Method Article

Nanomoulding من مواد وظيفية، تنوعا النسخ المتماثل خطة التكميلية طريقة لNanoimprinting

DOI:

10.3791/50177

⸱

January 23rd, 2013

 ,  ,  ,  ,  , 
1Institute of Microengineering (IMT), Photovoltaics and Thin Film Electronics Laboratory, Ecole Polytechnique Fédérale de Lausanne (EPFL), 2Department of Electrical Engineering and Computer Sciences, University of California, Berkeley

In This Article

Summary

$$\rightleftharpoonup{xx}$$ $$\longleftharp{xx}$$, $$\longrightharp{xx}$$,

وصفنا تقنية nanomoulding الذي يسمح منخفضة التكلفة الزخرفة النانومترية الحجم من المواد الفنية، مداخن المواد والأجهزة كاملة. لا يمكن أن يؤديها على أي Nanomoulding الإعداد nanoimprinting ويمكن تطبيقها على مجموعة واسعة من المواد والعمليات الترسيب.

Abstract

$$\rightleftharpoonup{xx}$$ $$\longleftharp{xx}$$, $$\longrightharp{xx}$$,

وصفنا تقنية nanomoulding الذي يسمح منخفضة التكلفة الزخرفة النانومترية الحجم من المواد الفنية، مداخن المواد والأجهزة كاملة. Nanomoulding جنبا إلى جنب مع نقل طبقة تمكن تكرار أنماط سطح التعسفي من هيكل الرئيسي على المواد الفنية. لا يمكن أن يؤديها على أي Nanomoulding الإعداد nanoimprinting ويمكن تطبيقها على مجموعة واسعة من المواد والعمليات الترسيب. ولا سيما أننا تدليل على تصنيع أقطاب شفافة منقوشة أكسيد الزنك للضوء تطبيقات في الخلايا الشمسية محاصرة.

Introduction

$$\rightleftharpoonup{xx}$$ $$\longleftharp{xx}$$, $$\longrightharp{xx}$$,

وقد اكتسب أهمية كبيرة Nanopatterning في العديد من مجالات تكنولوجيا النانو والعلوم التطبيقية. الجيل نمط هي الخطوة الأولى ويمكن أن أنجزه من أعلى إلى أسفل النهج مثل شعاع الإلكترون الطباعة الحجرية أو نهج من أسفل إلى أعلى على أساس التجميع الذاتي أساليب مثل الطباعة الحجرية أو كتلة كوبوليمر nanosphere الطباعة الحجرية 1. أهمية عن الجيل هو نمط تكرار النمط. إلى جانب ضوئيه، برزت nanoimprinting (الشكل 1) كبديل واعد بشكل خاص مناسبة لتنميط منطقة واسعة عالية الإنتاجية النانو بتكلفة منخفضة 2-4. في حين يتطلب ضوئيه قناع نمط، nanoimprinting تعتمد على بنية رئيسية الجاهزة. عادة يتم تنفيذ نقل نمط من سيد إلى بال....

Access restricted. Please log in or start a trial to view this content.

Protocol

$$\rightleftharpoonup{xx}$$ $$\longleftharp{xx}$$, $$\longrightharp{xx}$$,

1. قوالب التصنيع

نستخدم الإعداد لدينا nanoimprinting محلي الصنع لتصنيع المرجع العفن السلبية التالية. 6، ولكن أي بديل nanoimprinting الإعداد سوف تعمل بشكل جيد. وبدلا من ذلك قد يكون functionalized polydimethylsiloxane (PDMS) قالب العمل أيضا.

  1. افتعال أو شراء ماجستير مناسبة تحمل نمط النانو التي يتم نقلها. من حيث المبدأ، فإن أي مناسبة للماجستير nanoimprinting قيام بهذه المهمة. نستخدم طبقة أكسيد الزنك محكم على ورقة الزجاج (شوت، AF32 البيئية، و 41 مم × 41 مم × 0.5 مم)....

Access restricted. Please log in or start a trial to view this content.

