ラジカル反応性: 濃度効果

出発物質の濃度は、ラジカル反応の選択性に大きく影響します。

ハロゲン化アルキルとアルケンの反応を考えてみましょう。トリブチルスズ水素化物およびラジカル開始剤であるAIBNの存在下で、アルキル基がアルケンに付加される。

通常、反応はスズラジカルの生成から始まり、その後、ハロゲン化アルキルからハロゲンが抽出され、アルキルラジカルが生成されます。

アルキルラジカルには選択肢があります。水素化スズから水素を取り出してアルカンを生成するか、アルケンに付加してニトリル安定化ラジカルを形成し、さらに反応して付加生成物を形成することができます。

これは、2つの反応の速度定数がほぼ同じであるためです。

付加生成物への反応を促進するために、アルケン濃度は常に水素化スズの濃度の少なくとも10倍である必要があります。

これにより、アルキルラジカルがアルケンに付加する速度が増加します。

結論として、出発物質の濃度は、一方の反応を他方の反応よりも優先することにより、ラジカル反応の選択性を支配します。