ويعرض هنا أسلوب أخذ العينات موهير يضم طرق أخذ العينات 2 بكسل ومتعددة بكسل لقياس قياسات توزيع عالية الدقة على نطاق الجزئي / نانو هنا.
يتطلب اشتراك JoVE لعرض هذا المحتوى. تسجيل الدخول أو ابدأ نسخة تجريبية مجانية
مقالة منهجية
ويعرض هنا أسلوب أخذ العينات موهير يضم طرق أخذ العينات 2 بكسل ومتعددة بكسل لقياس قياسات توزيع عالية الدقة على نطاق الجزئي / نانو هنا.
يصف هذا العمل إجراء قياس ومبادئ تقنية موهير لأخذ عينات لقياسات تشوه الصغير النطاق / نانو النطاق الكامل. ويمكن تنفيذ التقنية المتقدمة بطريقتين: استخدام طريقة مويرة الضرب أعيد بناؤها أو طريقة أخذ العينات المكانية تحول مسار موير. عندما يكون الملعب الشبكة عينة حوالي 2 بكسل، يتم إنشاء 2 بكسل بكسل أخذ العينات مويير لإعادة بناء نمط مويرة الضرب لقياس تشوه. كل من النزوح وحساسيات سلالة هي ضعفي كما هو الحال في طريقة موهير المسح الضوئي التقليدي في نفس مجال واسع من الرأي. وعندما يكون الملعب الشبكي للعينة حول أو يزيد عن 3 بيكسلات، يتم إنشاء حواف موانير أخذ العينات متعددة البكسل، وتقترن تقنية تحويل الطور المكاني لقياس تشوه كامل المجال. يتم تحسين دقة قياس سلالة بشكل ملحوظ، وقياس دفعة التلقائي يمكن تحقيقه بسهولة.ويمكن لكلتا الطريقتين قياس توزيعات سلالة ثنائية الأبعاد (2D) من صورة شبكة واحدة بالرصاص دون تدوير العينات أو خطوط المسح الضوئي، كما هو الحال في تقنيات النسيج التقليدي. على سبيل المثال، تم قياس التوزيعات ثنائية الأبعاد والتوزيعات، بما في ذلك سلالات القص لعينتين من البلاستيك المقوى بالألياف الكربونية، في اختبارات الانحناء ذات ثلاث نقاط. ومن المتوقع أن تلعب التقنية المقترحة دورا هاما في التقييمات الكمية غير المدمرة للخصائص الميكانيكية، وحوادث الكراك، والضغوط المتبقية لمجموعة متنوعة من المواد.
قياسات تشوه الصغرى / نانو مقياس ضرورية للغاية لتقييم الخواص الميكانيكية، والسلوك عدم الاستقرار، والإجهاد المتبقية، والكراك تحدث المواد المتقدمة. منذ التقنيات البصرية هي عدم الاتصال، حقل كامل، وغير مدمرة، وقد وضعت أساليب بصرية مختلفة لقياس تشوه خلال العقود القليلة الماضية. في السنوات الأخيرة، وتشمل تقنيات قياس تشويه الصغرى / نانو مقياس أساسا أساليب موير 1 ، 2 ، 3 ، 4 ، تحليل المرحلة الهندسية (غبا) 5 ، 6 ، تحويل فورييه (فت)، ارتباط الصورة الرقمي....
الوصول مقيد. يرجى تسجيل الدخول أو بدء فترة تجريبية لعرض هذا المحتوى.
1. تأكيد مايكرو / نانو-- مقياس الشبكة على العينة
الوصول مقيد. يرجى تسجيل الدخول أو بدء فترة تجريبية لعرض هذا المحتوى.