Results

$$\rightleftharpoonup{xx}$$ $$\longleftharp{xx}$$, $$\longrightharp{xx}$$,

يلخص الشكل 3 بعض الأمثلة التوضيحية من الهياكل nanomoulded. ويرد هيكل الرئيسي أكسيد الزنك نما بنسبة CVD على الزجاج في (أ). يظهر المقابلة nanomoulded أكسيد الزنك المقلدة في (د). مقارنة بين ارتفاع المحلية (ز) والزاوية (ي) المدرج الاحصائي المستخرجة من الصور AFM تكشف عن الدقة العالية لعملية nanomoulding. وتظهر نتائج مماثلة لصريف أحادية البعد ملفقة من قبل الطباعة الحجرية تدخل (ب، ه، ح، ك) والألمنيوم بمادة anodically (ج، و، ط، ل).

Access restricted. Please log in or start a trial to view this content.

Discussion

$$\rightleftharpoonup{xx}$$ $$\longleftharp{xx}$$, $$\longrightharp{xx}$$,

Nanomoulding تسمح بنقل nanopatterns على المواد الفنية التعسفي. مقارنة بين خطوات المعالجة الفردية في الشكل 1 و 2 يكشف عن علاقة وثيقة بين nanomoulding وnanoimprinting. والفرق الرئيسي بين nanomoulding وnanoimprinting هو ترسب مواد إضافية خطوة في 2E الشكل. تدفق العملية المتبقية هي متطابقة. وبالتالي، يمكن أن يؤديها Nanomoulding على أي الإعداد nanoimprinting المتاحة.

شر.......

Access restricted. Please log in or start a trial to view this content.

Disclosures

$$\rightleftharpoonup{xx}$$ $$\longleftharp{xx}$$, $$\longrightharp{xx}$$,

الإعلان عن أي تضارب في المصالح.

Acknowledgements

$$\rightleftharpoonup{xx}$$ $$\longleftharp{xx}$$, $$\longrightharp{xx}$$,

الكتاب أشكر M. وبوف للحصول على المساعدة لي مع AFM W.، للماجستير الألمنيوم بمادة anodically والطاقة مكتب السويسرية الاتحادية ومؤسسة العلوم الوطنية السويسرية للحصول على التمويل. وأجريت جزءا من هذا العمل في إطار مشروع FP7 "المسار السريع" الذي تموله المفوضية الأوروبية في إطار اتفاقية منحة لا 283501.

....

Access restricted. Please log in or start a trial to view this content.

Materials

List of materials used in this article
NameCompanyCatalog NumberComments
اسم الكاشف شركة كتالوج رقم التعليقات (اختياري)
Nanoimprinting الراتنج Microresist Ormostamp
(1H، 1H، 2H، 2H-Perfluoroctyl)-trichlorsilane، وكيل المضادة للالتصاق سيغما الدريتش 448931-10G
الزجاج الشرائح شوت AF32 البيئية 0.5 مم
البولي ايثيلين naphtalate (PEN) ورقة Goodfellow ES361090 0،125 مم
(C 2 H 5) 2 الزنك أكزو نوبل
AG تفل الهدف 4N هيراوس 81062165
B 2 H 6، SIH 4، H 2، B (CH 3) 3، PH 3، CH 4، CO 2 ميسير
EQUIPMENT
Nanoimprinting النظام محلي الصنع
LP-CVD النظام محلي الصنع
PVD النظام هيرافوس Univex 450 B
PE-CVD مفاعل Indeotec الأخطبوط I
SEM JEOL JSM-7500 TFE
AFM آلات رقمية Nanoscope 3100

References

$$\rightleftharpoonup{xx}$$ $$\longleftharp{xx}$$, $$\longrightharp{xx}$$,
  1. Geissler, M., Xia, Y. Patterning: Principles and Some New Developments. Advanced Materials. 16 (15), 1249-1269 (2004).
  2. Guo, L. J. Nanoimprint Lithography: Methods and Material Requirements. Advanced Materials. 19, 495-513 (2007).
  3. Ahn, S. H., Guo, L. J.

Access restricted. Please log in or start a trial to view this content.

Reprints and Permissions

Request permission to reuse the text or figures of this JoVE article

Request Permission

Tags

NanomouldingNanoimprintingPattern TransferZinc Oxide DepositionUV Cured ResinChemical Vapor DepositionMaster Mold FabricationAnti Adhesion LayerLayer Transfer TechniqueFunctional Material Replication

Related Articles