 添加2µL 1 米 HCl 停止在冰上的反应6分钟, 然后添加0.64 µL 1 M 二乙醇胺 (DEA), 以中和的 pH 值的反应混合物和孵化它在95°c 为5分钟;然后把它放在冰上。
- 添加等量的缓冲苯酚, 将其混合涡流几秒钟, 并将其离心在离心 3200 x g 的环境温度5分钟。
3. 树脂除盐污染
- 使用的树脂铲从商业脱盐套件 (见材料表), 采取足够的树脂覆盖384酒窝, 6 毫克树脂酒窝板的酒窝。
- 通过刮过盘子的顶部, 均匀地 (6 毫克/酒窝) 将树脂分散在所有的酒窝上。回收任何多余的树脂, 并将其替换在瓶子中。
- 将2.7 步的最终反应产物从离心管转移到384井板上。分配16µL 的 H2O 稀释最终反应产物在每个井, 然后密封板和离心机, 以消除任何泡沫。
- 取下密封, 将384井板与反应产物倒置, 盖上树脂填充的酒窝板。
- 翻转好的酒窝板三明治, 并小心地让树脂滴入384井板 (确保384井板是冲对金属钉在树脂填充的酒窝板)。
- 除去顶部的酒窝板, 封住含有反应产物和树脂混合物的384井板, 简单地将其离心在 3200 x g 上, 以除去任何气泡, 并将其放在转子上, 使其在室温下进行脱盐, 以淡化其含量。
- 树脂清理后, 离心384井板 3200 x 克5分钟, 将树脂压缩到井底。
4. 将反应产物转移到矩阵芯片上
- 在 nanoliter 分配器 (nanodispenser, 见材料表) 中设置样品板。
- 把矩阵芯片 (见材料表) 和384井板从3.7 节在相应的托盘。
- 操作 nanodispenser, 以发现反应产物到芯片;按 nanodispenser 的触摸屏上的 "运行" 按钮开始。
- 检查在屏幕上包含饱和信息的样本点的自动捕获图像, 以确保芯片上的总斑点体积约为 5-10 nL。如果音量不足, 请重复取样。
5. 建立质谱检测信息
- 准备包含导入的预期信号信息的. xls 格式的文件。例如, 在步骤2、3和4中使用 "P21_T28" (表 2) 中的 P21/T28 校对反应的设置。
- 通过在设计器格式中右键单击导入检测组, 并从步骤5.1 中选择. xls 文件 (例如, "P21_T28"), 在应用程序程序中创建并定义新的检测方法 (参见材料表)。
- 通过右键单击树顶并给它一个文件名 (例如, "CTT20171201" 表示检测代码和日期),通过屏幕左侧的Customer:Project:Plate选项树建立目标检测板。
- 选择384井板类型, 按OK;将出现一个空白的盘子。
- 在屏幕左侧选择适当的化验 (如P21_T28)。
- 通过突出显示井和右键单击以选择添加丛, 为芯片上的每个样本斑点样本位置分配选定的检测 (例如, P21_T28)。
- 在 xlsx 格式的芯片上编写所有测试的工作列表, 没有页眉 (例如表 3的 1201.xlsx)。通过"添加新示例项目" 选项导入工作列表。
- 在工作列表中分配测试 (例如, 从 1201.xlsx) 到 P21_T28 检测的每个位置, 然后通过右键单击选择。
6. MALDI MS 手术
- 使用应用程序将质谱仪与芯片连接 (见材料表)。
- 选择屏幕右侧的默认设置。
- 从步骤 5.3 (例如, CTT20171201) 中填充检测名称, 在芯片的拐角处输入芯片 ID, 并保存设置。
- 启动 MS 控制程序 (参见材料表)。
- 按进/出按钮, 取出侦察盘。将斑点芯片从步骤4.4 放置到侦察板上, 然后按进/出按钮, 使斑点芯片进入质谱仪。
- 单击应用程序的 "获取" 按钮 (参见材料表) 以启动质谱并获取数据。
7. 数据分析
- 打开数据分析程序 (见材料表)。
- 浏览左上角数据库的树, 然后从步骤6.3 中选择芯片 ID。打开屏幕右侧的数据文件。
- 单击频谱图标以显示质量频谱。若要裁剪特定范围的 m/z, 请右键单击以选择"自定义" 对话框, 然后在 "新建" 窗口中单击X 轴并设置所需的上限和下限, 然后按"确定" 以显示指定范围的频谱。
- 通过右键单击导出, 导出用于记录保留的频谱。
