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방법 논문

원적외선 레이저 방출 및 그들의 주파수의 측정을 특성화

11.7K 조회수

⸱

DOI:

10.3791/53399

⸱

2015년 12월 18일

 , 

이 논문에서

요약

우리는 헤테로다인 기술을 사용한 주파수 측정과 함께 광학적으로 펌핑된 분자 레이저를 사용하여 원적외선을 생성하는 방법을 설명합니다. 실험 시스템과 기술은 디플루오로메탄(CH2, F2)을 레이저 매체로 사용하여 시연되며, 그 결과에는 3개의 새로운 레이저 방출과 8개의 측정된 레이저 주파수가 포함됩니다.

초록

발생 및 원적외선의 후속 측정은 고해상도 분광법, 전파 천문 및 테라 헤르츠 촬상 수많은 응용을 발견했다. 약 45 년 동안, 코 히어 런트, 원적외선 방사의 생성은 광 펌핑 레이저를 이용하여 분자 달성되었다. 원적외선 레이저 방사선이 검출되면,이 레이저 방출 주파수는 세 레이저 헤테로 다인 기법을 사용하여 측정된다. 이 기술에 의해, 광학적으로 펌핑 된 분자 레이저로부터 알 두 주파수 안정화 적외선 기준 주파수 간의 차이 주파수와 혼합된다. 이 기준 주파수는 독립적 이산화탄소 레이저에 의해 생성 된 각각 외부 저압 기준 셀로부터의 형광 신호를 이용하여 안정화. 알려 지거나 알려지지 않은 레이저 주파수 사이 결과 비트는 그 출력 스펙에 관찰되는 금속 - 절연체 - 금속 점 접촉 다이오드 검출기에 의해 모니터링된다TRUM 분석기. 이러한 레이저 배출량 간의 비트 주파수는이어서 측정 알려지지 원적외선 레이저 주파수를 추정하기 위해 공지 된 기준 주파수와 결합된다. 이 방법으로 측정 레이저 주파수 수득 한 시그마 분수 불확실성 정확하게 원적외선 레이저 방출의 주파수를 결정하는 단계를 포함한다. 107에서 ± 5 중량 부이다들은 종종 다른 측정 기준으로서 사용되는 바와 같이 높은 같이 중요 레이저 자기 공명을 이용하여 자유 라디칼 -resolution 분광 조사. 이 조사, 디 플루오로 메탄, CH 2 F 2의 일부로서, 원적외선 레이저 매체로서 사용 하였다. 모두에서, 여덟 원적외선 레이저 주파수는 0.359에서 1.273 테라 헤르츠 주파수 범위와 처음으로 측정 하였다. 이러한 레이저 방출의 세이 조사 중에 발견되었고 CO 2에 대하여 최적의 작동 압력, 분극보고

서론

원적외선 레이저 주파수의 측정은 제 Hocker 수행하고 1967 년 동료들은 마이크로파 신호의 고차 고조파들을 혼합하여 직접 방전 시안화 수소 레이저로부터의 311 및 337 μm의 배출을위한 주파수를 측정했다 실리콘 다이오드 (1). 더 높은 주파수를 측정하기 위해, 레이저 및 고조파 혼합 장치의 체인은 레이저 2 고조파를 생성하기 위해 사용되었다. 결국 두 레이저는 필요한 차이가 어떤 주파수 합성 3,4-을 위해 선택되었다 (CO 2) 이산화탄소를 안정화. 오늘날, 4 테라 헤르츠까지 원적외선 레이저 주파수가 두 생성 차 주파수의 1 차 고주파를 이용하여이 기술로 측정 할 수는 CO 2 기준 레이저 안정화. 고주파 레이저 방출은 또한 메탄올 isotopologues CHD의 2 내지 9 테라 헤르츠 방출 레이저, 제 2 고조파를 사용하여 측정 할 수 OH 및 CH 3 18 OH. 수년에 걸쳐 5,6, 레이저 주파수의 정확한 측정은 과학 실험 7,8의 숫자를 영향과 파리에서 도량형 총회에 의해 미터의 새로운 정의의 채택을 허용했다 1983 년 9-11

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프로토콜

실험 1. 계획

  1. 이 실험에서 F 2 CH 2 관심 레이저 매질을 사용하여 수행 이전 작업을 평가 문헌의 조사를 실시. 이러한 자신의 파장과 주파수로 라인에 관한 모든 정보와 함께 모든 알려진 레이저 배출량을 확인합니다. 37 - 알려진 레이저 배출량의 여러 조사 13,31 사용할 수 있습니다.
  2. 종래 푸리에에 초점을 맞춘 레이저 매질로서 사용 분자의 모든 분광 조사 34과 연구 38, 39 광 음향 변환 컴파일.

