Radio Frequency Magnetron Sputtering of GdBa2Cu3O7&#8722;&#948;/ La0.67Sr0.33MnO3 Quasi-bilayer Films on SrTiO3 (STO) Single-crystal Substrates

Ying Wang; Zhen Li; YongSheng Liu; Yijie Li; Linfei Liu; Da Xu; Xiaojing Luo; Tian Gao; Yanyan Zhu; Luozeng Zhou; Jianming Xu

doi:10.3791/58069

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Radio Frequency Magnetron Sputtering of GdBa₂Cu₃O₇₋_δ/ La_0.67Sr_0.33MnO₃ Quasi-bilayer Films on SrTiO₃ (STO) Single-crystal Substrates

高周波マグネトロンスパッタリングによる GdBa2Cu3O7−δ/チタン酸ストロンチウム3 (STO) 単結晶基板上 La0.67Sr0.33MnO3準二層フィルム

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April 12, 2019

DOI: 10.3791/58069-v

Ying Wang^1,2, Zhen Li^1,2, YongSheng Liu¹, Yijie Li², Linfei Liu², Da Xu², Xiaojing Luo¹, Tian Gao^1,3, Yanyan Zhu^1,4, Luozeng Zhou³, Jianming Xu³

¹Department of Physics, Mathematics, Shanghai Key Laboratory of Materials Protection and Advanced Materials in Electric Power,Shanghai University of Electric Power, ²Key Laboratory of Artificial Structure and Quantum Control, Ministry of Education, Department of Physics,Shanghai Jiao Tong University, ³Shanghai Institute of Space Power-sources, ⁴Shanghai Key Laboratory of High Temperature Superconductors,Shanghai University

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ここでは、LSMO ナノ粒子を成長するためのプロトコルを提案する、無線周波数 (RF) による単結晶基板 (001) チタン酸ストロンチウム₃ (STO) (Gd) BCO 膜のスパッタします。

この方法は、STO単結晶基板上にLSMOナノ粒子を均一に作成することができる。また、GBCOフィルムは同じ真空チャンバ内で同じ方法で得ることができる。この技術の主な利点は、同じ真空チャンバに均一なサイズと高品質の超伝導GBCOフィルムを持つLSMOナノ粒子が堆積できることです。

この方法は、膜堆積領域、ナノ粒子成長領域、エトセトラに関する洞察を提供することができる。また、金属膜蒸着、金属ナノ粒子蒸着、エトセトラに適用することもできる。この方法により、研究者は真空装置に精通し、フィルム成長技術について学ぶことができます。

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