注: 使用 1600 width/1,200 单位的刻度是计算机屏幕上数据检查的合理尺寸。- 选择 JPEG 文件类型, 单击目标, 选择浏览光盘(例如, 闪存盘 e:), 键入文件名 (例如, 1201-1. jpg), 然后单击 "导出"。
- 对于数据定量, 请使用光标并单击峰值以显示左上角的峰值高度。
- 或者, 打印导出的 JPEG 文件, 并手动使用标尺测量峰值高度。
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Representative Results
模板和底漆:
使用此处介绍的程序, 检查了从商业来源获得的等摩尔合成寡核苷酸模板和相关序列的引物, 以确定其纯度和质量 (图 3A; 注意匹配指定质量的信号和低背景) 以及峰值强度与分析物质量之间的关系 (图 2A)。测量和计算了峰值高度 (图 2B), 用于 MS 数据规范化。
反应条件和质谱:
使用标准的 ddNTPs 终结器17, MALDI 的单基引伸反应加上与飞行时 MS 进行基因分型的方法已经证明是可行的。使用标准 ddNTPs 的校对方法类似于基因分型的 singleplex 反应, 但更简单、很容易执行, 以获得清洁可靠的结果。
MS 谱涵盖了引物和模板产生的所有信号 (图 3)。底漆和模板的正确设计为模板和引物生成了一个分离良好的信号剖面 (图 3)。根据 m-/z 值, 模板及其非特定部分降解产品 (m-/z > 7000) 的信号与不匹配的底漆和校对产品 (图 3中的 m/z < 7000) 很好地分离。如有必要, 引入核酸酶抗硫代核苷酸债券, 以取代最后4磷酸二酯债券在 3 ' 年底的模板 (表 1;T28S4/P21) 可以减少非特定模板水解 (图 3G; d27)。
在没有 dNTPs 的情况下, KF 有一个健壮的 3 '-exonuclease, 并有能力降解的底漆和模板的体外21。与本机 4 dNTPs 一样, 添加 4 ddNTPs 可防止通过 KF (图 3C和3E) 的 3 "端退化"。同样, 3 '-末端的一个核苷酸延伸增加了底漆的稳定性。使用了前述20与 10 U (46 pmol) KF 的 I 校对条件, 50-pmol 不匹配的基板的80% 被改正了在5分钟 (图 3C, 3E和3G)。
中间体及机理分析:
MALDI MS 分辨率可与1道尔顿一样罚款;事实上, 所有的基质, 产品和中间体的反应质量的变化, 可以解决在相同的 MS 频谱的选择范围。例如, 在终端 T G 不匹配, 在底漆总站的不匹配的 G 被改正了与 a 的 m/z 区别仅32的 ddA。在 m/z 范围内, 可以很容易地从5000到7000的 MS 频谱识别出这种 m-/z 差 (图 4A)。每个信号的变化可以通过对不匹配的底漆、切除中间体和校对产品的所有信号进行汇总来计算, 100%。例如, 在 T G 校对反应中, 相对于切割产品的校正后的产品是 23% vs 17% 在5分钟, 31%与18% 在10分钟, 69% 与 14% 在20分钟 (图 4A)。
当底漆中存在倒数第二个 T G 不匹配时, 最后 2 nt 应切除后再进行一个 ddA 加法以完成校正。的确, 正确的产品从12% 在5分钟增加了, 28% 在10分钟, 到45% 在反应的 20 min。此外, 两种形式的切除产品为倒数第二次的 T G 校对, 1 nt 切除中间体和 2 nt 切除产品, 是容易解析 (图 4B)。
单 dNTP 校对动力学:
对于大肠杆菌DNA, ddNTPs 是不适宜的基质, 应视为抑制剂22。或者, 在校对反应中使用单一的 "正确" dNTP, 也会抑制非特定的 3 '-5 ' exonuclease 活动和生成适合 MS 分析的单核苷酸扩展产品 (图 5B)。从含有单个 dCTP 的反应中获得的校对速率大约比包含 4 ddNTPs (图 5A、 5B和5C) 的反应高两倍。因此, 在校对试验中使用单一的 "正确" dNTP 可以获得更好的结果, 而不影响 ddNTPs 的抑制作用。这种方法应为校对动力学分析提供更大的灵敏度。
