תצהיר שלב אדים של פולי אלקטרואקטיבי (3,4-ethylenedioxythiophene) על ננו-סיבים פולימריים של סחורות אלקטרוסקופיות

2.3K צפיות

08:28 דק׳

7 במרץ 2025

2.3K צפיות

Shuvo Brahma¹ , Aidan Gustafson²^,³ , Junaid ur Rehman¹ , Nicholas R. Lontkowski² , Alyssa Libonati³ , Marcus Goss⁴ , R. Kōnane Bay³ , Jennifer A. Irvin¹^,²^,⁵ , Tania Betancourt¹^,²

¹Material Science, Engineering and Commercialization, Texas State University, ²Department of Chemistry and Biochemistry, Texas State University, ³Chemical and Biological Engineering, University of Colorado Boulder, ⁴STAR Park, Texas State University, ⁵College of Science and Engineering, University of Houston-Clear Lake

מאמר זה מתאר טכניקה פשוטה לציפוי ננו-סיבי PAN אלקטרו-ספוניים בפולימרים אלקטרואקטיביים באמצעות שקיעת אדים. ההשפעות של חומר החמצון FeCl₃ על שקיעת ציפויי פולי (3,4-אתילנדיוקסיתיופן) על PAN נחקרו כדי להבין ולייעל את צמיחת הפולימרים, קוטר הסיבים והחוזק המכני הכולל של מחצלות הננו-סיבים.