フィールドデウェッティングデバイス(Field-DW)の製造と操作のためのプロトコル、および液滴内容物に対する電界の影響に関する予備的研究について説明します。
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フィールドデウェッティングデバイス(Field-DW)の製造と操作のためのプロトコル、および液滴内容物に対する電界の影響に関する予備的研究について説明します。
デジタルマイクロ流体工学(DMF)は、液滴を操作する技術であり、「ラボオンチップ」プラットフォームの開発のための有望な代替手段です。多くの場合、液滴の動きは表面の濡れに依存しており、電界の印加に直接関連しています。しかし、表面の相互作用により、動きは液滴の内容に依存するため、この手法の適用範囲は限られます。
この依存性を最小限に抑えるために、いくつかの代替案が提示されています。しかし、液滴やその周辺に化学種を追加することで、液滴部分と相互作用する可能性があります。この課題に対処するために、私たちのグループは最近、追加の添加物なしでDMF内の細胞とタンパク質を輸送できるField-DWデバイスを開発しました。
ここでは、モーションコントロールのための電子インターフェースを含む、デバイスの製造と操作のためのプロトコルが提供されています。また、デバイスを使用した研究も続けており、多細胞の比較的大きなモデル生物も、デバイスの操作に必要な電場の影響を受けずに輸送できることを示しています。
液体を扱う装置の小型化は、「ラボオンチップ」のプラットフォームの開発のために最も重要である。この方向では、最後の二十年は、様々なアプリケーションで、マイクロフルイディクスの分野で大きな進歩を目撃した。1-5同封チャンネル(チャンネルマイクロフルイディクス)内の流体の輸送に対照的な、DMFは、電極のアレイ上の液滴を操作する。この技術の最も魅力的なメリットの一つは、流体を輸送するための可動部がないことで、動きを瞬時に電気信号をオフにすることによって停止される。
しかし、液滴の運動は、液滴の内容、ユニバーサル」ラボオンチップ」プラットフォームの確かに望ましくない特性に依存する。タンパク質や他の検体を含む液滴が移動不能になって、デバイス表面に固執する。間違いなく、これをDMFアプリケーションの適用範囲を広げるための主要な制限されている; 6-8不要な表面の汚れを最小にする選択肢は、潜在的に液滴コンテンツに影響を与える可能性が液滴またはその周囲に余分な化学種の添加を含む。
以前、我々のグループは、追加の添加剤(電界DW装置)なしで、DMF中の細胞およびタンパク質の輸送を可能にする装置を開発し9これは、液滴圧延を優先するデバイス·ジオメトリを有するキャンドルすす、10に基づいて、面を組み合わせることによって達成されたさらに、液滴表面相互作用を減少させる、液滴に上向きの力をもたらす。このアプローチでは、液滴の運動は、表面の濡れに関連付けられていない。11
以下に説明する詳細な方法の目的は、余分な添加剤を含まない、タンパク質、細胞、および生物全体を含む液滴を輸送することができるDMFデバイスを製造することである。フィールド-DWデバイスは、大部分が独立して液滴化学者の作業完全に制御プラットフォームへの道を開くRY。
ここでは、それを示す、本シミュレーションでは、デバイスの動作に必要な高電圧にもかかわらず、液滴の両端の電圧降下は、液滴内部bioanalytesにほとんど影響を示し、印加電圧のごく一部である。実際には、 線虫(C.エレガンス )、生物学の研究のさまざまな目的で使用線虫を用いた予備試験では、電圧が印加されるとワームが乱さ泳ぐことを示している。
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注:以下の手順では、実験室の安全ガイドラインは、必ず従わなければなりません。特に重要なのは、高電圧(> 500 V)および取り扱い化学物質を扱う安全である。
キャンドルすすと導電性基板の1.コーティング
2.コーティングでスート層の保護
注:スート層は非常に脆弱である、および保護のために被覆しなければならない。つの単純な代替案(メソッド1及び2)は、ここで提案されているが、より堅牢なプロトコルが現在開発中である。
3.上部電極の作製(Abdelgawad らから適応。12)
4.(図2の回路)電子インターフェース
5.液滴可視化と取扱い
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以前、我々は、DMF中のタンパク質の運動を可能にするためにフィールド-DWデバイスを使用している。特に、ウシ血清アルブミン(BSA)を有する液滴が以前に(添加剤なし)、他の著者によって報告されたものより2000倍高い濃度で移動することができる。これは滴と表面との間の相互作用の減少によるものであった; 図4は、蛍光標識したBSAを(。フレイレら参照実験の詳細については、9)を含む液滴を示しています。左側の最初の画像はススでコーティングされた表面の上に座って、液滴を示している。中央の、液滴圧延を生成するだけでなく、さらに表面との相互作用を減少させる、液滴に上向きの力を加える、電界の影響。のみ(ろうそく煤なし)フッ素系液体でコーティングされた表面であるDMF中で使用される一般的な代替案へのせん断コントラストを(右)に注意してください。下部コンタクトaの表面との強力な相互作用ngle、かなり頻繁に運動を妨げる。
ここでは、現在、より大きな生物を含む液滴を輸送する、これらのデバイスでテストを継続する(...