内部不匹配校对:
MS 校对分析使用 KF 的内部不匹配和校对产品的鉴定是直接 (即校对 exonuclease 切除核苷酸从 3 ' 端到内部不匹配的引物), 其次是通过聚合酶功能, 将匹配的 ddNMP 添加到切除产品中, 生成的校对产品比底漆基板短 (图 6)。观察到校对效率的一个明显趋势, 在那里, KF 有效地校正了最后, 倒数, 3路和 4 次核苷酸从引物的 3 ' 末端的不匹配 (图 6;MM1, 2, 3 和 4)。不匹配在 5 nt 从 3 ' 末端的底漆被纠正了部分与 < 15% 的错配改正, 并且 > 15% 的底漆显示了延伸, 不用校对 (图6;MM5)。KF 未能校对6、7、8和 9 nt 的不匹配, 从底漆的 3 "端" (图 6;MM6, 7, 8 和 9), 但仍然延长了相当比例的基质 (图 6;PE 的 MM6, 7, 8 和 9)。
修复 deoxyinosine 病变:
在大肠杆菌中, DNA 中的 deoxyinosine 主要由内 V 修复通路20,23来处理。在第二个磷酸二酯键 3 ' 的 dI 病变中, V 型的切口启动反应。所产生的链断裂被认为是用于随后的病灶切除和 DNA resynthesis24。本程序适用于在 3 ' 倒数第二个站点 (表 1;i、C i、G i 和 T i) 验证这个假说。修复 3 ' 倒数第二 dI 类似于校对的倒数第二 T G 不匹配 (图 4B和6;MM2 条目), 在其中最后 2 nt 应该被删除, 然后添加一个正确的 ddNMP, 以完成修复。MS 模式清楚地显示, 我纠正了 heteroduplexes, G i, 和 T i, 虽然效率不同 (图 7;RP 信号)。但是, C i 基板是耐火材料, 我修理 (表 1和图 7D和7E; 非常低 RP), 并在很大程度上证明了底漆的延伸 (图 7D;PE 信号)。
图 1.校对试验模型系统.不匹配的底漆被退火, 如所示的模板形成终端不匹配 (粗体)。校对 exonuclease DNA 聚合酶将检测和去除不匹配的核苷酸形成切除产品。在 DNA 聚合酶和四 ddNTPs 的存在下, 切除产物通过单个碱基补充到先前不匹配的站点。当受 MALDI 时, 不匹配的底漆、切除产品和校对产品之间的质量差异可以解决。(这个数字是由 Su等来改编的。25与允许。请单击此处查看此图的较大版本.
图 2.峰值强度和寡核苷酸质量.八寡核苷酸从17到 24 nt 以序列补充到 3 ' 末端 T28 (桌 1) 被测试了。(a) 在 40-µL 溶液中, 每种寡核苷酸的 50 pmol 的混合物受到 MS 分析。(B) 计算时使用 17 nt 的峰值高度作为100%。每个寡核苷酸的相对信号强度是六确定的平均值, 误差条代表1标准差。(这个数字是由 Su等来改编的。25与允许。请单击此处查看此图的较大版本.
图 3.各种模板设计的效果.校对反应的评估与 P21 底漆形成一个终端 T G 不匹配的不同模板。校对试验采用 10 U (43 pmol) 克莱诺聚合酶, 50 pmol 基板, 4 ddNTPs 37 °c 为5分钟. (A) 此面板显示一种无酶的 P21/T32 T G 基板。(B) 本小组显示, P21/T32 T 基衬底的底漆延伸度为 3 ' exonuclease 不足克莱诺。PE = 底漆延伸产品。(C) 本小组显示了对 P21/T32 基板的校对。PP = 校对产品;d26、d27、d28 = 3 ' 最终降级模板。(D) 此面板显示 P21/T28 无酶的 T G 基板。(E) 本小组显示了对 P21/T28 基板的校对。PP = 校对产品;d26, d27 = 3 ' 最终降级模板。(F) 此面板显示一种无酶的 P21/T28S4 T G 基板。(G) 此面板显示了对 P21/T28S4 基板的校对。PP = 校对产品;EP = 切除产品;d27 = 模板降级副产品。(这个数字是由 Su等来改编的。25以允许)。请单击此处查看此图的较大版本.
