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2011年9月12日
2011年9月12日
•細胞の生存率には影響されていない間の電界の向きは、パルス印加中に変更されたときにエレクトロポレーションによる遺伝子導入は、約2倍に向上しています。遺伝子導入の増加は、細胞へのDNAのエントリのための有能な作られている膜面積の増加によって引き起こされる。
Chapters in this video
0:01
タイトル
0:04
はじめに
0:58
実験のための細胞培養の準備
1:42
ハードウェア設備
3:31
画像取得および遺伝子エレクトロトランスファー効率の決定
2:09
遺伝子エレクトロトランスファープロトコル
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