Name: Sintesi layer-by-layer e di trasferimento delle Freestanding coniugati microporosi Polymer nanomembrane (Video) | JoVE Journal
Uploaded: 2015-12-15T13:00:00.000+00:00
Duration: 9 min 9 s
Description: Scopri la sintesi layer-by-layer di nanomembrane libere di polimeri microporosi coniugati su substrati sacrificabili. Questo metodo consente di ottenere membrane uniformi per applicazioni in elettronica organica e separazione.

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1. Sintesi di CMP film sottili attraverso l&#39;aggiunta sequenziale <ol><li> Auto-assemblati monostrato (SAM) funzionalizzazione di oro su mica. <ol><li> Preparare la soluzione 1 mM di 11-thioacetyl-undecano acid-propargyl ammide 14 in etanolo (SAM-soluzione). Miscelare con bagno a ultrasuoni fino a soluzione è limpida. Proteggere la bottiglia dalla luce utilizzando un foglio di alluminio. </li><li> Ottenere l&#39;oro rivestite mica wafer sotto argon. Dopo il ritiro dal contenitore immergere il wafer mica direttamente alla SAM-soluzione per 18 ore. </li><li> Prendere il preparato Au-mica cialda fuori dalla SAM-soluzione, risciacquare con etanolo e secco sotto corrente di azoto. Successivamente memorizzare il substrato al riparo dalla luce e sotto gas inerte. </li></ol></li><li> Soluzioni Precursore. <ol><li> Pesare 18.64 mg di Cu-catalizzatore (Tetrakis (acetonitrile) rame (I) esafluoro-fosfato), 20,83 mg tetrafenilmetano (TPM) -alkyne e 24.22 mg TPM-azide e riempire ogni componente in un pallone Schlenk separata.Vedere la Figura 1 per TPM-alchino e TPM-azide, la sintesi è descritto in riferimento 15. Evacuare e riempire con gas inerte (N 2 o argon) 3 volte. </li><li> Aggiungere 25 ml di tetraidrofurano privo di acqua (THF) ad ogni pallone Schlenk. Proteggere i palloni con TPM-azide e TPM-alkyne dalla luce con un foglio di alluminio. </li></ol></li><li> Preparare apparecchi per la fabbricazione CMP. Nota: L&#39;apparato di sintesi è illustrato nella figura 2. <ol><li> Utilizzare un pallone a fondo tondo da 250 ml un collo. Compilare 130 ml THF. Mettere il substrato preparata rivestito con alkyne terminato SAM nel vano campione. Utilizzare un portacampioni, in modo che il substrato è in piedi. </li><li> Collegare l&#39;apparecchiatura alla linea schlenk tramite giunzione sopra il refrigerante a ricadere. </li><li> Evacuare e ventilare con gas inerte per 3 volte. </li></ol></li><li> Inoltre sequenziale in condizioni inerti. <ol><li> Impostare il riscaldamento a 90 ° C e aspettare che il THF è reflussaggio. </li><li> Lasciare fuori THF dal vano del campione sopra la presa sul fondo del vano campione. Chiudere la presa. </li><li> Dare 1 ml della soluzione TPM-azide preparati e 0,5 ml della soluzione di Cu (I) catalizzatore per il compartimento del campione attraverso il tappo a vite con setto. Utilizzare una siringa con un ago cavo per trasferire la soluzione in sequenza dal pallone Schlenk all&#39;apparecchio reazione. Nota: La sequenza non ha alcuna influenza alla reazione. </li><li> Attendere circa 30 minuti. </li><li> Lasciare la soluzione di reazione sopra la presa sul fondo del vano campione. Chiudere l&#39;uscita e raccogliere il THF condensata per il risciacquo del campione. Attendere circa 30 minuti. </li><li> Lasciare la soluzione di risciacquo sopra la presa sul fondo del vano campione. Chiudere la presa. </li><li> Dare 1 ml della soluzione TPM-alchino preparati e 0,5 ml della soluzione di Cu (I) catalizzatore per il compartimento del campione attraverso il tappo a vite con setto. Utilizzare una siringa con una cavitàago per trasferire la soluzione in sequenza dal pallone Schlenk all&#39;apparecchio reazione. Nota: La sequenza non ha alcuna influenza alla reazione. </li><li> Attendere circa 30 