アセトニ トリル中で環境に優しい転移エステルを介してエステルの合成

この実験の全体的な目標は、一般的なエステル化反応のためのより環境的な方法論を提供することです, 学術および産業用途でエストロゲン合成に有用な役立つ可能性があります.当社の方法は、カルボン酸を一次または二次アルコールまたはフェノールと結合させることによって、効率的かつ軽度のエステル合成に使用することができます。この技術の主な利点は、有害塩素化またはアミド反応溶媒の使用を排除し、反応速度や製品の純度を犠牲にすることなく、精製中の溶媒の無駄を最小限に抑えるということです。

この手順を実証するには、私の研究室の学部研究者であるアンドリュー・ルッチェンとマッケンジー・カークです。まず、トランスシンナミン酸、DMAP、EDCを50ミリリットルの丸底フラスコに組み合わせます。15ミリリットルのアセトニトリルを加え、98マイクロリットルの3-メトキシベンジルアルコールを磁気攪拌棒と共に混合物に加えます。

フラスコを摂氏40度の水浴にクランプし、反応をかき混ぜます。TLCによる反応をモニターし、酢酸エチルおよびヘキサンを用いた。反応が完了したら、ロータリーエバポレーターを用いて減圧下でアセトニトリルを除去し、粗固体を得る。

残渣に、ジエチルエーテルをそれぞれ20ミリリットル加え、塩酸を1モルずつ加える。フラスコを旋回して残留物を溶媒層に溶解させる。次に、セパレーター漏斗に溶液を注ぎます。

蒸発フラスコを5ミリリットルのジエチルエーテルですすいで、セパレート漏斗にリンスを加えます。セパレーター漏斗を軽く振ってエーテル層に製品を抽出し、定期的に通気します。層を分離させ、漏斗の底をエルレンマイヤーフラスコに排出して水性層を取り除きます。

セパリー漏斗に残っている有機層に、1モル塩酸の20ミリリットルを加え、セパレーターフラスコを穏やかに振り、定期的に通気する。層を分離し、漏斗の底からエルレンマイヤーフラスコに排出することによって水性層を除去します。飽和重炭酸ナトリウムと飽和塩化ナトリウムで洗浄手順を繰り返します。

洗浄手順を完了した後、セパネルから有機層をきれいなエルレンマイヤーフラスコに移します。硫酸マグネシウムで層を乾燥させます。次に、フィルターペーパーを通して溶液をマスクされた蒸発フラスコに重力でろ過します。

これに続いて、還元された圧力下でジエチルエーテル溶媒を除去し、ロータリーエバポレーターを使用する。重水素化クロロホルムにおける陽子と炭素NMR分光法、質量分析法により、製品のサンプルを分析します。50ミリリットルの丸底フラスコに、トランスシナミン酸、DMAP、EDCを組み合わせます。

混合物にアセトニトリル15ミリリットルとジフェニルメノール157ミリグラムを加え、磁気攪拌棒と一緒に加えます。フラスコをクランプし、室温で24時間反応をかき混ぜます。溶媒蒸発を最小限に抑えるために、フラスコネックに空気凝縮器を挿入します。

反応が完了したら、前述のように抽出作業と洗浄手順に従ってください。50ミリリットルの丸底フラスコに、デカン酸、DMAP、EDCを組み合わせます。混合物にアセトニトリル15ミリリットルと157ミリグラムのジテニルメタノールを加え、磁気攪拌棒と一緒に加えます。

フラスコをクランプし、室温で24時間反応をかき混ぜます。溶媒蒸発を最小限に抑えるために、フラスコネックに空気凝縮器を挿入します。反応が完了したら、前述のように抽出作業と洗浄手順に従ってください。

修飾ステグリッヒエステル化反応を用いて、3-メトキシベンジルシンナメートは、陽子および炭素NMR分光法によって確認されるように、カラムクロマトグラフィーを必要とせずに90%の収率で得られた。化合物9〜17は、同様のプロトコルを用いて合成し、77〜90%の化合物の収率をNMR分光法および高分解能質量分析法で分析し、NMR分析によって3-メトキシベンジルシンナメートと同様の純度であることが判明した。一次アルコールのプロトコルにわずかな変更が加えられた化合物12〜17の最適な収率と純度を得るために.

二次アルコール反応は、反応が完了するまでに行くように、より長く実行された。デカノ酸反応では、エステル化合物12および17に対して、カルボン酸の1.2当量を一次および二次アルコールの両方に対する1つの同等のアルコールに使用し、デカノ酸不純物を有するエステルを生じさせた。不純物問題は、少し長い反応時間でアルコールに対する1対1モル比を使用して解決した。

これらの条件は純粋なエステル生成物を生じ、プロトンNMRスペクトルにおいて100万分の2.35部で不純物シグナルの損失によって示された。他の有機合成法と同様に、化学物質の安全データシートを参照し、この手順を実行する際には適切な個人用保護具および設備を使用する必要があります。