In questo rapporto viene presentato un metodo semplice e rapido per fabbricare un transistor ad effetto di campo sensibile agli ioni (ISFET) (ITO-ISFET) basato su ossido di indio e stagno (ITO) per il biorilevamento. Sebbene l'ITO sia un ossido conduttivo, presenta proprietà semiconduttive con uno spessore dello strato di deplezione di circa 20 nm o meno, il che lo rende adatto come canale di un ISFET sensibile alla soluzione dipendente dal pH. In particolare, incidendo la parte centrale di un singolo film sottile ITO conduttivo con una soluzione acida per renderlo ultrasottile, è possibile fabbricare un ITO-ISFET monopezzo con un canale semiconduttivo. La sorgente, gli elettrodi di drenaggio e il canale sono completamente integrati senza interfacce. La superficie del canale ITO viene quindi immersa in soluzioni campione con un elettrodo di riferimento, consentendogli di funzionare come un ISFET solution-gated. Pertanto, l'ITO-ISFET monopezzo può essere fabbricato in modo semplice e rapido utilizzando solo lo sputtering seguito dall'incisione attraverso una tecnica di fotolitografia, con la soluzione del campione che funge comodamente da cancello.