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आकार-नियंत्रित पाली की पीढ़ी (ईथीलीन ग्लाइकोल) अर्द्ध 3 आयामी प्रवाह Microfluidic उपकरणों ध्यान केंद्रित के माध्यम से Diacrylate बूंदों
Probing C84-embedded Si Substrate Using Scanning Probe Microscopy and Molecular Dynamics
Journal (Engineering)
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High-speed Particle Image Velocimetry Near Surfaces
Journal (Engineering)
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आकार-नियंत्रित पाली की पीढ़ी (ईथीलीन ग्लाइकोल) अर्द्ध 3 आयामी प्रवाह Microfluidic उपकरणों ध्यान केंद्रित के माध्यम से Diacrylate बूंदों

Article DOI: 10.3791/57198-v • 11:08 min • July 3rd, 2018
July 3rd, 2018 •
1, 1, 1, 1, 1, 1,2
1Graduate School at Shenzhen, Tsinghua University, 2The State Key Laboratory of Precision Measurement Technology and Instruments, Tsinghua University

Capítulos

Resumen
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यहां, हम एक प्रोटोकॉल प्रस्तुत करने के लिए निर्माण प्रक्रियाओं को वर्णन और एक अर्द्ध तीन आयामी (अर्द्ध 3 डी) प्रवाह-छोटी बूंद गठन के लिए microfluidic चिप ध्यान केंद्रित करने के प्रयोगों की पुष्टि ।

Tags

इंजीनियरिंग अंक १३७ अर्ध 3d microfluidic डिवाइस सॉफ्ट लिथोग्राफी फ्लो फोकसिंग PEGDA पार्टिकल्स दो फेज फ्लो
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