minuti. </li><li> Lasciare la soluzione di reazione sopra la presa sul fondo del vano campione. Chiudere l&#39;uscita e raccogliere il THF condensata per il risciacquo del campione. Attendere circa 30 minuti. </li><li> Ripetere i passaggi da 1.4.3 a 1.4.9 fino al raggiungimento della quantità desiderata di strati. Nota: Un uno spessore di circa 1 nm. </li><li> Estrarre il substrato di mica rivestite CMP, sciacquarlo con THF, etanolo e asciugare in corrente di azoto. </li></ol></li></ol> 2. Trasferimento di CMP nanomembrane <ol><li> Soluzione di poli (metilmetacrilato) (PMMA). <ol><li> Preparare una soluzione di 4% (in peso) PMMA (M 996 kDa) in acetato di etile. Sciogliere il PMMA utilizza bagno a ultrasuoni fino alla soluzione è limpida. </li></ol></li><li> Spin coating di soluzione PMMA. <ol><li> Impostare il dispositivo a induzione di rotazione a Ratempo mp 10 secondi da 0 a 4.000 giri, tempo di mantenimento 40 sec e il tempo di rampa 10 secondi da 4.000 a 0 rpm. </li><li> Posizionare il CMP substrato di mica rivestito sulla coater rotazione e mettere la soluzione PMMA sul wafer finchè è completamente coperto. Avviare il dispositivo a induzione di rotazione. </li><li> Dopo spin coating è completato, mettere il campione per 5 minuti su una piastra riscaldante a 90 ° C. </li><li> Tagliare 1 mm da ogni bordo del substrato mica rivestita. Utilizzare una forbice per tagliare i bordi. </li></ol></li><li> Trasferimento di PMMA rivestito CMP nanomembrana. <ol><li> Preparare la soluzione di I 2 / KI / H 2 O (1: 4: 40 m / m / m) e KI / H 2 O (1:10 m / m). </li><li> Riempire la soluzione che ho 2 / KI H 2 O in 150 ml cristallizzazione piatto e riempire la soluzione KI / H 2 O in 100 ml di cristallizzazione piatto. Mettere l&#39;oro CMP PMMA rivestiti su substrato di mica, mica in contatto soluzione, in cima alla I 2 / KI / H 2 O soluzione. Fate attenzione che non affonda.Attendere almeno 5 minuti. </li><li> Mettere il CMP oro substrato di mica rivestite PMMA dalla I 2 / KI / H 2 O soluzione sopra della soluzione KI / H 2 O, con mica in contatto soluzione. Fate attenzione che non affonda. Attendere almeno 5 minuti. </li><li> Riempire acqua distillata in 250 ml cristallizzazione piatto. Togliere il / pellicola / oro CMP PMMA dal mica. A tale scopo, leggermente immergendo il substrato, a partire da un bordo, in acqua distillata. Tenere il substrato in modo che la mica punta all&#39;acqua. Nota: La procedura è illustrata nella figura 3. </li><li> Dip-coat PMMA / CMP / oro sul wafer di silicio. A tale scopo, si avvicina il PMMA / CMP / oro lentamente con la cialda fino a toccare bordo della piscina PMMA / membrana / oro CMP. Estrarre il wafer di silicio lentamente, una volta che il Si-wafer è in contatto con il / CMP membrana PMMA / oro. </li><li> Striscia la / CMP pellicola PMMA / oro fuori dal wafer di silicio. A tale scopo, un po &#39;immergendo il substrato, a cominciare da una cura dige, in I 2 / KI / H 2 O soluzione. Aspettare 15 minuti. </li><li> Dopo l&#39;oro è completamente inciso, trasferire la membrana PMMA / CMP di acqua attraverso il wafer di silicio. Aspettare 15 minuti. </li><li> Ripetere il punto 2.3.7 tre volte per lavare la membrana con acqua. </li><li> Trasferire la membrana PMMA / CMP lavato al substrato desiderato, ad esempio, un vetrino o un oro rivestite wafer di silicio, tramite il metodo indicato nel passaggio 2.3.5. Lasciate che il PMMA / CMP supporto asciutto in aria per almeno 2 ore. </li></ol></li><li> Scioglimento del PMMA. <ol><li> Mettere il substrato PMMA / CMP in acetone. Attendere 30 min. Estrarre il substrato e risciacquare con acetone. </li><li> Ripetere il punto 2.4.1 tre volte. </li><li> Lasciate che il CMP supporto asciutto per almeno 2 ore. </li></ol></li></ol>

