UV 架橋性ヒドロゲルの処理添加剤の製造方式を開発しました。この戦略は、磁気に敏感であるコンポーネントの移動を含む統合デバイスを降伏独立したコンポーネントのアセンブリと同様に、微細加工ゲル構造の層によってアセンブリできます。
UV 架橋性ヒドロゲルの処理添加剤の製造方式を開発しました。この戦略は、磁気に敏感であるコンポーネントの移動を含む統合デバイスを降伏独立したコンポーネントのアセンブリと同様に、微細加工ゲル構造の層によってアセンブリできます。
ポリエチレング リコール (PEG)-ベースのゲルは人間の使用のために FDA によって承認されている生体適合性ヒドロゲル。典型的なペグ ベースのゲルがある単純なモノリシック アーキテクチャと組織エンジニア リング アプリケーションのための材料を足場として機能しばしば。高度な構造を作製して時間がかかる通常移動コンポーネントが含まれていません。このプロトコルでは、PEG 構造及び装置の簡便かつ迅速な微細加工では、フォトリソグラフィ法について説明します。この戦略は、層によってファッションの上に構築することにより 3 D 構造の迅速作製は、社内の開発試作段階を伴います。独立したコンポーネントを移動配置し、統合デバイスを形成するサポート構造に組み立てできます。これらの独立成分は磁気に敏感な超常磁性酸化鉄ナノ粒子を添加しました。この方法で内のコンポーネントの移動を行う外部の磁石を使用して試作したデバイスを作動することができます。したがって、この手法は、オンボード電源なしで機能することができる生体適合性ハイドロゲルから完全で構成され、作動の非接触法に対応する洗練された MEMS のようなデバイス (マイクロ マシン) 作製のためことができます。本稿では、これらのヒドロゲルを用いた MEMS のようなデバイスの微細加工のステップバイ ステップのメソッドと同様に、両方の作製セットアップの作製について説明します。
MEMS デバイスでは、医療機器の分野を中心に多数のアプリケーションを発見しました。追加された機能の多くを貸すし、これらのデバイスの小型化の性質がエックス1,としての使用に魅力的な2、3、頻繁にこれらのデバイスがある固有の安全性と生体適合性問題は、彼らが人間の体 (例えば金属、電池、等)4,5,6に有害なことができる材料で構成されます。PEG を用いたゲル液体腫れてポリマー ネットワーク、その生体適合性7,8による一部のティッシュ工学足場などのアプリケーションによく使用されています。ペグ ベースのゲルはまた人間9,,1011で使用するため FDA 承認されています。ただし、ハイドロゲルの素材性質上、彼らは簡単に耐えられない典型的なシリコン ベースの微細加工技術などの通常の製造プロセス。したがって、ハイドロゲル ベースの構成は通常簡単なモノリシック アーキテクチャに制限されます。ゲルの微細加工で現在の活動により、ミクロン サイズの機能と構造しかし、これらの構造が単層と単一材料12,13と不足コンポーネント14,15,16の移動の多い。
前の仕事で生体適合性 PEG ベース ハイドロゲル素材17完全で構成されるマイクロ マシンを製造するための戦略について述べる。ミクロン サイズの機能は、フォトリソグラフィ法を使用して簡単に作製することができます、これらの構造は、上向きに、ゲルの重合を基板の精密 z 軸移動により層によってメソッドを使用して構築できます。異なる組成のゲルは、互いに隣接して加工できます。さらに、これらのデバイスには、外部の磁石を使用して作動することができます移動のコンポーネントがあります。この汎用性の高い手法も柔らかい素材または写真重合性は、ハイドロゲルの処理に最適です。したがって、この手法はゲルだけから成る高度な MEMS のようなデバイスを製造するため最適です。
1. 成形工程
2. 作製 PDMS チャンバと、「ゼロ」のレベルを決定します。
3. フォトマスク設計ハイドロゲル微細構造の光重合
4. ゲルの付着を防止するガラス Coverslips の治療
5 ヒドロゲルの層によって層の作製: トップ シール層と下部構造をサポート
