تصنيع وتحسين أفلام كلاذرات السيليكون من النوع الثاني

1.6K مشاهدة

06:53 دقيقة

أكتوبر 14, 2025

1.6K مشاهدة

Malad-Chadi Ettobi¹^,² , Charif Tamin³ , Anil Kumar Bharwal¹ , Stéphane Roques¹ , Céline Chevalier³ , Abdelilah Slaoui¹ , Aziz Dinia² , Alain Fave³ , Erwann Fourmond³ , Daniel Stoeffler² , Thomas Fix¹

¹ICube Laboratory, University of Strasbourg, CNRS (Centre National de la Recherche Scientifique), ²IPCMS Laboratory (Institut de Physique et Chimie des Matériaux de Strasbourg), University of Strasbourg, ³Institut des Nanotechnologies de Lyon (INL), UMR 5270, École Centrale de Lyon, Institut National des Sciences Appliquées (INSA) Lyon, Université Claude Bernard Lyon 1

تتيح طريقة التلدين الحرارية تصنيع أغشية رقيقة من النوع الثاني من أشباه الموصلات السيليكونية. تم إجراء معالجات ما بعد التخليق ، بما في ذلك الضغط الحراري والنقش الأيوني التفاعلي ، لتحسين خصائص المواد. يوفر هذا النهج مسارا يمكن الوصول إليه لتصنيع أفلام clathrate قابلة للضبط مناسبة للجيل التالي من الأجهزة الإلكترونية والضوئية.