图 4.切除产品和校对产品的时间课程分析.对 2 U (8.6 pmol) 和 50 pmol 基板进行了校对化验, 详见协议。反应在被表明的时间被淬火了。(a) 本小组对 3 ' 终端 T G 不匹配进行校对;EP = 校对切除产品;d18 & d19 = 过量切除副产品;PP = 校对产品;P21 = 不匹配的底漆。(B) 本小组显示校对 3 '-倒数第二 T G 不匹配;EI-1 = 切除中间体;EP-2 = 校对切除产品;d18 = 过量切除副产品;PP = 校对产品;P21 = 不匹配的底漆;钠离子束缚核苷酸。(这个数字是由 Su等来改编的。25与允许。请单击此处查看此图的较大版本.
图 5.校对反应与 4 ddNTPs 对 单一 dNTP.对 0.1 U (0.43 pmol) 和 50 pmol 基板进行了校对化验, 详见协议。反应在被表明的时间被淬火了。(a) 本小组的校对结果是 3 ' 终端 g g 不匹配与 4 ddNTPs;EP = 校对切除产品;PP = 校对 resynthesis 产品;P21G = 不匹配的底漆。(B) 本小组的校对结果是 3 ' 终端 g g 与 dCTP 不匹配;PP = 校对 resynthesis 产品;P21G = 不匹配的底漆。(C) 校正水平为三确定的平均值, 误差条表示1标准偏差。钠离子束缚核苷酸。(这个数字是由 Su等来改编的。25与允许。请单击此处查看此图的较大版本.
图 6.内部不匹配的校对.校对化验进行了与 2 U (8.6 pmol) 克莱诺聚合酶和 50 pmol 基板37°c 为20分钟, 如协议所述。空白 = MM1 底物的酶的空白。MM1 = P21/T28 的 T G 基板;MM2 到 MM9 = 带有内部不匹配的基底, 数字表示相对于 3 ' 端的不匹配位置。P21 = 不匹配的底漆;PR = 校对产品;PE = 延伸底漆;d19 和 d20 = 过量切除副产品, 数字代表核苷酸的大小。(这个数字是由 Su等来改编的。25与允许。请单击此处查看此图的较大版本.
图 7.修复 3 ' 倒数第二 deoxyinosine 病变.2 U 克莱诺聚合酶和 50 pmol 基质在37°c 进行修复化验, 如协议步骤2.3 所述。反应在被表明的时间被淬火了。这些面板显示与 (A) T I 基板的反应;(B) G I 基板;(C) A I 基板;和 (D) C I 基板。RP = 维修产品;EP = 切除产品;PE = 底漆延伸产品, Na+ = 钠离子加合物。(E) i、G i 和 A i 的校正水平平均为三个, 误差条代表1标准偏差。C I 的校正水平是两种测定的平均值。(这个数字是由 Su等来改编的。25与允许。请单击此处查看此图的较大版本.