6. 組立・ ハイドロゲル ベースのデバイスを封止
7. 鉄酸化物ドーピング ハイドロゲル成分の
8. 組み立て装置の作動
注: 組み立てのデバイス内の鉄をドープしたコンポーネントは、ネオジム (N52 強度) などの強力な永久磁石を使用して移動する作動することができます。これらの磁石は強磁性体に非常に強く惹かれて、危険を摘心を避けるために注意してください。
図 3 bは、ゲル作製セットアップを用いて重合されたポリマーの層のイメージを示しています。図 3B(i) 加工 400 μ m 厚いベース層 600 μ m の開口部を示しています。図 3B(ii) 2 つをさらに示します基本レイヤーの上に階層化されたレイヤー500 μ m 背の高い境界と途中で 800 μ m 背の高い車軸。これらの 3 つの層の合計の作製時間は 4 秒露出の各レイヤーと下基板の高さとフォトマスクの配置を調整するのにかかる時間を考慮して 3 分足らずだった同じ捏造設定で実行の前の仕事は、デザインの様々 なを 100 μ m の高解像度で加工できますがについて説明します。
ハイドロゲル成分が酸化鉄ナノ粒子を簡単にドープするもことができます。ナノ粒子が完全に重合した酸化鉄をドープした PEGDA プレポリマーの薄層 (200 μ m) を確保するため露光時間を最適化しました。図 5 aは、重合する酸化鉄のセグメントの形状を定義するために使用するフォトマスクを示しています。非ドープ PEGDA プレポリマーは、紫外線暴露の 4 秒以内完全に重合することができます。ただし、酸化鉄添加プレポリマーが 4 秒間紫外線に晒されていたとき結果ハイドロゲルない完全に重合した、図 5で見ることができます。生成されたセグメントは、(図 5 bに示すの完全架橋セグメント) と比較して薄くなった、エッジはフォトマスクによって定義された図形と比較して侵害された忠実度でもなかった。10 秒の紫外線暴露する必要がある完全にクロス リンク酸化鉄セグメント、図 5 bが生成された酸化鉄セグメントを示しています。重合酸化鉄セグメントはストレート エッジを持つ完全な厚さ (200 μ m)、形状忠実な密接にフォトマスク (図 5 a) と比較して維持します。逆に、露出オーバー (> 15 秒) 紫外線重合された以上酸化鉄セグメントを生成します。図 5以上重合貧しい人々 の形状忠実度を持ち、フォトマスクによって定義された図形より大きいセグメントを示しています。
図 6Aは、アライメント マークにフォトマスクを用いて適切なアライメントと封止後完全なデバイスを示しています。デバイス内のギアは、磁気に敏感のでデバイスの中央のボイド内に完全です。図 6Bずれてシール層を持つデバイスを示しています。図 6はハイドロゲルと明らかに黒で縁取られたギヤの下の層を示し、図 6は、白の輪郭で明らかにトップのハイドロゲル層のずれのシールを示しています。図 6からわかるように、ギアの部分を重合、ハイドロゲル素材の大部分を固定されているギアの部分にシール (に示すように赤い塗りつぶし) 結果の中に場所を取る領域内で落ちる。これは、ギアが作動中に移動することを防ぎます。
図 7に示します作製した機能的な単一の装置 (製作時間 〜 15 分の合計)。デバイスの合計の厚さは 2 mm とデバイスの最長寸法は 13 mm。デバイスの上部と下部の層が 400 μ m 厚でギア、高さ 1 mm。この設計により、動きを許可するギアの上面と下面に 100 μ m のクリアランスのため。ほとんど上層部にデバイスが 600 μ m の開口部とギアの車軸は直径 400 μ m。図 5Bは、ギア、酸化鉄セグメント (i) から (vi) の位置の変更から観察することができます完全な回転を実行するようにそれは磁石で作動するとき、デバイスの画像を示しています。

