Epitaxial ננו מובנה α-קוורץ סרטים על סיליקון: מהחומר למכשירים חדשים

4.4K צפיות

צוטט 2 פעמים

11:34 דק׳

6 באוקטובר 2020

10.3791/61766-v

6 באוקטובר 2020

4.4K צפיות
 ,  ,  ,  , 
1Institut d'Electronique et des Systemes (IES), CNRS, Université de Montpellier

עבודה זו מציגה פרוטוקול מפורט עבור microfabrication של nanostructured α-קוורץ cantilever על מצע טכנולוגי סיליקון-On-Insulator (SOI) החל הצמיחה האפיטאקסיאלית של סרט קוורץ עם שיטת ציפוי לטבול ולאחר מכן ננו-מבנה של הסרט הדק באמצעות ליטוגרפיה nanoimprint.

גלה סרטונים נוספים

סרטי קוורץ אפיטקסיים
מיקרוקנטיליבר קוורץ
טכניקת ציפוי טבילה
ליתוגרפיית ננו-הדפסה
חריטה ביונים ריאקטיביים
ויברומטר לייזר דופלר
מיקרוסקופיית כוח אטומי
מצע SOI
אפקט פ piezoelectric

Chapters in this video

0:05

Introduction

0:54

Preparation of PDMS Templates and Gel Film Deposition on SOI Substrates by Dip-Coating

2:55

Surface Micro/Nanostructuration by Soft Imprint Lithography and Gel Film Crystallization by Thermal Treatment

4:00

Preparing and Patterning of the Quartz Samples for the Cantilever Microfabrication Process

8:49

Results: Qualitative Analysis of the Progressive Epitaxial Nanostructured α-Quartz Film Thickness Developed on Silicon

10:20

Conclusion

Related Videos

צרו קשר
המליצו לספרייה

פרטיות

תנאי שימוש

מדיניות

זכויות יוצרים © 2026 MyJoVE Corporation. כל הזכויות שמורות.