基质 | 序列 | 校正效率 (pmol) | |
P21/T32 | 3 '-TAATATGGTCAGTCCTGCAACCCTTCAGCTGA | 17。3 | |
5 '-TACCAGTCAGGACGTTGGGAG | |||
P21/T28 | 3 '-ATGGTCAGTCCTGCAACCCTTCAGCTGA | 18。4 | |
5 '-TACCAGTCAGGACGTTGGGAG | |||
P21/T28S4 | 3 '-ATGGTCAGTCCTGCAACCCTTCAGCTGA | 22。9 | |
MM1 | 5 '-TACCAGTCAGGACGTTGGGAG | ||
MM2 | 3 '-ATGGTCAGTCCTGCAACCCTTCAGCTGA | 13。5 | |
5 '-TACCAGTCAGGACGTTGGGGA | |||
MM3 | 3 '-ATGGTCAGTCCTGCAACCCTTCAGCTGA | 16。9 | |
5 '-TACCAGTCAGGACGTTGGAAA | |||
MM4 | 3 '-ATGGTCAGTCCTGCAACCCTTCAGCTGA | 15。1 | |
5 '-TACCAGTCAGGACGTTGAGAA | |||
MM5 | 3 '-ATGGTCAGTCCTGCAACCCTTCAGCTGA | 4。2 | |
5 '-TACCAGTCAGGACGTTAGGAA | |||
MM6 | 3 '-ATGGTCAGTCCTGCAACCCTTCAGCTGA | < 0.5 * | |
5 '-TACCAGTCAGGACGTCGGGAA | |||
MM7 | 3 '-ATGGTCAGTCCTGCAACCCTTCAGCTGA | < 0。5 | |
5 '-TACCAGTCAGGACGCTGGGAA | |||
MM8 | 3 '-ATGGTCAGTCCTGCAACCCTTCAGCTGA | < 0。5 | |
5 '-TACCAGTCAGGACATTGGGAA | |||
MM9 | 3 '-ATGGTCAGTCCTGCAACCCTTCAGCTGA | < 0。5 | |
5 '-TACCAGTCAGGATGTTGGGAA | |||
A-我 | 3 '-ACCAGCGACCCCTTATACAGTCAT | 8。2 | |
5 '-TGGTCGCTGGGGAATAIG | |||
C-我 | 3 '-ACCAGCGACCCCTTATCCAGTCAT | 1。0 | |
5 '-TGGTCGCTGGGGAATAIG | |||
G-我 | 3 '-ACCAGCGACCCCTTATGCAGTCAT | 15。4 | |
5 '-TGGTCGCTGGGGAATAIG | |||
T-我 | 3 '-ACCAGCGACCCCTTATTCAGTCAT | 16。6 | |
5 '-TGGTCGCTGGGGAATAIG |
表1。校对基板和校正效率由克莱诺片断.下表显示了包含硫代核苷酸修改的模板 3 '-端的粗体4核苷酸。不匹配的基对为粗体。校对化验是用 2 U (8.6 pmol) 克莱诺聚合酶, 50 pmol 基板, 4 ddNTPs 在37摄氏度为10分钟. * 这些值是校对级别的下限, 因为背景噪音阻止了对 < 1% 的准确估计。观察到的总质量信号。(这个数字是由 Su等来改编的。25与允许。
以及 | 术语 | SNP_ID | 第二-PCRP | 第一-PCRP | AMP_LEN | UP_CONF | MP_CONF | Tm | pcgc 码 | PWARN | UEP_DIR | UEP_MASS | UEP_SEQ | EXT1_CALL | EXT1_MASS |
W1 | iPLEX | T28 | 那 | 那 | 那 | 那 | 那 | 那 | 那 | F | 8524.54 | ATGGTCAGTCCTGCAACCCTTCAGCTGA | |||
W1 | iPLEX | P21 | 那 | 那 | 那 | 那 | 那 | 那 | 那 | F | 6495.24 | TACCAGTCAGGACGTTGGGAA |
表2。T28_P21. xlsx 文件。该设置用于图 3D、 3E、 4A和5A。
1201-1 |
1201-2 |
1201-3 |
1201-4 |
1201-5 |
1201-6 |
1201-7 |
表3。1201.xlsx 文件。该设置用于图 4A中的7反应。
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Discussion
本研究描述了由选择的商用仪器 (见材料表) 分析的一步一步校对活动, 使用 MALDI MS。主要优点包括: 底漆和模板是免费的标签和易于执行, 允许更大的灵活性设计实验。30校对测试的流石灰完整处理需要4小时, 包括3小时手动执行校对反应和清理, 而 MALDI 的分析使用上述协议需要1小时完成。这种方法的主要缺点是化验所需的基底量。为了获得强烈的信号和一致的结果, 我们使用了 50 pmol 的 DNA 基质在20µL 反应;因此, dna 的数量远远高于核素 dna 实验8,9,10。减少体积和样本大小, 微调 MS 操作可以降低所需的基板量。