図 1.ハイドロゲルを用いたマイクロ マシンの作製セットアップします。A) 試作段階の模式図。この回路図は、製造エリア内、ヒドロゲルを形成 PDMS チャンバ、真空対応ステージに柔軟な膜をつくと同様、PDMS チャンバを保持するなど作製セットアップのさまざまなコンポーネントを示しています、マイクロメータ ヘッド高さ制御及び頂部の基板は、未処理または PDMS をコーティングしたガラス基板から成る。B) 成形工程 (なし PDMS チャンバ) の平面図の模式図。UV 光源は、光の入射角が (図には表示されていません) 作製段階の水平面に垂直になるように配置します。この図の拡大版を表示するのにはここをクリックしてください。

図 2.単一のハイドロゲルを用いた装置と各レイヤーのフォトマスクのスケマティック。A) 回路のトップ- と斜視のこの戦略を使用して作製することができます典型的なハイドロゲル ベースのデバイス。このデバイスは、磁気制御鉄をドープしたセグメントが含まれる 1 つのギアで構成されています。B) 個々 のレイヤーとコンポーネント、デバイス内の模式図。このシングル歯車装置は、シール層 (i)、鉄をドープしたギアと壁のデバイス (ii) と同様、下部層 (iii) のためのポストのようなサポート構造上で構成されます。C) フォトマスク デザイン シングル ギア デバイスを作製するために使用します。フォトマスクが設計されたダーク フィールドです;必要な機能は、バック グラウンドが暗い透明な残っています。このパネルでは、レイヤー (i)、サポート構造 (ii)、シール下部層 (iii) 上に対応するフォトマスク設計を示しています。この図の拡大版を表示するのにはここをクリックしてください。

図 3.ハイドロゲルを用いたマイクロ マシンの層によってフォトリソグラフィ。A) PDMS チャンバの製作領域内のデバイス作製のためのステップバイ ステップのプロセスの概略図です。1: PDMS チャンバ (下部基板) の適用範囲が広い膜に結合したガラス基板上に PEGDA プレポリマーの少量を戻します。未処理ガラス カバーガラスの作品はトップの基板として使用され、フォトマスクは、この頂部の基板の上に置かれます。下部基板の高さは、高さ (Z1) マイクロメータ ヘッドを使用してもたらされます。ハイドロゲル プレポリマーは、フォトマスクを通して紫外線に公開されます。上の基板は、PDMS チャンバと (インセット) の上の基板に付着したままハイドロゲルを解除できます。この層は、後で使用するため、予約されています。2: ステップ 1 が繰り返されますが、頂部の基板は PDMS コーティング ガラスと置き換えられています。高分子ハイドロゲル下部基板を遵守ままになります。3: 下の基板の高さを低く (Z2> Z1)、もっとプレポリマーは製造エリアに追加できます。2 番目のフォトマスクが使用され、再びプレポリマーが紫外線にさらされています。4: 3 の手順を繰り返すことができます (Z3 > Z2) まで必要なサポート構造が作成されます。(i) サポート構造が完了したら、一度、前もって形成されたハイドロゲル コンポーネント (例えば鉄をドープしたギア) の導入のための製造所へのアクセスを許可する上の基板を削除できます。(ii) 一度、前もって形成されたコンポーネントを配置し、適切に配置されて、ステップ 1 からハイドロゲル層を作製した構造の上に配置し、整列できます。5: すべてのレイヤー、デバイスのエッジをシール フォトマスクを通して紫外線にさらされています。(内装部品、さらに紫外線露出からシールドされている間、i) シールの手順はデバイス全体をシールします。(ii) シールのデバイスは優先的に上部の基板を徹底すると、作製室を解除できます。この図の拡大版を表示するのにはここをクリックしてください。

図 4.ハイドロゲル成分の酸化鉄ナノ粒子がドーピングのための手順を実行します。(i) 紫外光は、ハイドロゲル ギア内の酸化鉄をドープしたセグメントを定義するフォトマスクを通して公開されます。酸化鉄をドープしたハイドロゲルの (ii) 薄膜 (200 μ m) 層は重合するたびに、互いの上にスタックします。(iii) 薄層の層は、1 mm の高さの合計でセグメントを作成します。このセグメントは、形成層に残っています。(iv) 非ドープ プレポリマーは作製領域に堆積し、架橋時にギアの完全な形状を定義するフォトマスクを使用し。これにより、酸化鉄をドープしたセグメントの完全なギアの形成。この図の拡大版を表示するのにはここをクリックしてください。

