콜로이드 상태

콜로이드 시스템은 분산 매체 또는 연속상이라 불리는 매질에 미세한 입자들이 분산된 것을 포함합니다.

예를 들어, 염화나트륨 용액을 질산은 용액에 첨가하면, 생성된 염화은은 미세한 결정체를 형성하여 여과 가능한 침전물이 아닌 콜로이드 시스템을 만듭니다.

이 콜로이드 입자 또는 분산상은 분산 매질 내에서 고체, 액체 또는 기체 상태로 존재할 수 있습니다.

예를 들어, 솔은 액체 또는 고체 분산 매질을 가지고, 에어로졸은 가스 분산 매질을 가집니다. 폼은 액체 또는 고체 분산 매체를 포함합니다. 유제와 콜로이드 현탁액은 액체 분산 매체를 가집니다.

용암 친화적 또는 용매를 좋아하는 콜로이드 시스템은 강한 용매-용질 상호작용으로 인해 열역학적으로 안정적입니다. 이들은 분산 매질 내 콜로이드 입자의 건조 벌크 물질에서 자발적으로 형성됩니다.

하지만 용암 소포성 또는 용매 혐오 콜로이드는 열역학적으로 불안정하여 안정화를 위해 흡착 이온의 존재가 필요할 수 있습니다.

입자가 10³ Å 이상의 콜로이드 현탁액은 결국 중력에 의해 가라앉아 퇴적(sdimentation)이라 불리는 과정을 통해 비콜로이드 현탁액을 형성합니다.