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プロトコルの最も重要なステップは、直接、液滴を動かすの成功に関連付けられている、スート層の保護である。スート層(上記の方法1)を金属化することは、製造の成功の100%に近いことができる。しかし、最大動作時間は約10分である。おそらく、小滴のフラクションは、金属層の貫通孔煤湿潤される。フッ素化液体とのスート層をコーティングすることは、最も簡単かつ最速の代替であり、最小のリソースを必要とするが、製造された基板の作業(20分以内)のわずか40-50% - とコーティングが均一ではない。実際には、スート層は、それは非常に脆弱であり、粘性フッ素系液体を容易に損害。現在、デバイスの動作時間を増加させるスート層を保護するために、より堅牢な代替案に取り組んでいる。しかしながら、一つの重要な側面は、表面への液滴の内容物の吸着である。以前は、9我々 は ATTタンパク質の量を定量化デバイスの動作中に表面に痛いと相関が継続運動およびウシ血清アルブミン(BSA)の減少した表面吸着の間に発見された。それにもかかわらず、生物付着は、複雑な問題であり、何人かの著者も、それが完全に効果を抑制することは不可能かもしれないことを...
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著者らは、競合する金銭的利益はないと宣言している。
私たちは、財政支援のためのLindback財団、博士アレクサンダー·シドレンコとエルザチュー実り議論や技術支援のために、そしてCと支援のための教授のロバート·スミスに感謝虫アッセイ 。
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| 名前 | 会社 | カタログ番号 | コメント |
|---|---|---|---|
| パラフィンキャンドル | 任意のパラフィンキャンドル | ||
| スパッタリングシステム | デントン真空、ムーレスタウン、ニュージャージー州 | スパッタコーター デスクV Auターゲットを装備。 | |
| 1-ドデカンチオール | Sigma-Aldrich | 471364 | |
| テフロン | デュポン | AF-1600 | |
| フッ素 FC-40 | シグマ-アルドリッチ | F9755 | フッ素化液体: テフロン AF 樹脂を Fluorinert FC-40 で 1:100 (w/w) 調製して、疎水性コーティングを作成します。 |
| グラフィックデザインソフト - Adobe Illustrator | Adobe Systems | 他のソフトウェアも使用される場合があります。 | |
| 銅ラミネート | デュポン | LF9110 | |
| レーザープリンター | ゼロックス | フェイザー 6360 または類似品 | 「リッチブラック」または「レジストレーションブラック」との互換性を確認してください(本文を参照)。 |
| 銅エッチング | 、トランセン、 | CE-100 | |
| 、パーフルオロアルコキシ(PFA)、フィルム | McMaster-Carr | 84955K22 | |
| ブレッドボード、 | Allied Electronics | 、70012450、または同様の | 10個のドライバーを組み立てるのに十分な大きさ。 |
| ユニバーサル回路基板 | Allied Electronics | 70219535または類似の | |
| コネクタ | Allied Electronics | 5145154-8または類似の | |
| 制御ボードおよび制御プログラム(LabViewソフトウェア) | National Instruments | NI-6229または類似の | |
| 高電圧アンプ | Trek | PZD700 | |
| コンデンサ CおよびC1、100 nF、60 V | Allied | ||
| トランジスタT、NPN | 連合 | ||
| ダイオードD、1N4007 | 連合 | ||
| リレー | 連合国 | ||
| 可視化システム | エドモンド・オプティクス | VZM 200i または類似 | システム倍率 24X – 96X.日立KP-D20B 1/2 in CCDカラーカメラと組み合わされています。 |
| レコーダー | Sony | GV-D1000 NTSCまたは同等品 | カメラとSビデオケーブルで接続します。 |
| シミュレーション | COMSOL Multiphysics | V. 4.4 |
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