図 5.酸化鉄をドープしたハイドロゲル成分の光重合します。A) 酸化鉄ナノ粒子を添加する歯車のフォトマスク。最適されている B) 酸化鉄を添加したゲル重合 (10 秒露出)。下で重合 (4 s 露出) をされている C) 酸化鉄を添加したゲル。ずっと D) 酸化鉄を添加したゲルは過剰 (20 秒露出) を重合します。この図の拡大版を表示するのにはここをクリックしてください。

図 6.ハイドロゲルの配置層デバイスの封止中です。A) 無料移動をハイドロゲル層の適切な配置を示す画像のギアはデバイスのボイド内に完全。(B、C、および D は、同じデバイスが強調表示は異なるレイヤーに画像) ずれてハイドロゲル層 B) 画像表示装置。C) 同じは (B) のようにイメージが、黒で縁取られた底を解明するが正しく配置される層します。ギアは、下レイヤー内で正しく配置されます。(B) のように画像 D) と同じ、ハイドロゲルのずれの最上位のレイヤーを示す白の輪郭。ギアはシールのステップの間に部分的に重合されて、ギア (赤塗りつぶし) の部分は、デバイスのバルク材料に固定されています。これは非機能性デバイスをレンダリングします。この図の拡大版を表示するのにはここをクリックしてください。

図 7.シングル ギア ハイドロゲルを用いたマイクロ マシンの作動します。A) 試作したデバイスを示す画像。B) 画像の作動時にギアのさまざまな方向を示します。(その初期の向き (0 °)、i) から (ii) 60 °、(iii) 120 °、(iv) 180 °、(v) 240 ° 300 °、ギアが回転します。スケール バーは 1 mmこの図の拡大版を表示するのにはここをクリックしてください。

図 8.ハイドロゲルを用いたマイクロ マシンのための様々 なデザインの汎用性の高い作製。A) 単一の貯水池からの薬物の放出を制御する単純なゲート弁。酸化鉄をドープしたハイドロゲル成分の直線的な動きのゲートを通じて架空の薬剤を口の拡散。B) 複数の貯水池からの薬物の放出を制御するゲート線形マニホールド。各貯水池には、仮説的な薬と成分の酸化鉄をドープしたゲートの動きを外面にこれらの薬剤の拡散は、ハイドロゲルの窓からこれらの貯水池から薬の動きが含まれます。C) シンプルなローター軸について回転する作動することができます。D) ジュネーブ ドライブに基づく洗練されたデザイン。駆動歯車のピンが大きい駆動ギアを従事し、断続的な運動を生成することができます。駆動ギアの完全な回転は、駆動歯車を 60 ° 回転させます。すべてのスケール バーは、1 mm です。S. Y. ら添加のあごからハイドロゲルを用いた次世代の植込み型医療機器用材料の製造。科学ロボット。2 (2)、(2017)。AAAS17から許可を得て転載。この図の拡大版を表示するのにはここをクリックしてください。
この手法は、簡便かつ迅速なハイドロゲル微細構造の層によってフォトリソグラフィ法です。添加剤製造アプローチを使用して、簡単にさまざまな生体適合性材料の 3次元構造を構築し、可動部品を組み込むこともできます。これは従って完全に生体適合性マイクロ デバイスの形成を有効にします。技術はリソグラフィの手順、マイクロメータ ヘッドを介して下部基板の高さの正確なコントロールが有効になっている単純な繰り返しに基づいています。MEMS 産業で使用される伝統的な製法、過酷なを含む処理技術といけにえの素材は多くありません柔らかいゲルの加工に対応。押し出しベースのメソッドなどの 3 D 印刷ヒドロゲルの他の方法は 200 μ m 以上の空間解像度に限定され、印刷速度の移動部品18,19を含まない単純な構造体の mm/s の。