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Articolo metodologico

Fabbricazione di superfici reattive con spazzola e film reticolato di co-polimeri funzionalizzati Azlactone blocco

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DOI:

10.3791/57562

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30 giugno 2018

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In questo articolo

Sommario

Metodi di fabbricazione di superficie per fantasia deposizione di nanometro spessa spazzole o micron di spessore, film reticolato di un copolimero del blocco di azlactone sono segnalati. Fasi critiche sperimentale, risultati rappresentativi e le limitazioni di ciascun metodo sono discussi. Questi metodi sono utili per la creazione di interfacce funzionali con caratteristiche fisiche su misura e reattività di superficie sintonizzabile.

Abstract

In questa carta, metodi di fabbricazione che generano superfici romanzo utilizzando il blocco basato su azlactone co-polimero, poli (metacrilato di glycidyl) -blocco- poly (vinyl azlactone dimetil) (PGMA -b- PVDMA), sono presentati. Dovuto l'alta reattività dei gruppi di azlactone verso ammina, tiolo e gruppi dell'idrossile, PGMA -bsuperfici - PVDMA possono essere modificate con molecole secondari per creare interfacce chimicamente o biologicamente funzionalizzate per una varietà di applicazioni. I rapporti precedenti di fantasia PGMA -b- PVDMA interfacce hanno usato le tecniche tradizionali verticistica patterning che generano non uniforme film e composizioni chimiche scarsamente controllato sfondo. Qui, descriviamo le tecniche di campitura su misura che permettono la precisa deposizione di altamente uniforme PGMA -b- PVDMA film in sfondi che sono chimicamente inerti o che hanno proprietà di biomolecole-repellente. D'importanza, questi metodi sono progettati per deposito PGMA -b- PVDMA film in un modo che mantiene completamente azlactone funzionalità attraverso ogni fase di lavorazione. Film fantasia mostrano spessori ben controllati che corrispondono ai pennelli di polimero (~ 90 nm) o altamente reticolato strutture (~ 1-10 μm). Pattern pennello vengono generati utilizzando entrambi il lift-off parylene o interfaccia diretto metodi di montaggio descritti e sono utili per una modulazione precisa di reattività chimica complessiva di superficie regolando sia il PGMA -b- PVDMA densità dello schema o il lunghezza del blocco VDMA. Al contrario, la spessa, reticolato PGMA -b- PVDMA modelli sono ottenuti utilizzando una tecnica di stampa micro contatto su misura e offrono il vantaggio di carico più elevato o la cattura di materiale secondario a causa della maggiore superficie per rapporti di volume. Procedura sperimentale dettagliata, caratterizzazioni di pellicola critica e Trouble-Shooting guide per ogni metodo di fabbricazione sono discussi.

Introduzione

Lo sviluppo di tecniche di fabbricazione che consentono un controllo preciso e versatile di funzionalità superficiale chimico e biologico è desiderabile per una varietà di applicazioni, dalla cattura dei contaminanti ambientali allo sviluppo della prossima generazione biosensori, gli impianti e dispositivi1,2di ingegneria tissutale. Polimeri funzionali sono ottimi materiali per la sintonizzazione proprietà superficiali attraverso "l'innesto da" o "l'innesto a" tecniche3. Questi approcci consentono un controllo della reattività superficiale basata su funzionalità chimica del monomero e p....

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Protocollo

1. PGMA -b- PVDMA sintesi20

  1. Sintesi PGMA macro-catena dell'agente di trasferimento (Macro-CTA)
    1. Utilizzare una reazione di turno-inferiore 250 mL imballati equipaggiato con un ancoretta magnetica rivestite con politetrafluoroetilene.
    2. Combinare 14,2 g di glicidil metacrilato GMA (142.18 g/mol) con 490,8 mg di 2-ciano-2-propil dodecil trithiocarbonate (CPDT) (346.63 g/mol) e 87,7 mg di 2, 2 '-azobis (4-metossi-2,4-dimetil valeronitrile) (V-70) (308.43 g/mol) (rapporto molare di CPDT: V-70 = 5:1) e il benzene (100 mL) in aria libera pallone da.
    3. Degassare la miscela di reazione mediante argon e agitar....

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Risultati

Misure di angolo di contatto possono essere utilizzate per valutare la funzionalizzazione del silicio con PGMA-b-PVDMA. Figura 1 illustra l'angolo di contatto del substrato di silicio durante le fasi di lavorazione diverse. Comportamento idrofilo del substrato di silicio del plasma pulito è mostrato in Figura 1B. L'angolo di contatto dopo polimero spin coating e ricottura è 75° ± 1°(figura 1

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Discussione

Questo articolo presenta tre approcci al patterning PGMA -b- PVDMA, ciascuno con una serie di vantaggi e svantaggi. Il metodo di Lift-off parylene è un metodo versatile per patterning blocco co-polimeri presso micro risoluzione su scala nanometrica ed è stato usato come una maschera di deposizione in altri patterning sistemi33,34,35. Dovuto la relativa adesione di superficie relativamente debole, lo stencil parylene può.......