<ol><li>Lindemann, P., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Preparation+of+Freestanding+Conjugated+Microporous+Polymer+Nanomembranes+for+Gas+Separation%5BTitle%5D)+AND+%22Chemistry+of+Materials%22%5BJournal%5D)">Preparation of Freestanding Conjugated Microporous Polymer Nanomembranes for Gas Separation.</a> Chemistry of Materials. 26 (24), 7193-71 (2014).</li>
<li>Kim, M., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Preparation+of+Ultrathin+Films+of+Molecular+Networks+through+Layer-by-Layer+Cross-Linking+Polymerization+of+Tetrafunctional+Monomers%5BTitle%5D)+AND+%22Macromolecules%22%5BJournal%5D)">Preparation of Ultrathin Films of Molecular Networks through Layer-by-Layer Cross-Linking Polymerization of Tetrafunctional Monomers.</a> Macromolecules. 44 (18), 7092-7095 (2011).</li>
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<li>Shekhah, O., Liu, J., Fischer, R. A., Wöll, C. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((MOF+thin+films%3A+existing+and+future+applications%5BTitle%5D)+AND+%22Chemical+Society+Reviews%22%5BJournal%5D)">MOF thin films: existing and future applications.</a> Chemical Society Reviews. 40 (2), 1081-1106 (2011).</li>
<li>Liu, J., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Deposition+of+Metal-Organic+Frameworks+by+Liquid-Phase+Epitaxy%3A+The+Influence+of+Substrate+Functional+Group+Density+on+Film+Orientation%5BTitle%5D)+AND+%22Materials%22%5BJournal%5D)">Deposition of Metal-Organic Frameworks by Liquid-Phase Epitaxy: The Influence of Substrate Functional Group Density on Film Orientation.</a> Materials. 5 (9), 1581-1592 (2012).</li>
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<li>Muller, T., Bräse, S. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Click+Chemistry+Finds+Its+Way+into+Covalent+Porous+Organic+Materials%5BTitle%5D)+AND+%22Angewandte+Chemie+International+Edition%22%5BJournal%5D)">Click Chemistry Finds Its Way into Covalent Porous Organic Materials.</a> Angewandte Chemie International Edition. 50 (50), 11844-11845 (2011).</li>
<li>Tsotsalas, M., Addicoat, M. A. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Covalently+linked+organic+networks%5BTitle%5D)+AND+%22Frontiers+in+Materials%22%5BJournal%5D)">Covalently linked organic networks.</a> Frontiers in Materials. 2, (2015).</li>
<li>Kleinert, M., Winkler, T., Terfort, A., Lindhorst, T. K. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((A+modular+approach+for+the+construction+and+modification+of+glyco-SAMs+utilizing+1%2C3-dipolar+cycloaddition%5BTitle%5D)+AND+%22Organic+%26+Biomolecular+Chemistry%22%5BJournal%5D)">A modular approach for the construction and modification of glyco-SAMs utilizing 1,3-dipolar cycloaddition.</a> Organic & Biomolecular Chemistry. 6 (12), 2118-2132 (2008).</li>
<li>Plietzsch, O., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Four-fold+click+reactions%3A+Generation+of+tetrahedral+methane-+and+adamantane-based+building+blocks+for+higher-order+molecular+assemblies%5BTitle%5D)+AND+%22Organic+%26+Biomolecular+Chemistry%22%5BJournal%5D)">Four-fold click reactions: Generation of tetrahedral methane- and adamantane-based building blocks for higher-order molecular assemblies.</a> Organic & Biomolecular Chemistry. 7, (2009).</li>
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</ol>

Gli autori non hanno nulla da rivelare.

Per la sintesi del CMP film la soluzione del catalizzatore deve essere fresco. Un catalizzatore rotto (cioè, ossidato) è indicato da una colorazione blu della soluzione. La soluzione fresca è incolore. Un punto cruciale è per tagliare i bordi del substrato di mica dopo spin coating PMMA. Anche difetti del substrato deve essere tagliato, cioè, ogni punto fosse il PMMA può venire in contatto con il substrato di mica, a causa di uno strato di oro mancante. Altrimenti lo strato...