光造形法 (SLA) および多分より良い解像度が、セットアップにも多く高価を達成するためにことができるデジタル光プロジェクト (DLP) ベースの bioprinters。これらの製造戦略は基板材料を紹介し、完成したデバイスから削除することは困難かもしれないのサポートがなければオーバー ハングを簡単に印刷することがも。我々 は、配置し、完成されたデバイスを形成する最後のステップとして作製した支持構造に前もって形成された封止層を重合してこれを回避します。捏造設定のデザイン作製構造にユーザーの簡単なアクセスを与えるし、さまざまなコンポーネント配置マークの使用に簡単に配置することができます。
ここで示した戦略はまた、同様の決議の他の技術よりもはるかに高速実証回転デバイス作製のためにかかった合計時間は、約 15 分です。別の追加もなくこのプロトコルで、私たち以前の仕事17に示すように、この作製方式の利点をユーザーのための能力をすぐには、少量で行うことができます手順間で使用されるポリマーの種類を簡単に変更.このように、ゲルの種類の複合材料は、デバイスを作成できます。この方法を用いて作製したデバイスは、ギアにギアを磁気に敏感なレンダリング、酸化鉄ナノ粒子を添加し、外部を使用してこうして作動することができますセグメントが含まれている非接触駆動の利点磁石です。また、デバイスは完全に生体親和性、したがって生体内で安全に注入があります。
この手法の重要な機能は、ユーザーが優先的に付着または下部または上部のガラス基板に高分子ハイドロゲルを撃退できるように別のガラス基板の治療です。PFOTS 処理したガラス表面 (下部基板) で未処理ガラスの組み合わせを使用すると、形成されたゲルが優先的に、準拠して未処理ガラスと PFOTS 処理ガラスのフッ素系表面から反発しています。逆に、PFOTS 扱われる下部基板で PDMS コーティング ガラスを使用すると、ゲルは PFOTS 処理表面のまま PDMS 表面はより強く形作られたヒドロゲルを撃退する傾向があります。この機能上向きを構築、彼らは、ガラス基板上に固定した時間の後の時点で他の構造体に配置用に使用できるやも下方を構築するようにゲルを付着することができます。これにより、作製することができますデザインの手法などの柔軟性を追加します、設立と独立した、自由移動ハイドロゲル成分でシール可能します。
層によって作製使用重合時間を最適化することが重要です。ゲルは、完全な厚さやフォトマスクで定義したシェイプと比較して高音質になるような最適架橋する必要があります。これはランプとゲル使用の種類の力に依存です。このプロトコルで示されていない、重合時間はランプ電力の増加と減少し、PEG 鎖長の増加、PEGDA 使用の減少と増加します。光重合、酸化鉄ナノ粒子 (図 4)、伴うプレポリマーの不透明度の変化などのために利用できるエネルギーの量に影響を与える他の要因はまた重合時間に影響を与えます。素子の作製プロセスの開始前に架橋ハイドロゲルの異なる組成の条件の最適化が必要です。
フォトマスクのアライメント マークの使用は、ハイドロゲル層、特に最終的な封止層、適切なアライメント、適切なシーリングを実行すると、内部のコンポーネントが誤ってに架橋はことを確認することが重要、製造プロセス中に周囲のサポート構造。これにより、これらのコンポーネントは、磁気駆動中自由に移動できなくなります。図 5に示すとおり、シール層とフォトマスクずれトップの架橋とデバイス自体のバルク材料にギアの部分の固定の結果します。その結果、磁石で作動させたとき、このギアは回転しません。
デバイスは、ネオジム磁石などの強力な永久磁石を使用して作動することができます。これらの磁石は強磁性材料に近距離で強力な磁力を生成および傷害を防ぐためには注意が必要があります。マグネット デバイスに接触せずに移動するデバイスを作動することができます。磁石を開催またはデバイスから ~ 1 cm で設置できます。鉄をドープしたコンポーネントの動きが磁石の動きをミラー化する必要がありますと、連続的に移動する作動または指向に応じて断続的にできます。デバイスを手動で作動することができます。 または作動セットアップを使用することができます。磁石は、回転運動する任意のアクチュエータ (サーボ モーターなど) に接続できます。磁石の回転速度、したがって鉄をドープしたコンポーネントの回転速度は、マイクロ コント ローラーを使用して制御が可能します。これは作動のより正確な方法を提供します。
