ハイスループット極低温電子顕微鏡のための厚さ制御されたマイクロパターンチップの作製
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07:20 分
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2022年4月21日
DOI :10.3791/63739-v
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1Department of Biomedical-Chemical Engineering, The Catholic University of Korea, 2Department of Biotechnology, The Catholic University of Korea, 3School of Chemical and Biological Engineering, and Institute of Chemical Processes, Seoul National University, 4Center for Nanoparticle Research, Institute of Basic Science (IBS), 5Institute of Engineering Research, College of Engineering, Seoul National University, 6Advanced Institutes of Convergence Technology, Seoul National University
酸化グラフェン窓を備えたマイクロパターンチップを新たに開発し、マイクロエレクトロメカニカルシステム技術を適用して製造し、さまざまな生体分子やナノ材料の効率的で高スループットな極低温電子顕微鏡イメージングを可能にします。
Chapters in this video
0:04
Introduction
0:55
Pattern the Photoresist and Silicon Nitride‐Deposited Si Wafer (SixNy)
2:31
Etching the Si and Eliminating the KOH Etching Residues
3:21
Prepare the Micro‐Patterned SixNy and Eliminate the PR
4:25
Transfer Graphene Oxide (GO) by the Drop‐Casting Method
5:30
Results: Analysis of the Micro‐Patterned Chip with GO Windows
6:35
Conclusion
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