2. 생성 원적외선 레이저 방출

  1. 안전 개요.
    1. CO 2 원적외선 레이저 시스템을 사용하는 경우에 적절한 눈 보호를 포함하는 랩의 표준 작업 절차를 개발한다.
  2. 정렬 및 교정.
    1. 각각의 CO 2 패 보정ASER는 제조사의 프로토콜에 따라 CO 2 레이저 위해 설계된 격자 기반 스펙트럼 분석기를 사용.
    2. 엔드 미러 및 그 방사선이 MIM 다이오드 검출기 상에 집중되도록 He-Ne....

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결과

언급 한 바와 같이, 원적외선 레이저 발광보고 빈도는 CO 2 기준 레이저 라인의 적어도 두 개의 상이한 세트로 수행 적어도 열두 측정의 평균이다. 표 2는 사용시 235.5 ㎛의 레이저 발광을 위해 기록 된 데이터를 설명 9 P 04 CO 2 펌프 레이저. 이 원적외선 레이저 발광을 위해, 비트 주파수의 열네 개별 측정을 기록 하였다. R 9 10 38 9 P CO 2 기준 레이져 배출을 사용하면서 측정의 제 1 세트의 기록 하였다. 원적외선 레이저 주파수가 약간 증가되었을 때 단계 3.4.5 들어, 비트 주파수는 증가하는 것으로 관찰되었다. 이것은 원적외선 레이저 주파수 간의 차이 주파수의 크기보다 큰 나타내는 R 9 10 38 9 P CO 2 기준 레이저 | ν CO2 (I) -ν CO2 (II).......

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토론

몇 가지 추가 논의를 필요로하는 프로토콜 내에서 몇 가지 중요한 단계가 있습니다. 원적외선 레이저 파장을 측정 할 때 단계 2.5.3에서 설명 된 바와 같이, 이는 사용되는 원적외선 레이저 발광의 동일한 모드를 보장하는 것이 중요하다. , 원적외선 레이저 파장의 여러 가지 모드 (즉, TEM 00 등 TEM 01) 레이저 공동 내에 생성 될 수 있고, 따라서, 해당 인접 캐비티 모드 파장 13,29을 측정하는 데 사용되는 것을 확인하는 것이 중요 (41). 고차 모드를 제거하는데 도움을주기 위해 창포 각 레이저 캐비티 내에 포함된다. 정확하게 원적외선 레이저 주파수를 측정 할 때, (TEM 00) 모드 레이저, 특히 CO 2 기준 레이저, 그들의 기본적인 동작에 필수적이다. 창포 또한 대칭 스펙트럼 분석기에 원적외선 레이저에 의해 추적 된 패턴을 확인하기 위해 사용된다. 상황.......

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공개 사항

이해를 촉진하기 위해 이 백서에서 특정 상용 장비를 식별합니다. 이러한 식별은 저자의 추천이나 보증을 의미하지 않으며 식별된 장비가 반드시 목적에 가장 적합하다는 것을 의미하지도 않습니다.

감사의 글

이 작업은 Award NNX10AK64H에 따라 Washington Space Grant Consortium의 일부 지원을 받았습니다.

