Method Article

Nanomoulding di materiali funzionali, un modello versatile complementare replica Metodo di nanoimprinting

DOI:

10.3791/50177

January 23rd, 2013

In This Article

Summary

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Descriviamo una tecnica che permette di nanomoulding basso costo patterning su scala nanometrica di materiali funzionali, pile di materiali e dispositivi completi. Nanomoulding possono essere eseguite su qualsiasi configurazione nanoimprinting e può essere applicata a una vasta gamma di materiali e processi di deposizione.

Abstract

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Descriviamo una tecnica che permette di nanomoulding basso costo patterning su scala nanometrica di materiali funzionali, pile di materiali e dispositivi completi. Nanomoulding combinato con trasferimento strato consente la replicazione di modelli di superficie arbitrarie da una struttura master sul materiale funzionale. Nanomoulding possono essere eseguite su qualsiasi configurazione nanoimprinting e può essere applicata a una vasta gamma di materiali e processi di deposizione. In particolare, abbiamo dimostrato la fabbricazione di elettrodi di zinco trasparente di ossido di fantasia per le applicazioni di cattura della luce nelle celle solari.

Introduction

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Nanopatterning ha assunto un'importanza enorme in molti campi delle nanotecnologie e delle scienze applicate. Generazione di modello è il primo passo e può essere realizzata mediante top-down approcci come litografia a fascio elettronico o bottom-up basato sulla auto-assemblaggio metodi come la litografia nanosfere o copolimero a blocchi litografia 1. Importante come generazione di un modello è la replica del modello. Oltre fotolitografia, nanoimprinting (Figura 1) è emerso come una promettente alternativa, in particolare, adatto per high-throughput di grande superficie patterning su scala nanometrica a basso costo 2-4. Ment....

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Protocol

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1. Mould Fabrication

Usiamo la nostra casa costruita configurazione nanoimprinting per la realizzazione del Rif stampo negativo seguente. 6, ma ogni installazione nanoimprinting alternativa vanno bene. In alternativa, un funzionalizzato polidimetilsilossano (PDMS) muffa potrebbe anche funzionare.

  1. Realizzare o comprare un master per il trasporto adatta il modello da trasferire su scala nanometrica. In linea di principio, qualsiasi master adatto per nanoimprinting farà il lavoro. Usiamo un livello di texture ZnO su una lastra di vetro (Schott, AF32 eco, 41 mm x 41 mm x 0,5 mm) depositati come descritto al punto 3.1 com....

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Results

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Figura 3 riassume alcuni esempi illustrativi di strutture nanomoulded. Una struttura master ZnO cresciuti CVD su vetro è mostrato in (a). Il corrispondente nanomoulded ZnO replica è mostrato in (d). Confronto dell'altezza locale (g) e angolo (j) istogrammi estratti da immagini AFM rivelano l'alta fedeltà del processo nanomoulding. Risultati analoghi sono indicati per un reticolo unidimensionale fabbricato da litografia interferenza (b, e, h, k) e alluminio anodicamente strutturato (c, f, i, l).

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Discussion

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Nanomoulding consente il trasferimento di nanopatterns su arbitrarie materiali funzionali. Confronto delle singole fasi di lavorazione in figura 1 e 2 rivela la stretta relazione tra nanomoulding e nanoimprinting. La principale differenza tra nanomoulding e nanoimprinting è l'ulteriore fase di deposizione di materiale in figura 2e. Il flusso di processo rimanente è identico. Nanomoulding possono quindi essere eseguite su qualsiasi configurazione nanoimprinting dispo.......

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Disclosures

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Nessun conflitto di interessi dichiarati.

Acknowledgements

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Gli autori ringraziano M. Leboeuf per l'assistenza con l', AFM W. Lee per il master in alluminio anodicamente texture e l'Ufficio svizzero dell'energia federale e il Fondo nazionale svizzero Science Foundation per il finanziamento. Una parte di questo lavoro è stato svolto nell'ambito del progetto FP7 "Fast Track", finanziato dalla CE nell'ambito convenzione di sovvenzione n 283501.

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Materials

List of materials used in this article
NameCompanyCatalog NumberComments
Nome del reagente Azienda Numero di catalogo Commenti (opzionale)
Nanoimprinting resina Microresist Ormostamp
(1H, 1H, 2H, 2H-Perfluoroctyl)-trichlorsilane, agente anti-aderenza Sigma Aldrich 448931-10G
Diapositiva su vetro Schott AF32 eco 0,5 millimetri
Polietilene naftalato (PEN) fogli Goodfellow ES361090 0,125 millimetri
(C 2 H 5) 2 Zn Akzo Nobel
Ag sputter 4N bersaglio Heraeus 81062165
B 2 H 6, SiH 4, H 2, B (CH 3) 3, PH 3, CH 4, CO 2 Messer
ATTREZZATURE
Nanoimprinting sistema Home-costruito
LP-CVD sistema Home-costruito
PVD sistema Leybold Univex 450 B
PE-CVD reattore Indeotec Octopus I
SEM JEOL JSM-7500 TFE
AFM Gli strumenti digitali Nanoscope 3100

References

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  1. Geissler, M., Xia, Y. Patterning: Principles and Some New Developments. Advanced Materials. 16 (15), 1249-1269 (2004).
  2. Guo, L. J. Nanoimprint Lithography: Methods and Material Requirements. Advanced Materials. 19, 495-513 (2007).
  3. Ahn, S. H., Guo, L. J.

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NanomouldingNanoimprintingPattern TransferZinc Oxide DepositionUV Cured ResinChemical Vapor DepositionMaster Mold FabricationAnti Adhesion LayerLayer Transfer TechniqueFunctional Material Replication

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