La preparazione di membrane polimeriche ultrasottili è di grande interesse per applicazioni nella separazione dei gas e nella nanofiltrazione. Le sfide nella sintesi sono rappresentate da (a) il controllo dello spessore della membrana e l'omogeneità e (b) il trasferimento di tali membrane fragili. Per superare la sfida (a), la sintesi molecolare strato per strato1 si è dimostrata molto promettente nel controllare lo spessore e l'omogeneità dei film sottili cresciuti all'interfaccia solido-liquido. 2,3 Il controllo del numero di strati controlla linearmente lo spessore del film. Il metodo l-b-l è stato utilizzato con successo per fabbricare strutture organiche metalliche montate in superficie (SURMOFs),4-7 ed è stata dimostrata anche la sintesi di film polimerici sottili tramite reazione l-b-l di catene polimeriche. 8 La sfida (b) riguarda la manipolazione di queste membrane ultrasottili. Per evitare la rottura o l'increspatura delle nanomembrane, i supporti sacrificali dei rivestimenti si sono dimostrati molto promettenti. 9
Qui presenteremo un protocollo dettagliato per la sintesi di film sottili di polimeri microporosi coniugati (CMP)10-13 attraverso l'aggiunta sequenziale dei blocchi molecolari, con lo spessore e la composizione desiderati. La preparazione di nanomembrane CMP autoportanti si ottiene utilizzando un supporto sacrificale. Per gestire e trasferire le nanomembrane CMP su altri supporti, descriveremo un semplice protocollo per proteggere le membrane con rivestimenti sacrificali e la loro risalita all'interfaccia aria liquida e il successivo trasferimento mediante dip-coating.

<table><tbody><tr><td>Acetone</td><td>VWR BDH Prolabo</td><td>20066.330</td><td>AnalR NORMAPUR</td></tr><tr><td>Ioduro di potassio</td><td>VWR BDH Prolabo</td><td>26846.292</td><td>AnalR NORMAPUR</td></tr><tr><td>Acetato di etile</td><td>VWR BDH Prolabo</td><td>23882.321</td><td>AnalR NORMAPUR</td></tr><tr><td>Tetraidrofurano (THF)</td><td>VWR BDH Prolabo</td><td>28559.320</td><td>HiPerSolv CHROMANORM</td></tr><tr><td>THF senza acqua</td><td>Merck Millipore</td><td>1.08107.1001</td><td>SeccoSolv</td></tr><tr><td>Iodio</td><td>Sigma-Aldrich</td><td>20,777-2</td><td></td></tr><tr><td>Tetrakis(acetonitrile) rame(I) esafluoro-fosfato</td><td>Sigma-Aldrich</td><td>346276-5G</td><td></td></tr><tr><td>Poli(metacrilato di metile) 996 kDa (PMMA)</td><td>Sigma-Aldrich</td><td>182265-25G</td><td></td></tr><tr><td>1.1.1.1 Metanotetetrayltetrakis(4-azidobenzene) (TPM-azide)</td><td></td><td></td><td>Fornito da AK Prof. Br&auml;se. Istituto di chimica organica, Karlsruhe Institute of Technology. Sintetizzato secondo 9.</td></tr><tr><td>1.1.1.1 Metanotetrayltetrakis(4-etinilenbenzene) (TPM-alchino)</td><td></td><td></td><td>Fornito da AK Prof. Br&auml;se. Istituto di chimica organica, Karlsruhe Institute of Technology. Sintetizzato secondo 9.</td></tr><tr><td>11-tioacetil-undecaneacido propargilamide</td><td></td><td></td><td>Fornito da AK Prof. Br&auml;se. Istituto di chimica organica, Karlsruhe Institute of Technology. Sintetizzato secondo 8.</td></tr><tr><td>wafer di silicio rivestito in oro/titano</td><td>Georg Albert PVD, 76857 Silz, Germania</td><td></td><td></td></tr><tr><td>Mica rivestita in oro</td><td>Georg Albert PVD, 76857 Silz, Germania</td><td></td><td></td></tr></tbody></table>

sintesi layer-by-layer e di trasferimento delle freestanding coniugati microporosi polymer nanomembrane

Layer-by-layer Synthesis and Transfer of Freestanding Conjugated Microporous Polymer Nanomembranes

CMP come grandi materiali Superficie hanno suscitato crescente interesse recente, a causa della loro elevata variabilità nella incorporazione di gruppi funzionali in combinazione con loro eccezionale stabilità termica e chimica e basse densità. Tuttavia, la loro natura insolubile causa problemi nella loro lavorazione poiché le tecniche normalmente applicate come rivestimento a rotazione non sono disponibili. Specialmente per le applicazioni di membrana, in cui il trattamento di CMP come film sottili è desiderabile, i problemi di elaborazione hanno ostacolato la loro applicazione commerciale. Qui si descrive la sintesi interfacciale di film sottili su substrati funzionalizzati CMP tramite layer-by-layer (LBL) sintesi molecolare. Questo processo consente di ottenere film con spessore desiderato e composizione e gradienti di composizione persino desiderati. L&#39;uso di supporti sacrificali permette la preparazione di membrane autoportanti mediante dissoluzione del supporto dopola sintesi. Per gestire tali membrane autoportanti ultrasottili di protezione con rivestimenti sacrificali ha mostrato grande promessa, per evitare la rottura delle nanomembrane. Per trasferire i nanomembrane al substrato desiderato, le membrane sono rivestite upfloated all&#39;interfaccia aria-liquido e quindi trasferiti tramite dip coating.

