منطقة كبيرة Nanolithography مسبار المسح يسرت بمحاذاة تلقائية وتطبيقه على تصنيع الركيزة لدراسات ثقافة الخلية
10.1K مشاهدات
•
تم الاستشهاد 6 مرة
•
09:45 د
•
يونيو 12, 2018
DOI :10.3791/56967-v
يونيو 12, 2018
•10.1K مشاهدات
I-Ning Lee*1,2 , Joseph Hosford*1 , Shuai Wang3 , John A. Hunt4 , Judith M. Curran2 , William P. Heath3 , Lu Shin Wong1
1Manchester Institute of Biotechnology & School of Chemistry, University of Manchester, 2School of Engineering, University of Liverpool, 3School of Electrical and Electronic Engineering, University of Manchester, 4School of Science and Technology, Nottingham Trent University
* These authors contributed equally
نقدم هنا بروتوكولا لمنطقة واسعة nanolithography مسبار المسح تمكين بمحاذاة تكرارية من صفائف التحقيق، فضلا عن الاستفادة من أنماط معدني لدراسات التفاعل سطح الخلية.
استكشف المزيد من الفيديوهات
Chapters in this video
0:04
Title
0:47
Polymer Pen Lithography (PPL) Array Fabrication and Substrate Mounting
4:29
Automatic Pen Array Alignment
6:35
Polymer Pen Lithography
8:20
Results: Substrate Patterning by PPL
9:08
Conclusion
Related Videos
2026 © حقوق الطبع والنشر MyJoVE Corporation. جميع الحقوق محفوظة.