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재료

이 논문에 사용된 재료 목록
이름회사카탈로그 번호댓글
진공 펌프LeyboldTrivac D4AHE-175 오일; 수량 = 3
진공 펌프LeyboldTrivac D8B 또는 D16BFomblin 유체; 수량 = 각
진공 펌프LeyboldTrivac D25BHE-175 오일 1개; 수량 =
1 광학 초퍼와 컨트롤러Stanford Research SystemsSR540
Lock-in 증폭기Stanford Research SystemsSR830
스펙트럼 분석기AgilentE4407BESA-E 시리즈, 9 kHz to 26.5 GHz 스펙트럼 분석기
증폭기;MiteqAFS-44는 2GHz에서 18GHz 사이의 신호 증폭을 제공합니다. 증폭기는 Hewlett Packard 삼중 출력 DC 전원 공급 장치(모델 E3630A)에 의해 전원이 공급됩니다.
증폭기 AvantekAWL-1200B1.2GHz 미만의 신호 증폭을 제공합니다.
전원 공급 장치Hewlett PackardE3630A증폭기용 저전압 DC 전원 공급 장치.
전원 공급장치 GlassmanKL 시리즈CO2 레이저용 고전압 전원 공급 장치; 수량 = 2; 음극
전원 공급 장치Fluke412BNIST 비대칭 HV 앰프
검출기Judson Infrared IncJ10D광 셀용; 수량 = 2
CO2 레이저 스펙트럼 분석기광학 공학 16-A현재 Macken Instruments Inc.에서 판매하고 있습니다.
을 사용한 열화상 플레이트 주로 CO2 기준 레이저를 정렬하는 데 사용됩니다. 현재 Macken Instruments Inc.에서 판매하고 있습니다.
저항기Ohmite L225J100K100kW, 225W. 각 안정기 시스템에는 4-6개의 저항이 사용됩니다. 각 CO2 레이저에는 자체 안정기 시스템이 있습니다. 팬은 저항을 냉각하는 데 사용됩니다.
HV 릴레이, SPDTCII TechnologiesH-17수량 = 3; 각 CO2 레이저 증폭기에 하나씩
 Princeton Applied ResearchPAR 113형광 세포와 함께 사용됩니다. 수량 = 2
오실로스코프Tektronix2235A유사한 모델도 사용됩니다. 수량 = 2
오실로스코프/차동 증폭기Tektronix7903 오실로스코프 7A22 차동 증폭기
파워 미터 센서Coherent20010 W 이하 사용 가능  이것은 그림 2에 표시된 파워 미터입니다.
센서가 있는 파워 미터Scientech, IncVector S31030W 미만 사용의 경우
멀티미터Fluke73III유사한 모델도 사용됩니다. 수량 = 3
데이터 수집NI9223 입력 모듈이 있는 National Instruments NI cDAQ 9174 섀시
Simichrome PolishHappich GmbHPolish를 사용합니다. 니켈 베이스는 연마 직후에 사용할 수 있지만 일반적으로 12시간의 리드 타임이 권장됩니다.
압력 게이지Wallace and Tiernan61C-1D-0050시리즈 300;CO2 레이저용; 수량 = 3
컨트롤러가있는 압력 게이지Granville PhillipsSeries 375원적외선 레이저 용
지르코늄 산화물 펠트Zircar 지르코니아ZYF 펠트빔 스톱으로 사용
코늄 산화물 보드Zircar 지르코니아ZYZ-3 보드빔 스톱으로 사용; 수량 = 4
테플론 시트Scientific Commodities, IncBB96312-12481/32 인치 두께; 원적외선 레이저 출력창에 사용
폴리프로필렌C-Line 시트 보호기61003원적외선 레이저 출력창에 사용
진공 그리스Apiezon
전원 공급장치 KepcoNTC 2000PZT 전원 공급 장치
PZT 튜브Morgan Advanced Materials길이 1인치, 외경 1인치, 두께 0.062인치, 역극성(외부 양극); 수량 = 3
ZnSe (AR 코팅)II-VI IncCO2 레이저 창 (수량 = 3), 렌즈 및 빔 스플리터(수량 3)
NaCl 창Edmond Optics수량 = 1
CaF 창Edmond Optics수량 = 2
레이저 미러 및 격자Hyperfine, Inc금 코팅; 포지셔닝 미러 포함
유리 레이저 튜브 및 참조 셀Allen Scientific Glass
MIM 다이오드 검출기Custom Microwave, Inc
기타재료에는 자기베이스, 베이스 플레이트, 베이스 클램프, XYZ 변환 스테이지 등이 포함됩니다.
와 함께 사용되는 고전압 전원 공급 장치 형자외선 광학 공학MIM 다이오드 검출기에 사용되는 니켈 베이스에 LabVIEW 소프트웨어 지르

참고문헌

  1. Hocker, L. O., Javan, A., Ramachandra Rao, D., Frenkel, L., Sullivan, T. Absolute frequency measurement and spectroscopy of gas laser transitions in the far infrared. Appl. Phys. Lett. 10 (5), 147-149 (1967).
  2. Wells, J. S., Evenson, K. M., Day, G. W., Halford, D. Role of inf....

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