Abbiamo descritto un protocollo per la fabbricazione di dispositivi microfluidici che può consentire la cattura delle cellule e della cultura. In questo approccio microstrutture modellata come scanalature all'interno dei canali microfluidica sono utilizzati per creare le regioni a basso sforzo di taglio all'interno del quale cellula possono attraccare.
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Articolo metodologico
Un dispositivo a microfluidi con pattern Groove per studiare il comportamento cellulare
In questo articolo
Sommario
Abstract
Descriviamo un dispositivo a microfluidi con modelli microgrooved per studiare il comportamento cellulare. Questa piattaforma microfluidica consiste in un canale superiore fluidico e un substrato di fondo microgrooved. Per fabbricare i canali microgrooved, un top poli (dimetilsiloxano) (PDMS) muffa contenente l'impressione dei canali microfluidica era allineato e legato ad un substrato microgrooved. Utilizzando questo dispositivo, le cellule di fibroblasti del mouse sono stati immobilizzati e fantasia all'interno di substrati microgrooved (25, 50, 75 e 100 micron di larghezza). Per studiare l'apoptosi in un dispositivo a microfluidi, supporti contenenti perossido di idrogeno, annessina V e ioduro di propidio è stato perfuso nel canale fluidico per 2 ore. Abbiamo trovato che le cellule esposte a stress ossidativo è diventato apoptotico. Queste cellule apoptotiche sono state confermate da annessina V che si lega alla fosfatidilserina al foglietto esterno della membrana plasmatica durante il processo di apoptosi. L'utilizzo di questo dispositivo a microfluidi con motivi microgrooved, il processo di apoptosi è stata osservata in tempo reale e analizzati utilizzando un microscopio invertito che contiene una camera di incubazione (37 ° C, 5% CO 2). Pertanto, questo dispositivo a microfluidi incorporato con substrati microgrooved potrebbe essere utile per studiare il comportamento cellulare e l'esecuzione di high-throughput screening di stupefacenti.
Protocollo
Microfabrication A. del dispositivo a microfluidi
- 4-pollici wafer Si è trattata con plasma di ossigeno reattivo (5 min a 30 W, Harrick scientifico, NY).
- Photoresist negativo (SU-8 2015, MicroChem, MA) è spin-rivestito a 900 rpm per 1 minuto su un wafer di silicio.
- Il wafer è morbido al forno a 95 ° C per 6 minuti su una piastra ed è esposto alla luce UV (200W) per 4 minuti attraverso un film maschera contenente microcanali.
- Il wafer è post forno a 95 ° C per 6 minuti ed è stato sviluppato utilizzando SU-8 sviluppatore photoresist.
- Il wafer photoresist fantasia contenente microcanali è posto in un piatto di Petri-.
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Discussione
Le cellule sono state immobilizzate e fantasia all'interno di substrati microgrooved in un dispositivo a microfluidi. Il processo di apoptosi delle cellule esposte al perossido di idrogeno è stata osservata in tempo reale e analizzato utilizzando annessina V e ioduro di propidio. Quindi, questo dispositivo a microfluidi contenenti canali microsolco potrebbe essere utile per high-throughput screening di stupefacenti.
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Materiali
| Nome | Azienda | Numero di catalogo | Commenti | |
|---|---|---|---|---|
| PDMS | Reagente | K.R. Anderson Co. | 2065622 | Poli(dimetilsilossano), Dow Corning Sylgard 184 (8,6 lb) |
| DMEM | mezzo | Invitrogen | 11965 | Mezzi di Dulbecco’s Modified Eagle’s |
| FBS | suero | Invitrogen | 10082-147 | Suero fetale bovino |
| Perossido di idrogeno | Reagente | Sigma-Aldrich | H1009 | |
| Saggio di apoptosi | Invitrogen | V13242 | Annexina A, ioduro di propidio | |
| Fotoresist negativo | MicroChem Corp. | SU-8 2015 | ||
| Wafer di Si | Strumento | Wafer di silicio da 4 pollici | ||
| Plasma reattivo di ossigeno | Reagente | Harrick Scientific Products, Inc. | trattare il wafer per 5 min a 30 W | |
| Microscopio invertito | Strumento | Nikon Instruments | TE 2000 |
Riferimenti
- Chung, B. G., Park, J. W., Hu, J. S., Huang, C., Monuki, E. S., Jeon, N. L. A hybrid microfluidic-vacuum device for interfacing with conventional cell culture platform. BMC Biotechnol. 7, (2007).
- Khademhosseini, A., Yeh, J., Eng, G., Karp, J., Kaji, H., Borenstein, J., Farokhzad, O. C., Langer, R.
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Ristampe e permessi