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Dichiarazioni

Gli autori non hanno nulla a rivelare.

Ringraziamenti

Questa ricerca è stata sostenuta da Kansas State University. Una parte di questa ricerca è stata condotta presso il centro per Nanophase Materials Sciences, che è sponsorizzato Oak Ridge National Laboratory dalla divisione scientifica di strutture utente, Office di base energia scienze e US Department of Energy.

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Materiali

Elenco dei materiali utilizzati in questo articolo
NomeAziendaNumero di catalogoCommenti
Materiale
Etanolo, ≥ 99,5%Sigma-Aldrich459844-HCL
, 1,019 N in H2OFluka Analytical
318949-acetone, ≥ 99,5%Sigma-Aldrich320110-benzene
, ≥ 99,9%Sigma-Aldrich270709-
Isopropanolo, reagente ACS, ≥ 99,5%Sigma-Aldrich190764
HexaneFisher ChemicalH292-4-Argon
Matheson Gas
G1901175-Tetraidrofurano (THF), ≥ 99,9%Sigma-Aldrich
401757-Pluronic F-127Sigma-AldrichP2443-Polidimetil
Silossano (PDMS) Slygard 184Dow Corning4019862-tricloro
(1H,1H,2H,2H-perfluoroottil) silano (TPS), 97%Sigma-Aldrich448931È tossico. Lavorare con esso sotto il cofano
Cloroformio anidro, ≥ 99%Sigma-Aldrich372978-Positive
Photoresist AZ1512MicroChemicalsAZ 1512liquido rosso ambrato, densità 1,083 g/cm3, la fase di rivestimento deve essere eseguita sotto il cofano
Sviluppatore AZ 300 MIFMicroChemicalsAZ300 MIFliquido incolore trasparente con leggero odore di ammina e densità di 1 g/cm3
1,2-vinil-4,4-dimetil azlattone (VDMA)Isochem North America, LLC
dodecil tritiocarbonato (CPDT)Sigma-Aldrich
723037-2,2′-Azobis (4metossi-2,4-dimetil valeronitrile) (V-70)Wako Specialty ChemicalsCAS NO. 15545-97-8, EINECS No. 239-593-8-Parylene
NSpecialty Coating Systems15B10004-
NameAziendaNumero di catalogoComments
Equipment
Parylene CoaterSpecialty Coating SystemsSCS Labcoater (PDS 2010)-
Sistema di allineamento mascheraNeutronix QuintelNXQ8000-
Incisore al plasmadi ossigeno Oxford InstrumentsSistema da laboratorio al plasma 100-Profilometro
superficieVeecoDektak 150Il tipo di scansione era standard hill. La durata e la forza della scansione sono state rispettivamente di 120 s e 1 mg.
Microscopio verticale a campo chiaroOlympus CorporationBX51-Oxygen
Plasma  CleanerHarrick PlasmaPDC-001-HP-Spettroscopia
infrarossa a trasformata di Fourier a riflettanza totale attenuata (ATR-FTIR)Perkin ElmerATR-FTIR 100-Microscopia
forza atomica (AFM)Microscopio a forza atomica PicoPlus PicoplusVeeco MLCT-E cantilever con una costante elastica di 0,5 N/m. Le velocità di scansione variavano tra 0,25 e 1 Hz.
Microscopia elettronica a scansione (SEM)Hitachi Science Systems Ltd., Tokyo, Giappone--
Stazione di lavoro per utensili rotantiDremelModello 220-01-Spin
CoaterSmart CoaterSC100-Forno
sottovuotoYamato Scientific Co.PCD-C6(5)000)-
Cromatografia ad esclusione dimensionale (SEC)Waters Alliance 2695 Separations Module720004547Rivelatore con
indice di rifrazione (RI)rivelatore Waters modello 2414
array di fotodiodiWatersModel 2996,
rivelatore 716001286-Multi-angle Light Scattering (MALS)Wyatt TechnologyminiDAWN TREOS II-Viscosimetro
Wyatt TechnologyViscostar-PLgel
5 µ m colonne a C misto (300 x 7,5 mm)Agilent5 µ m colonne C
J. A. Woollamalpha-SEmodello di Cauchy, strati PGMA e PVDMA avevano indici di rifrazione di 1,50 e 1,52 a 632 nm
Sonicatore ad ultrasuoniFischer ScientificFS-110H-
VDMA-2-ciano-2-propil di a EN, , miste-Ellipsometro

Riferimenti

  1. Faia-Torres, A., Goren, T., Textor, M., Pla-Roca, M. Patterned Biointerfaces. Comprehensive biomaterials. , 1st edition, Elsevier publications. 181-201 (2017).
  2. Ogaki, R., Alexander, M., Kingshott, P. Chemical patterning in biointerface science. Materials Today. 13 (4), 22-35 (2010).
  3. Rungta, A., et al. Grafting bimodal....

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Ristampe e permessi

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