从商业来源获得的合成寡核苷酸可直接用于校对研究, 无需进一步的提纯或处理。然而, 最好的检查的纯度和质量的 DNA MALDI 的 MS。引入了硫代核苷酸键以替换模板 3 "末尾" (表 1) 中的最后4个磷酸二酯键, 以减少模板链的非特定退化 (图 3G), 尽管每个样本的成本较高。有趣的是, 从模板和底漆 DNA 的信号可以很好地分离的 MS, 由于其大小的差异;因此, 不需要进行此硫代核苷酸修改。例如, 在图 3E中, 底漆 P21 扩展和校对切除和 resynthesis 的所有可能产品都小于 22 nt (m/z < 7000), 而模板 T28 中的所有降解片段大于 24 nt (m/z > 7000).图 4A中的结果与图 3E中的 P21/T28 双工集相同。6,000-7 的放大窗口, 000 只显示从底漆 DNA 的信号, 没有任何混淆信号从模板。
采用 ddNMP 引物的底漆的策略是非常稳定的, 因此, ddNMP 含有的产品是校对试验的良好指标。ddNMP 对切除产品的添加, 可以 "冻结" 状态下的校对产品, 以便立即进行分析后切除。或者, 使用一个正确的 dNTP (图 5B) 而不是 4 ddNTPs 来抑制校对 exonuclease 的非特定水解活动也是可行的。
用标准苯酚/氯仿萃取程序停止反应, 证明是反应终止的最佳方法, 因为在一步中, 它使反应停止, 同时消除任何蛋白质干扰。另外, 酸淬火, 这是易于自动化, 然后中和非金属碱性无相分离, 也证明了可靠的结果。钠离子加合物 (Na+在图 4, 5和7) 是令人担忧的, 因为它们可以增加背景和复杂的信号歧视。适当使用清洁树脂可以减少这种干扰;然而, 即使存在这样的加合物, 它们通常相对于其父信号有更小的峰值, 并且此属性可用于区分它们 (图 4、 5和7)。一般情况下, 加合物钠的峰值高度与主要峰值成正比;在计算中加入或排除加合物钠对定量结果没有显著影响。因此, 对于量化, 我们使用的主要峰值高度只为计算。
这里描述的校对实验利用了内部不匹配来证明26 exonuclease 域分割法的重要性和详细的 DNA 聚合酶 I 能力, 以有效地校对不匹配的向上到 4 nt 上游从底漆 3 '-末端 (图 5, MM1-4) 可能由于基础配对稳定在底漆-模板连接27。此外, 本研究还利用含有倒数第二 deoxyinosine 病变的底漆研究了 V 型修复中间体的一级修复。结果表明, 我比 i 和 G i 更有效地被修理了;但是, C-我是难处理的, 我修理的波兰人 (表 1和图 7)。这些结果证实, MALDI 的 MS 分析可以非常有用的校对和各种短补丁 DNA 修复化验28由于其高分辨率。
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Disclosures
作者没有什么可透露的。
Acknowledgments
我们感谢 NCFPB 综合核心设施的功能基因组学 (台北, 台湾) 和 NRPB 药物实验室 (台北, 台湾) 的技术支持。这项工作得到了台湾卫生基金会 (白介) 和科技部的研究补助金的支持, 台北, 台湾, 中华民国 [最 105-2320-b-002-047] 为伟瑶胡, [最 105-2628-b-002-051-MY3] 为康怡苏, 和 [MOST-105-2320-B-002-051-MY3] 为梁在林。
Materials
Name | Company | Catalog Number | Comments |
Oligonucleotides | Mission Biotech (Taiwan) | ||
phosphorothioate modified oligonucleotides | Integrated DNA Technologies (Taiwan) | ||
DNA polymerase I, Large (Klenow) Fragment | New England Biolabs, MA | M0210L | |
Klenow fragment (3'→5' exo-) | New England Biolabs, MA | M0212L | |
NEBuffer 2.1 (10X) | New England Biolabs, MA | B7202S | |
2', 3' ddATP | Trilink Biotechnologies, CA | N4001 | |
2', 3' ddGTP | Trilink Biotechnologies, CA | N4002 | |
2', 3' ddTTP | Trilink Biotechnologies, CA | N4004 | |
2', 3' ddCTP | Trilink Biotechnologies, CA | N4005 | |
dATP, dGTP, dCTP, dTTP set | Clubio, Taiwan | CB-R0315 | |
SpectroCHIP array | Agena Bioscience, CA | #01509 | |
MassARRAY | Agena Bioscience, CA | ||
Typer 4.0 software | Agena Bioscience, CA | #10145 | |
Clean Resin Tool Kit | Agena Bioscience, CA | #08040 |
References
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