10.4

반도체의 기초

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캐리어 생성은 반도체 내에서 전자-정공 쌍(EHP)이 생성되는 과정입니다. 갈륨비소(GaAs)와 같은 직접 띠틈 반도체에서 이는 에너지 흡수로 인해 원자가 전자가 전도대로 도약하여 정공을 남길 때 효율적으로 발생합니다.

이 과정은 생성율 G로 주어지며 가전자대 최대값과…