تم قياس التوزيعات ثنائية الأبعاد وتوزيعات السلالة لعينتين من البلاستيك المقوى بالألياف الكربونية (# 1 و # 2) وفقا لمبدأ تشكيل الموريق 23 وعملية القياس ( الشكل 1 ). وكانت عينات سفرب تتكون من ألياف الكربون K13D قطرها 10-11 ميكرون والراتنجات الايبوكسي. تم تحديد تشوه ال كفرب # 1 باستخدام طريقة التجميع المعاد بناؤها من خطي أخذ العينات من خطوط التجميع، وتم قياس هذا المعيار باستخدام طريقة التجميع المكا.......
الوصول مقيد. يرجى تسجيل الدخول أو بدء فترة تجريبية لعرض هذا المحتوى.
في التقنية الموصوفة، خطوة واحدة صعبة هي شبكة الصغرى / نانو النطاق أو صريف (مختصر كما الشبكة) تلفيق 26 إذا لم يكن هناك نمط الدوري على العينة. وينبغي أن تكون الملعب الشبكة موحدة قبل تشوه لأنها معلمة هامة لقياس تشوه. إذا كانت المادة المعدنية، وسبائك معدنية، أو السيراميك، الأشعة فوق البنفسجية أو التدفئة نانويمبرينت الطباعة الحجرية (لا شيء) 27 ، شعاع الالكترون الطباعة الحجرية (إبل) 2 ، ركزت أيون شعاع (فيب) طحن
الوصول مقيد. يرجى تسجيل الدخول أو بدء فترة تجريبية لعرض هذا المحتوى.
الكتاب ليس لديهم ما يكشف.
وأيد هذا العمل من قبل جسبس كاكينهي، وأرقام المنحة JP16K17988 و JP16K05996، وبرنامج تعزيز الابتكار الاستراتيجي عبر الوزارات، وحدة D66، القياس والتحليل المبتكر للمواد الهيكلية (سيب-إماسم)، التي تديرها مكتب مجلس الوزراء. المؤلفون أيضا ممتنون للدكتور. ساتوشي كيشيموتو وكيميوشي نايتو في نيمس للمواد سفرب بهم.
....الوصول مقيد. يرجى تسجيل الدخول أو بدء فترة تجريبية لعرض هذا المحتوى.
| الاسم | الشركة | رقم فهرسي | التعليقات |
|---|---|---|---|
| آلة تلميع أوتوماتيكية | Marumoto Struers KK | LaboPol-30 ، القوى العاملة - 100 | |
| ألياف الكربون البلاستيك المقوى | ب Mitsubishi Plastics، Inc. ؛ | يمكن استبدال HYEJ16M95DHX1 | |
| Computer | DELL Japan | VOSTRO | بجهاز كمبيوتر آخر بلغة برمجة C ++ |
| برنامج تسجيل الصور | Lasertec Corporation | LMEYE7 | مثبت في مجهر المسح الضوئي |
| بالليزر Ion Coater | Japan Electron Optics Laboratory Ltd. | JEC3000F | |
| مجهر المسح الضوئي بالليزر | Lasertec Corporation | OPTELICS HYBRID | |
| Nanoimprint Device | Japan Laser Corporation | يمكن استبدال EUN-4200 | بجهاز طباعة حجرية بشعاع الإلكترون أو جهاز طحن شعاع أيوني مركز |
| Nanoimprint Mould | SCIVAX Corporation | 3.0 & mu ؛ م الملعب | تخصيص |
| Nanoimprint مقاومة | Toyo Gosei Co., Ltd & nbsp ؛ | PAK01 | |
| محلول تلميع | Marumoto Struers KK | DP-بخاخ P 15 & mu ; م ، 1 و مو ؛ م ، 0.25 مو ؛ م | استخدم من الخشنة إلى الناعمة |
| Pipet | AS ONE Corporation | 10 مل | |
| ورق الرمل | Marumoto Struers KK | رقائق SiC # 320 ، # 800 | استخدم من الخشنة إلى الخشنة |
| المغطية الدورانية | MIKASA Corporation | MS-A100 |
الوصول مقيد. يرجى تسجيل الدخول أو بدء فترة تجريبية لعرض هذا المحتوى.