Le membrane sono caratterizzati mediante spettroscopia di assorbimento infrarosso riflessione (IRRAS). 16 Figura 4 mostra IRRA-spettri da un CMP-membrana trasferito ad un wafer oro. Bande tipiche vibrazioni della dorsale aromatico sono a 1,605 cm -1, 1.515 cm -1 e 1.412 cm -1. Reagiti gruppi alchini e azide può essere osservato da bande caratteristici a 2.125 cm -1 e 1.227 cm -1. La Figura 5 mostra una im...

In questo articolo descriviamo la sintesi interfacciale di polimeri microporosi coniugati (CMP) su substrati sacrificali e la dissoluzione del substrato per la preparazione di nanomembrane CMP indipendenti. Inoltre, descriveremo come le fragili nanomembrane possono essere trasferite ad altri substrati.

Sintesi layer-by-layer e di trasferimento delle Freestanding coniugati microporosi Polymer nanomembrane

CMP as large surface area materials have attracted growing interest recently, due to their high variability in the incorporation of functional groups in ...

L'obiettivo generale di questa procedura è ottenere membrane nanostrutturate autonome di polimeri porosi coniugati. Questo metodo può contribuire a rispondere a domande fondamentali nel campo dei polimeri porosi coniugati, come ad esempio come preparare film sottili e membrane autonome di materiali solitamente insolubili. Il principale vantaggio di questa tecnica è che consente la produzione e il trasferimento di membrane uniformi con spessore estremamente ridotto e omogeneo, mediante un passaggio di sintesi su un substrato.Sebbene questo metodo possa essere applicato per la separazione delle membrane, può risultare utile anche per altre applicazioni come l'elettronica organica o la catalisi eterogenea. La dimostrazione della procedura sarà affidata a un tecnico del nostro laboratorio. Preparare l'apparecchiatura per la fabbricazione di CMP.Utilizzare un pallone a fondo rotondo da 500 millilitri con un collo e aggiungere 300 millilitri di tetraidrofurano o THF. Posizionare un substrato preparato rivestito con un monolayer autoassemblato terminante con gruppi alchilici, o SAM, nel compartimento del campione, utilizzando un portacampione in modo che il substrato sia in posizione verticale. Collegare l'apparato alla linea a vuoto tramite il giunto situato nella parte superiore del refrigerante a riflusso.Svuotare e ventilare l'apparato con gas inerte per tre volte. Successivamente, far uscire il THF dal comparto del campione attraverso l'uscita situata nella parte inferiore del comparto e chiudere l'uscita. Poi, aggiungere un millilitro di una soluzione di azi-TPM preparata e 0,5 millilitri di una soluzione di catalizzatore di rame al comparto del campione attraverso il tappo a vite con settum.Utilizzare una siringa con un ago cavo per trasferire le soluzioni in sequenza dal pallone laterale all'apparato di reazione. Dopo aver atteso circa 30 minuti, rilasciare la soluzione di reazione attraverso l'uscita situata nella parte inferiore del compartimento del campione. Chiudere l'uscita e raccogliere il THF condensato per risciacquare il campione.Attendere circa altri 30 minuti, quindi scaricare la soluzione di risciacquo attraverso l'uscita nella parte inferiore del compartimento del campione e chiudere l'uscita. Aggiungere 1 millilitro della soluzione TPM Aine preparata e 0,5 millilitri della soluzione catalizzatrice di rame nel compartimento del campione attraverso il tappo a vite con setto. Trasferire la soluzione in sequenza dal contenitore all'apparato di reazione utilizzando una siringa con ago cavo.Dopo aver atteso circa 30 minuti, rilasciare la soluzione di reazione attraverso l'uscita nella parte inferiore del compartimento del campione. Chiudere l'uscita e raccogliere il THF condensato per il risciacquo del campione. Dopo aver atteso ulteriori 30 minuti, ripetere l'aggiunta sequenziale fino a raggiungere il numero desiderato di strati, con uno spessore di circa un nanometro per strato.Come passaggio finale, rimuovere il substrato di mica rivestito con CMP. Risciacquarlo con THF ed etanolo, quindi asciugarlo