図 8は、これと同じ技法を使用して試作を行い、この手法の汎用性を示す以前の作品から様々 なデザインのイメージと回路図を示します。複雑で洗練されたデザインにジュネーブ ドライブ デザイン (図 8) からインスピレーションを描く断続的な生成 2 の従事歯車の構成するバルブ (図 8 a) のように単純なデバイスからこれらのデザインの範囲運動。この手法を使用して生成することができます最小の機能は、通常、約 100 μ m とそれぞれのデザインは複数レイヤー (レイヤー 3 に 6) から成る。さまざまな種類 (異なる機械的強度と気孔率) ゲル組成物の重合し、互いに結合できます。したがって、1 つは簡単にデバイス内の別のコンポーネントの必要な機能に応じてデバイス内で使用するゲルの種類を組み合わせることができます。
著者がある何も開示するには
この作品は、NSF キャリア賞、NIH R01 グラント (HL095477-05)、および NSF ECCS 1509748 補助金によって支えられました。S.Y.C. は、科学、技術および研究 (シンガポール) の機関によって授与された国立科学奨学 (PhD)、によって支えられました。キース ・ イェーガーは、セットアップとデバイスの写真の捏造設定とサイラス ・ w ・ Beh を構築ヘルプを感謝いたします。
| 名前 | 会社 | カタログ番号 | コメント |
|---|---|---|---|
| ポリ(エチレングリコール)(n)ジアクリレート[MW 400Da] | Polysciences, Inc | 01871-250 | プレポリマー用PEGDA試薬 |
| Darocur 1173 | Ciba Specialty Chemicals, | Inc-Photoinitiator | |
| 酸化鉄(II、III) | Sigma Aldrich | 637106-25G | 酸化鉄ナノ粒子 |
| トリクロロ(1H,1H,2H,2H-パーフルオロオクチル)シラン | シグマ・アルドリッチ | 448931 | PDMSチャンバーの長期使用により、フレキシブルPDMS膜に接着されたガラスカバースリップにハイドロゲルが付着するのを防ぐために、PDMSチャンバーを蒸気化するために使用されるフッ素化化合物 |
| ペトリ皿、ガラス | シグマ・アルドリッチ | BR455743 | PDMSチャンバー |
| を形成するためのPDMS層を鋳造するためのガラスシャーレSylgard 184 シリコーンエラストマーキット (PDMS) | Dow Corning | 240-4019862 | 製造チャンバー用 |
| PDMS ガラスカバースリップ (No. 2)、50 x 45 mm | Fisher Scientific | FIS#12-543F | 製造チャンバーを覆うガラス基板 |
| Fisherbrand ストレートフラットチップ鉗子 4.75in | Fisher Scientific | FIS#16-100-112 | 重合ヒドロゲル層/デバイスを扱うためのピンセット |
| OmnicureS2000 | Cadence Technologies Pte Ltd | 010-00148R | UVランプ |
| 5 mm調整可能なコリメーションアダプター | Cadence Technologies Pte Ltd | 810-00042 | UV光源用コリメータ |
| フォトマスク | CAD/Art Services Inc | - | ハイドロゲル微細構造を定義するために使用されるフォトマスク |
| Adobe Illustrator | Adobe | - | フォトマスクの設計 |