sotto un flusso di azoto. Impostare uno spin coater su un tempo di rampa di 10 secondi da zero a 4.000 giri/min, un tempo di mantenimento di 40 secondi e un tempo di rampa di 10 secondi da 4.000 a zero giri/min.Posizionare il substrato di MICA rivestito con CMP sullo spin coater e versare la soluzione A-P-M-M-A sulla wafer fino a quando non è completamente ricoperta. Avviare lo spin coater, quindi tagliare un millimetro da ciascun bordo del substrato di mica rivestito utilizzando una forbice per tagliare i bordi. Successivamente, riempire una capsula di cristallizzazione da 150 millilitri con una soluzione di iodio ioduro di potassio e una capsula di cristallizzazione da 100 millilitri con una soluzione di ioduro di potassio.Posizionare il CMP dorato rivestito con PMMA sul substrato di mica, con la mica a contatto con la soluzione, sopra la soluzione di iodio ioduro di potassio. Fare attenzione che non affondi. Attendere almeno cinque minuti, quindi trasferire il substrato MICA con CMP dorato rivestito con PMMA dalla soluzione di iodio ioduro di potassio alla sommità della soluzione di ioduro di potassio, con la mica a contatto con la soluzione.Anche in questo caso, fare attenzione a non farla affondare e attendere almeno cinque minuti. Successivamente, riempire una capsula di cristallizzazione da 250 millilitri con acqua distillata. Rimuovere il film d'oro in P-M-M-A-C-M-P dalla MICA immergendo leggermente il substrato a partire da un bordo in acqua distillata.Tenere il substrato in modo che la MICA sia rivolta verso l'acqua; ricoprire con immersione il gold P-M-M-A-C-M-P sul wafer di silicio avvicinando delicatamente il wafer alla membrana galleggiante di gold P-M-M-A-C-M-P. Muoversi lentamente con il wafer finché non tocca il bordo della membrana, quindi estrarre lentamente il wafer di silicio. Una volta che il wafer di silicio è a contatto con la membrana di gold P-M-M-A-C-M-P, rimuovere il film di gold P-M-M-A-C-M-P dal wafer di silicio immergendo leggermente il substrato, a partire da un bordo, nella soluzione di iodio e ioduro di potassio, e attendere 15 minuti dopo che l'oro è stato completamente attaccato.Trasferire la membrana P-M-M-A-C-M-P nell'acqua tramite la wafer di silicio e attendere ulteriori 15 minuti. Ripetere questo passaggio tre volte per lavare la membrana con acqua. Successivamente, trasferire la membrana P-M-M-A-C-M-P lavata su una wafer di silicio rivestita d'oro.Come in precedenza, lasciare asciugare all'aria il substrato P-M-M-A-C-M-P per almeno due ore. Per sciogliere il PMMA, immergere il substrato P-M-M-A-C-M-P in acetone e attendere 30 minuti.Estrarre il substrato e risciacquarlo con acetone. Dopo aver ripetuto questo passaggio tre volte, lasciare asciugare il substrato CMP per almeno due ore. I membrane sono caratterizzati mediante spettroscopia di riflessione e assorbimento nell'infrarosso o IR.Lo spettro RAS mostrato qui è uno spettro IRRA ottenuto da una membrana CMP trasferita su un wafer d'oro. Le bande tipiche relative alle vibrazioni del gruppo aromatico del polimero si trovano a 1.605, 1.515 e 1.412 cm⁻¹. Nel caso siano presenti gruppi residui non reagiti, azidici o alchini, possono essere osservate bande caratteristiche a 2.125 e 1.227 cm⁻¹.Qui è mostrata un'immagine di microscopia elettronica a scansione. La membrana libera è chiaramente visibile. Una volta padroneggiata, questa tecnica di trasferimento può essere eseguita in meno di un'ora se effettuata correttamente. Durante il tentativo di questa procedura, è importante ricordare di tagliare i bordi del microsubstrato dopo la fase di spin coating, seguendo questa procedura.Altri metodi come la modifica sintetica o il photo patterning possono essere utilizzati per ottimizzare la chimica finalizzata della nanomembrana per le applicazioni desiderate dopo il suo sviluppo. Questa tecnica può aiutare i ricercatori nel campo dei polimeri micropros congregati a trasferire le promettenti proprietà in massa in dispositivi reali.

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